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觸控面板及其制造方法

文檔序號(hào):6433065閱讀:212來(lái)源:國(guó)知局
專(zhuān)利名稱:觸控面板及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種觸控面板及其制造方法,尤其是關(guān)于一種電容式觸控面板及其制造方法。
背景技術(shù)
觸控面板是一種板狀結(jié)構(gòu)物,通常結(jié)合液晶顯示屏幕而配置于電子觸控裝置中。請(qǐng)合并參閱圖I及圖2,其中,圖I是傳統(tǒng)觸控面板制法的流程方塊圖,圖2是傳統(tǒng)觸控面板的剖面示意圖。步驟SI :布設(shè)一不透光的遮蔽層500于一基板100的周邊區(qū)120上;·
步驟S2 :布設(shè)一電極層200于該基板100上,該電極層200包括直接形成在基板100的觸控區(qū)110的感應(yīng)電極202和形成在遮蔽層500上的搭接電極201 ;步驟S3 :布設(shè)一線路層400于該遮蔽層500,該線路層400與電極層200的搭接電極201電性連接,進(jìn)而傳遞感應(yīng)電極202所感測(cè)的觸控訊號(hào)至外部電路(未繪示)。依據(jù)上述步驟,依序在基板100上布設(shè)遮蔽層500、電極層200及線路層400,進(jìn)而形成觸控面板。然而,由于在上述制造程序中,遮蔽層500早于電極層200先形成,而電極層200在步驟S2后必須進(jìn)行高溫烘烤,而使得先在步驟SI形成的遮蔽層500亦須進(jìn)行高溫烘烤,但經(jīng)高溫烘烤后的遮蔽層500在絕緣性上容易發(fā)生變化,使該遮蔽層500的絕緣性減低,造成各條周邊線路相互導(dǎo)通,而使觸控面板無(wú)法正常工作,另外,也由于遮蔽層500本身形成時(shí)存在一定的厚度,因此搭接電極201與感應(yīng)電極202之間在串連時(shí)會(huì)形成一高度差,造成電極層200的電阻阻值發(fā)生浮動(dòng),影響觸控檢測(cè)的準(zhǔn)確度。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種觸控面板及其制造方法,通過(guò)改變布設(shè)電極的順序,解決遮蔽層的絕緣性減低及電極層中電極的電阻阻值發(fā)生浮動(dòng)的問(wèn)題。該觸控面板的制造方法,包括先布設(shè)一電極層自一基板的觸控區(qū)延伸一搭接電極至該基板的周邊區(qū),通過(guò)該搭接電極將觸控區(qū)的電信號(hào)傳遞到外部控制電路,其中該周邊區(qū)圍繞于該觸控區(qū)周邊,再布設(shè)一絕緣層于該基板的周邊區(qū)上以形成一遮蔽層,其中該遮蔽層覆蓋位于周邊區(qū)的該搭接電極。由于所述電極層布設(shè)在基板上時(shí)并沒(méi)有絕緣層的遮擋,因此所述搭接電極與觸控區(qū)的電極層是坐落在基板上相同的層位而不存在高度差,能夠避免所述電極的電阻阻值發(fā)生浮動(dòng),以維持觸控檢測(cè)的準(zhǔn)確度。再者,由于上述制造方法是在基板上先布設(shè)電極層,而后再布設(shè)絕緣層而形成位于該周邊區(qū)上的遮蔽層,使得電極層早于遮蔽層先形成,而在電極層形成后慣行的高溫烘烤作業(yè)中,排除遮蔽層須同時(shí)接受高溫烘烤的問(wèn)題,利于維持該遮蔽層的絕緣性。其中,在一具體實(shí)施上
在周邊區(qū)形成該搭接電極的同時(shí),更包括在觸控區(qū)布設(shè)該電極層以形成一感應(yīng)電極。該感應(yīng)電極包括復(fù)數(shù)個(gè)串接電極,是沿一第一極軸方向分布;一極軌,形成于該串接電極之間且電性連接所述串接電極;以及復(fù)數(shù)個(gè)獨(dú)立電極,相互絕緣且間隔分布于該極軌雙側(cè),是沿一第二極軸方向分布。在周邊區(qū)形成該搭接電極的步驟中,包括延伸該獨(dú)立電極與串接電極至該周邊區(qū)內(nèi)以形成一第一搭接電極第二搭接電極。更包括該遮蔽層覆蓋該搭接電極及在該搭接電極上形成一排除該遮蔽層的線孔,更詳細(xì)而言,該遮蔽層覆蓋該第一搭接電極與第二搭接電極;以及分別在該第一搭接電極與第二搭接電極上形成一排除該遮蔽層的線孔。在周邊區(qū)形成該遮蔽層的步驟中,包括同時(shí)在觸控區(qū)布設(shè)該絕緣層覆蓋位于該感應(yīng)電極的極軌上以形成一絕緣橋。由于該絕緣橋與遮蔽層是由絕緣層同時(shí)布設(shè)形成,而無(wú)需分別單獨(dú)布設(shè)該絕緣橋與遮蔽層,從而達(dá)到簡(jiǎn)化制程的目的,且是在布設(shè)該電極層之后才實(shí)施布設(shè),因此該絕緣橋也不會(huì)遭受電極層形成后慣行的高溫烘烤作業(yè)的影響,而利于維持該絕緣橋的絕緣性。此外,更包括布設(shè)一線路層于該遮蔽層上以形成一主導(dǎo)線,該主導(dǎo)線電性連接該搭接電極,并同時(shí)布設(shè)該線路層于該絕緣橋上以形成一橋接導(dǎo)線。其中該橋接導(dǎo)線電性連接該極軌雙側(cè)的獨(dú)立電極,而該主導(dǎo)線通過(guò)在搭接電極上的線孔電性連接該搭接電極,更詳細(xì)而言,該主導(dǎo)線包括第一導(dǎo)線與一第二導(dǎo)線,該第一導(dǎo)線經(jīng)由該第一搭接電極上的線孔而電性連接該獨(dú)立電極,該第二導(dǎo)線經(jīng)由該第二搭接電極上的線孔而電性連接該串接電極。由于上述遮蔽層及絕緣橋的絕緣性皆能受到有效的維持,因此有助于避免線路層中的線路相互導(dǎo)通。
在另一具體實(shí)施中,該基板上更包含一預(yù)設(shè)于該周邊區(qū)內(nèi)的圖像操作區(qū)(iconarea),該制造方法更包括在形成該搭接電極與該感應(yīng)電極的步驟中,同時(shí)布設(shè)該電極層以形成一獨(dú)立端極、一獨(dú)立子極以及由該串接電極延伸至該圖像操作區(qū)的一串接子極與一子極軌,其中該串接子極與串接電極之間是由該子極軌電性串接,且該子極軌雙側(cè)間隔形成有相互絕緣的獨(dú)立端極與獨(dú)立子極。其中在形成該遮蔽層的步驟中,同時(shí)使該遮蔽層的覆蓋范圍包含該圖像操作區(qū),以覆蓋該獨(dú)立端極、獨(dú)立子極、串接子極及子極軌,該獨(dú)立端極與該獨(dú)立子極分別顯露出一排除該遮蔽層的子線孔,該獨(dú)立端極另顯露出一排除該遮蔽層的端線孔。更包括同時(shí)布設(shè)一線路層于該遮蔽層上形成一橋接子線與一搭接子線,其中該橋接子線在該圖像操作區(qū)中形成以經(jīng)由子線孔電性橋接該獨(dú)立端極與該獨(dú)立子極,而該搭接子線經(jīng)由該端線孔電性連接該獨(dú)立端極。基于上述,能夠在電極層、絕緣層及線路層的制造程序中同步布設(shè)形成該圖像操作區(qū)的觸控結(jié)構(gòu),使該圖像操作區(qū)內(nèi),同時(shí)具備維持絕緣層的絕緣性、避免電極層的電極阻值發(fā)生浮動(dòng)、以及避免線路層中的線路相互導(dǎo)通的效用。依據(jù)上述制造方法,可制成一種觸控面板,包括一搭接電極,由一電極層布設(shè)而成,自一基板的觸控區(qū)延伸至該基板的周邊區(qū),通過(guò)該搭接電極將觸控區(qū)的電信號(hào)傳遞到外部控制電路,其中該周邊區(qū)圍繞于該觸控區(qū)周邊;以及
一遮蔽層,由一絕緣層布設(shè)而成,設(shè)置于該基板的周邊區(qū)且覆蓋位于周邊區(qū)的該搭接電極。其中更包括一線路層,該線路層形成若干條主導(dǎo)線,布設(shè)于該遮蔽層上,該主導(dǎo)線電性連接該搭接電極,更確切而言,該主導(dǎo)線是通過(guò)該搭接電極上形成的一排除該遮蔽層的線孔而電性連接該搭接電極。更包括一感應(yīng)電極,設(shè)置于該觸控區(qū)且由該電極層布設(shè)而成。該感應(yīng)電極包括復(fù)數(shù)個(gè)串接電極,是沿一第一極軸方向分布;一極軌,設(shè)置于該串接電極之間且電性連接該串接電極;以及復(fù)個(gè)獨(dú)立電極,相互絕緣且間隔分布于該極軌雙側(cè),是沿一第二極軸方向分布。該搭接電極包括一第一搭接電極,由該獨(dú)立電極延伸至該周邊區(qū)內(nèi)形成;以及一第二搭接電極,由該串接電極延伸至該周邊區(qū)內(nèi)形成。該第一與第二搭接電極是被該遮蔽層所覆蓋,且分別在該第一與第二搭接電極上形成一排除該遮蔽層的線孔。更包括一絕緣橋,由該絕緣層所布設(shè)形成,且設(shè)置于該感應(yīng)電極的極軌上。此外,更包括一主導(dǎo)線,設(shè)置于周邊區(qū)的遮蔽層上且由一線路層所形成;以及一橋接導(dǎo)線,設(shè)置于觸控區(qū)的絕緣橋上且由該線路層所形成。其中該橋接導(dǎo)線電性連接該極軌雙側(cè)的獨(dú)立電極,而該主導(dǎo)線包括一第一導(dǎo)線與一第二導(dǎo)線,該第一導(dǎo)線經(jīng)由該第一搭接電極上的線孔而電性連接該獨(dú)立電極,該第二導(dǎo)線經(jīng)由該第二搭接電極上的線孔而電性連接該串接電極。在另一具體實(shí)施中,該基板上更包含一預(yù)設(shè)于該周邊區(qū)內(nèi)的圖像操作區(qū),在該圖像操作區(qū)包括由該電極層所形成的一獨(dú)立端極、一獨(dú)立子極以及由該串接電極延伸至該圖像操作區(qū)的一串接子極與一子極軌,其中該串接子極與串接電極之間是由該子極軌電性串接,且該子極軌雙側(cè)間隔形成有相互絕緣的獨(dú)立端極與獨(dú)立子極。其中該遮蔽層的覆蓋范圍包含該圖像操作區(qū),以覆蓋該獨(dú)立端極、獨(dú)立子極、串接子極及子極軌,該獨(dú)立端極與該獨(dú)立子極分別顯露出一排除該遮蔽層的子線孔,該獨(dú)立端極另顯露出一排除該遮蔽層的端線孔。更包括一橋接子線,由一線路層所形成且設(shè)置在該圖像操作區(qū)的遮蔽層上,經(jīng)由該子線孔電性橋接該獨(dú)立端極與該獨(dú)立子極;以及一搭接子線,由該線路層所形成且設(shè)置于周邊區(qū)的遮蔽層上,經(jīng)由該端線孔電性連接該獨(dú)立端極?;谏鲜?,本發(fā)明觸控面板,包括在觸控區(qū)、周邊區(qū)、圖像操作區(qū)中的觸控結(jié)構(gòu),皆具有維持絕緣層中遮蔽層與絕緣橋的絕緣性、避免電極層中電極阻值發(fā)生浮動(dòng)、以及避免線路層中的線路相互導(dǎo)通的效用。


圖I是傳統(tǒng)觸控面板的制法流程方塊圖。圖2是傳統(tǒng)觸控面板的剖示圖。圖3是本發(fā)明制造方法的流程方塊圖。圖4(a)至圖4(c)是依據(jù)圖3方法逐一揭示本發(fā)明結(jié)構(gòu)在布設(shè)程序中的剖示圖。
圖5至圖7是逐一對(duì)照?qǐng)D4(a)至圖4(c)所示結(jié)構(gòu)的平面仰視圖。圖8至圖10是依據(jù)圖3方法逐一揭示本發(fā)明具有圖像操作區(qū)之觸控面板的平面仰視圖。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖與具體實(shí)施方式
對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)描述。
<實(shí)施例一 >鑒于實(shí)施本發(fā)明觸控面板的制造方法,特別關(guān)于一種電容式觸控面板的制造方法,請(qǐng)合并參閱圖3至圖7 ;其中,圖3揭示本發(fā)明制造方法的流程方塊圖,圖4(a)至圖4(c)是依據(jù)圖3制法揭示本發(fā)明觸控面板在布設(shè)程序中的剖示圖,圖5至圖7是逐一對(duì)照?qǐng)D4(a)至圖4(c)所示結(jié)構(gòu)的平面仰視圖。該觸控面板的制造方法,包括步驟S10,先布設(shè)一電極層40自一基板10的觸控區(qū)11延伸一搭接電極21至該基板10的周邊區(qū)12,通過(guò)該搭接電極21將觸控區(qū)11的電信號(hào)傳遞到外部控制電路,其中該周邊區(qū)12圍繞于該觸控區(qū)11周邊,再在步驟S20,布設(shè)一絕緣層30于該基板10的周邊區(qū)12上以形成一遮蔽層31,其中該遮蔽層31覆蓋位于周邊區(qū)12的該搭接電極21。進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明,本實(shí)施例中,更包括在步驟S30,形成一線路層40于該絕緣層30上。該具體制造步驟將詳細(xì)說(shuō)明如下上述的基板10是選用一利于手指觸摸且透光性佳的玻璃、透明鏡片或透明的鈍化(passivation)材料作成,而在該基板10上預(yù)設(shè)一觸控區(qū)11,該觸控區(qū)11可以具備有矩形、弧圈形、圓圈形或格網(wǎng)形等二維形體的透光面域,并且該觸控區(qū)11的面域范圍小于該基板10,使觸控區(qū)11周邊的基板10上得以預(yù)設(shè)出一周邊區(qū)12,而使周邊區(qū)12圍繞于觸控區(qū)11的周邊。步驟SlO所布設(shè)的電極層20位于該觸控區(qū)11面域范圍內(nèi)的基板10上,該電極層20并同時(shí)延伸形成若干個(gè)搭接電極21至該基板10的周邊區(qū)12。其中在周邊區(qū)12形成該搭接電極21的同時(shí),更包括在觸控區(qū)11布設(shè)該電極層20以形成感應(yīng)電極22,使搭接電極21與感應(yīng)電極22在同一道電極層20的布設(shè)程序中同時(shí)完成。該電極層20的布設(shè)方式,可采用低溫濺鍍用的銦錫氧化物為材料,并以該基板10為靶材,經(jīng)該傳統(tǒng)低溫濺鍍(30-40°C)的布設(shè)手段,而在該基板10上形成一氧化銦錫鍍層,再經(jīng)傳統(tǒng)溶劑蝕刻或激光蝕刻的布設(shè)手段,而在基板10上形成網(wǎng)狀分布的搭接電極21與感應(yīng)電極22。隨后該電極層20必須通過(guò)240°C左右高溫烘烤,使該搭接電極21與感應(yīng)電極22成型后更加穩(wěn)定。該感應(yīng)電極22包括復(fù)數(shù)個(gè)獨(dú)立電極22a、復(fù)數(shù)個(gè)串接電極22b以及復(fù)數(shù)個(gè)極軌22c。該獨(dú)立電極22a是沿一第二極軸方向20b分布,該串接電極22b是沿一第一極軸方向20a分布;該極軌22c是形成于該串接電極22b之間且電性連接所述串接電極22b ;該獨(dú)立電極22a是相互絕緣且間隔分布于該極軌22c雙側(cè)。在周邊區(qū)12形成該搭接電極21的步驟中,包括延伸該獨(dú)立電極22a與串接電極22b至該周邊區(qū)12內(nèi)以分別形成一第一搭接電極21a與一第二搭接電極21b ;其中該第一搭接電極21a與第二搭接電極21b的延伸方向分別和獨(dú)立電極22a與該串接電極22b所述的分布方向相同,即分別沿第二極軸方向20b與第一極軸方向20a分布,或者依設(shè)計(jì)規(guī)劃需要而存在于第一與第二極軸20a、20b方向之間的其它延伸方向上的差異變化,但獨(dú)立電極22a與該串接電極22b的延伸方向必須有所不同。此外,在制造觸控面板時(shí),所述第一極軸方向20a與第二極軸方向20b可定義為直角坐標(biāo)系之X軸及Y軸,或?yàn)榍芯€/法線坐標(biāo)之T軸與N軸,或?yàn)闃O坐標(biāo)等。接著在步驟S20所布設(shè)的絕緣層30,可選用不透光性之壓克力等具有絕緣特質(zhì)的膠材,并采用網(wǎng)版印刷手段布設(shè)于該基板10的周邊區(qū)上以形成一遮蔽層31,該遮蔽層31并覆蓋位于周邊區(qū)12的搭接電極21。更具體而言,該遮蔽層31是覆蓋該第一搭接電極21a與第二搭接電極21b,且分別在該第一搭接電極21a與第二搭接電極21b上形成一排除該遮蔽層31的線孔31a、31b。在周邊區(qū)12形成該遮蔽層31的步驟中,還包括同時(shí)在觸控區(qū)11布設(shè)該絕緣層30 以覆蓋位于該感應(yīng)電極22的極軌22c上以形成一絕緣橋32。值得注意的是,該絕緣橋32及遮蔽層31是在同一道布設(shè)程序中同時(shí)完成,相較于分別單獨(dú)布設(shè)絕緣橋32及遮蔽層31而言,本發(fā)明可減少一道制造工序,進(jìn)而達(dá)到簡(jiǎn)化制程的目的;在布設(shè)過(guò)程中是將絕緣膠材覆蓋于該觸控區(qū)11及周邊區(qū)12面域范圍內(nèi)的整個(gè)基板10上,并采用傳統(tǒng)曝光、顯影、蝕刻及烘干等手段,使絕緣層30在觸控區(qū)11僅覆蓋該極軌22c,而在所述極軌22c的對(duì)等位置上形成該絕緣橋32,該觸控區(qū)11其余部分在顯影后顯露在外,因此該絕緣橋32形成的數(shù)量是相等于該極軌22c ;并同時(shí)使該絕緣層30覆蓋該周邊區(qū)12而形成該遮蔽層31,并且使該遮蔽層31能夠覆蓋位于周邊區(qū)12內(nèi)的第一與第二搭接電極21a、21b ;其中,該線孔31a、31b是經(jīng)由所述曝光、顯影及烘干手段排除該遮蔽層31而形成。本發(fā)明基于上述步驟SlO及步驟S20 二道制程,即可使得電極層20早于遮蔽層31先形成,而排除了遮蔽層31須與電極層20 —起接受高溫烘烤的問(wèn)題,并達(dá)成維持該遮蔽層31之絕緣性的穩(wěn)定效能。此外,由于電極層20中的所述搭接電極21與感應(yīng)電極22是直接且同時(shí)的形成在相同層位或相同平面的基板10表面,并沒(méi)有受到遮蔽層31的遮擋,因此不存在有高度差,而可避免搭接電極21與感應(yīng)電極22的阻值發(fā)生浮動(dòng),有助于維持觸控檢測(cè)的準(zhǔn)確度。在步驟S30中所布設(shè)的線路層40,可選用例如銀膠等導(dǎo)電金屬材料,并采用傳統(tǒng)網(wǎng)版印刷、涂覆光阻、曝光、顯影、蝕刻及洗除殘留光阻等手段而布設(shè)于該絕緣層30上,而于該遮蔽層31上以形成若干條主導(dǎo)線42,該主導(dǎo)線42電性連接該搭接電極21,并于所述絕緣橋32的對(duì)等位置上形成一橋接導(dǎo)線41,據(jù)以制成一具有多層結(jié)構(gòu)的觸控面板。該橋接導(dǎo)線41是電性連接該極軌22c雙側(cè)的獨(dú)立電極22a,而該主導(dǎo)線42通過(guò)搭接電極21上的線孔而電性連接該搭接電極21,更進(jìn)一步而言,該主導(dǎo)線42包括一第一導(dǎo)線42a與一第二導(dǎo)線42b,該第一導(dǎo)線42a經(jīng)由該第一搭接電極21a上的線孔31a而電性連接該獨(dú)立電極22a,該第二導(dǎo)線42b經(jīng)由該第二搭接電極21b上的線孔31b而電性連接該串接電極22b,且該絕緣橋32能夠在極軌22c與橋接導(dǎo)線41之間產(chǎn)生絕緣作用。該橋接導(dǎo)線41形成的數(shù)量是相等于該絕緣橋32,以便于橋接導(dǎo)線41能夠在所述第二極軸方向20b上電性橋接該極軌22c雙側(cè)的獨(dú)立電極22a。該主導(dǎo)線42形成的數(shù)量是相等于所述第一搭接電極21a與第二搭接電極21b數(shù)量的總合,而使各第一導(dǎo)線41a與第二導(dǎo)線42b之一端能夠分別電性連接該獨(dú)立電極22a與串接電極22b,且所述第一導(dǎo)線41a與第二導(dǎo)線42b的另一端分別形成有一導(dǎo)電端子43,供外接一軟性電路,而將觸控電位信號(hào)輸出至一控制電路,以偵測(cè)觸控指令。在采用銀膠制成所述線路層40時(shí)因?yàn)榫哂姓诠馓匦?,因此相?duì)于在前次步驟S20中,該絕緣層3 0也必須采用不透光且足以遮掩所述周邊區(qū)12內(nèi)之主導(dǎo)線42以及觸控區(qū)11之橋接導(dǎo)線41的絕緣膠材制成。在另一實(shí)施例中,也可以將該極軌25的寬度實(shí)施成足夠的細(xì)微,而使得該絕緣橋32覆蓋該極軌22c的單位面積以及該橋接導(dǎo)線41顯露的單位面積皆相對(duì)較小,以利肉眼不易察覺(jué)觸控區(qū)11面域范圍內(nèi)的不透光絕緣橋32與橋接導(dǎo)線41。
此外,在步驟S30中所述線路層40也可以采用高溫濺鍍用的銦錫氧化物作為導(dǎo)電材料,先在300-400°C的溫度下濺鍍一層導(dǎo)電層,再用溶劑蝕刻或激光蝕刻,在無(wú)需烘烤的情形下形成透光的橋接導(dǎo)線41與主導(dǎo)線42 ;在此實(shí)施下,相對(duì)于前次步驟S20中,則可搭配采用透光性的絕緣膠材制成該周邊區(qū)12中透光的遮蔽層31以及觸控區(qū)11中透光的絕緣橋32,由于該遮蔽層31具有良好的絕緣性能,因此可以有效地防止由于各種外界 的干擾而導(dǎo)致各主導(dǎo)線42相互導(dǎo)通的現(xiàn)象。再者,上述周邊區(qū)12中透光或不透光的主導(dǎo)線42,也可以利用設(shè)備的機(jī)殼遮掩該周邊區(qū)12,避免主導(dǎo)線42外露,以達(dá)到更佳的視覺(jué)效果。該線路層40在配置完成后,通常會(huì)布設(shè)一層具有絕緣作用的保護(hù)膜于該線路層40上。上述步驟SlO至步驟S30中,由于本發(fā)明取用的基板10材料,例如一般普通玻璃或鈍化材料的耐溫程度是可以達(dá)到450°C,因此足以直接承受所述濺鍍溫度(30-40°C)及烘烤溫度(240°C)而不易受損,并且已經(jīng)排除該基板10與該電極層20以外的絕緣層30與遮蔽層31接受該濺鍍及烘烤條件的摧殘;以上因素,有助于維持該絕緣層30 (包含遮蔽層31與絕緣橋32)的絕緣性,避免線路層40中的線路相互導(dǎo)通。本發(fā)明依據(jù)上述制造方法而制成一種觸控面板,包括由該電極層20及絕緣層30所布設(shè)而成的多層結(jié)構(gòu)(參照?qǐng)D4c、圖5及圖6所示),特別包含在所述基板10上由該搭接電極21與遮蔽層31所構(gòu)成的多層結(jié)構(gòu),其中該搭接電極21是由電極層20布設(shè)而成,即該電極層20自基板10的觸控區(qū)11延伸至該基板10的周邊區(qū)12而布設(shè)形成,通過(guò)該搭接電極21將觸控區(qū)11的電信號(hào)傳遞到外部控制電路,其中該周邊區(qū)12圍繞于該觸控區(qū)11周邊。該遮蔽層31是由絕緣層30布設(shè)而成,特別地使該遮蔽層31設(shè)置于該基板10的周邊區(qū)12并且覆蓋位于周邊區(qū)12的所述搭接電極21。更具體而言,所述電極層20的布設(shè),還包含在該觸控區(qū)11內(nèi)形成感應(yīng)電極22。該感應(yīng)電極22包括有復(fù)數(shù)個(gè)獨(dú)立電極22a、串接電極22b與極軌22c,該串接電極22b是沿第一極軸方向20a分布,該極軌22c是設(shè)置于該串接電極22b之間且電性連接串接電極22b,該獨(dú)立電極22a是相互絕緣且間隔分布于所述極軌22c雙側(cè),該獨(dú)立電極22a并沿第二極軸方向20b方向分布。同屬由電極層20布設(shè)形成的搭接電極21,實(shí)質(zhì)上包含有第一搭接電極21a及第二搭接電極21b ;第一搭接電極21a是由所述獨(dú)立電極22a延伸至該周邊區(qū)12內(nèi)而形成,第二搭接電極21b是由所述串接電極22b延伸至該周邊區(qū)12內(nèi)而形成,且其中該獨(dú)立電極22a與該串接電極22b所延伸的方向可以參照前述制造方法中所述的實(shí)施方式而有所不同。更具體而言,該第一搭接電極21a與第二搭接電極21b實(shí)質(zhì)上是被該遮蔽層31所覆蓋,且第一搭接電極21a上形成有排除遮蔽層31的線孔31a,第二搭接電極21b上形成有排除遮蔽層31的線孔31b。所述遮蔽層31的布設(shè),還包含在該觸控區(qū)11內(nèi)形成若干個(gè)絕緣橋32。該絕緣橋32是對(duì)等設(shè)置于該感應(yīng)電極22的極軌22c上。本發(fā)明之觸控面板,實(shí)質(zhì)上還包括在所述遮蔽層31及絕緣橋32上附加線路層40所構(gòu)成的多層結(jié)構(gòu)(參照?qǐng)D4c及圖7所示),該線路層40形成若干條主導(dǎo)線42,該主導(dǎo)線42電性連接該搭接電極21,該主導(dǎo)線42是設(shè)置于周邊區(qū)12的遮蔽層31上。更具體而言,該線路層40還包括若干條橋接導(dǎo)線41,其中該橋接導(dǎo)線41是以跨接方式而設(shè)置于觸控區(qū)11的絕緣橋32上。該橋接導(dǎo)線41電性連接該極軌22c雙側(cè)的獨(dú)立電極22a,而該主導(dǎo)線42通過(guò)在搭接電極21上的線孔而電性連接該搭接電極21,更具體而言,該主導(dǎo)線42包括第一導(dǎo)線42a與第二導(dǎo)線42b,該第一導(dǎo)線42a經(jīng)由該第一搭接電極21a上的線孔31a而電性連接該獨(dú)立電極22a,該第二導(dǎo)線42b經(jīng)由該第二搭接電極21b上的線孔31b而電性連接·該串接電極22b?!磳?shí)施例二〉另請(qǐng)參閱圖8至圖10,揭示本發(fā)明一圖像操作區(qū)(icon area) 13在布設(shè)所述電極層20、絕緣層30及線路層40過(guò)程中形成觸控結(jié)構(gòu)的平面仰視圖。說(shuō)明在一制造方法的具體實(shí)施中,該基板10上更包含預(yù)設(shè)于該周邊區(qū)12面域范圍內(nèi)的圖像操作區(qū)13,其中在上述步驟SlO中,特別是在形成該搭接電極21與該感應(yīng)電極22的步驟中,同時(shí)布設(shè)該電極層20以形成一獨(dú)立端極26、一獨(dú)立子極27以及由該串接電極22b延伸至該圖像操作區(qū)13的一串接子極28與一子極軌29,其中該串接子極28與串接電極22b之間是由該子極軌29電性串接,且該子極軌29雙側(cè)間隔形成有相互絕緣的獨(dú)立端極26與獨(dú)立子極27。在上述步驟S20中,該遮蔽層31的覆蓋范圍包含該圖像操作區(qū)13,以覆蓋該獨(dú)立端極26、獨(dú)立子極27、串接子極28及子極軌29,并在該獨(dú)立端極26與該獨(dú)立子極27上靠近子極軌29處分別顯露出一排除該遮蔽層31的子線孔26a和27b,該獨(dú)立端極26另顯露出一排除該遮蔽層31的端線孔26b。在上述步驟S30中,將該線路層40同時(shí)布設(shè)于該圖像操作區(qū)13內(nèi)而接觸該遮蔽層31,以便同步形成一橋接子線45及一搭接子線46,其中該橋接子線45在該圖像操作區(qū)13中經(jīng)由子線孔26a和27b而電性橋接該獨(dú)立端極26與該獨(dú)立子極27,而該搭接子線46經(jīng)由該端線孔26b而電性連接該獨(dú)立端極26與導(dǎo)電端子43。經(jīng)由上述延伸的制程步驟,該圖像操作區(qū)13、觸控區(qū)11及周邊區(qū)12能夠在相同的布設(shè)步驟中同步進(jìn)行。此外,所述獨(dú)立端極26與獨(dú)立子極27是沿該第二極軸方向20b分布,所述串接子極28是沿該第一極軸方向20a分布,此外所述獨(dú)立端極26、獨(dú)立子極27與串接子極28也可以根據(jù)設(shè)計(jì)端對(duì)于該圖像操作區(qū)13的多樣化設(shè)計(jì),而存在于第一與第二極軸20a、20b方向之間的其它延伸方向上作出相應(yīng)的設(shè)計(jì)變化。依據(jù)上述,本發(fā)明能夠于基板10制成具備該圖像操作區(qū)13的觸控面板,其中該圖像操作區(qū)13包括由該電極層20所形成的所述獨(dú)立端極26、獨(dú)立子極27以及由該串接電極22b延伸至該圖像操作區(qū)13而形成的的串接子極28與一子極軌29 (如圖8所示),其中該串接子極28與串接電極22b之間是由該子極軌29電性串接,且該子極軌29雙側(cè)間隔形成有相互絕緣的獨(dú)立端極26與獨(dú)立子極27。該遮蔽層31的覆蓋范圍包含該圖像操作區(qū)13(如圖9所示),以覆蓋該獨(dú)立端極26、獨(dú)立子極27、串接子極28及子極軌29,該獨(dú)立端極26與該獨(dú)立子極27分別顯露出排除該遮蔽層31的子線孔26a和27b,該獨(dú)立端極26另顯露出排除該遮蔽層31的端線孔26b。
該線路層40并形成有橋接子線45與搭接子線46 (如圖10所示),使該橋接子線45設(shè)置在該圖像操作區(qū)13的遮蔽層31上,經(jīng)由該子線孔26a和27b電性橋接該獨(dú)立端極26與該獨(dú)立子極27,并使該搭接子線46設(shè)置于周邊區(qū)12的遮蔽層31上,經(jīng)由該端線孔26b電性連接該獨(dú)立端極26與導(dǎo)電端子43,進(jìn)而將觸控電位信號(hào)輸出至一控制電路,以偵測(cè)觸控指令。而串接子極28所偵測(cè)到的觸控電位信號(hào)則是透過(guò)與其電性連接的串接電極22b而傳輸至控制電路?;谏鲜?,本發(fā)明觸控面板,包括在觸控區(qū)11、周邊區(qū)12、圖像操作區(qū)13中的觸控結(jié)構(gòu),皆具有維持絕緣層30中遮蔽層31與絕緣橋32的絕緣性、避免電極層20中電極阻值 發(fā)生浮動(dòng)、以及避免線路層40中的線路相互導(dǎo)通的現(xiàn)象。以上實(shí)施例僅為表達(dá)了本發(fā)明的幾種實(shí)施方式,但并不能因此而理解為對(duì)本發(fā)明專(zhuān)利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是,對(duì)于本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識(shí)者而言,在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下,還可以做出復(fù)數(shù)變形和改進(jìn),這些都屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。因此,本發(fā)明應(yīng)以申請(qǐng)專(zhuān)利范圍中限定的請(qǐng)求項(xiàng)內(nèi)容為準(zhǔn)。以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已,并不用以限制本發(fā)明,凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi),所做的任何修改、等同替換、改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本發(fā)明保護(hù)的范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種觸控面板的制造方法,其特征在于,包括 先布設(shè)一電極層自一基板的觸控區(qū)延伸一搭接電極至該基板的周邊區(qū),通過(guò)該搭接電極將觸控區(qū)的電信號(hào)傳遞到外部控制電路,其中該周邊區(qū)圍繞于該觸控區(qū)周邊,再布設(shè)一絕緣層于該基板的周邊區(qū)上以形成一遮蔽層,其中該遮蔽層覆蓋位于周邊區(qū)的該搭接電極。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的觸控面板的制造方法,其特征在于,更包括布設(shè)一線路層于該遮蔽層上以形成一主導(dǎo)線,該主導(dǎo)線電性連接該搭接電極。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的觸控面板的制造方法,其特征在于,該遮蔽層在該搭接電極上形成一排除該遮蔽層的線孔,該搭接電極通過(guò)該線孔電性連接該主導(dǎo)線。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的觸控面板的制造方法,其特征在于,在周邊區(qū)形成該搭接電極的同時(shí),更包括在觸控區(qū)布設(shè)該電極層以形成一感應(yīng)電極。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的觸控面板結(jié)構(gòu)的制造方法,其特征在于,該感應(yīng)電極包括 復(fù)數(shù)個(gè)串接電極,沿一第一極軸方向分布; 一極軌,形成于該串接電極之間且電性連接所述串接電極;以及 復(fù)數(shù)個(gè)獨(dú)立電極,相互絕緣且間隔分布于該極軌雙側(cè),沿一第二極軸方向分布。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的觸控面板的制造方法,其特征在于,在周邊區(qū)形成該搭接電極的步驟中,包括延伸該獨(dú)立電極與串接電極至該周邊區(qū)內(nèi)以分別形成一第一搭接電極第二搭接電極。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的觸控面板的制造方法,其特征在于,更包括 該遮蔽層覆蓋該第一搭接電極與第二搭接電極;以及 分別在該第一搭接電極與第二搭接電極上形成一排除該遮蔽層的線孔。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的觸控面板的制造方法,其特征在于,在周邊區(qū)形成該遮蔽層的步驟中,還包括同時(shí)在觸控區(qū)布設(shè)該絕緣層覆蓋位于該感應(yīng)電極的極軌上以形成一絕緣橋。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的觸控面板的制造方法,其特征在于,更包括布設(shè)一線路層于該遮蔽層上以形成一主導(dǎo)線及布設(shè)該線路層于該絕緣橋上以形成一橋接導(dǎo)線。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的觸控面板的制造方法,其特征在于,該橋接導(dǎo)線電性連接該極軌雙側(cè)的獨(dú)立電極,而該主導(dǎo)線包括一第一導(dǎo)線與一第二導(dǎo)線,該第一導(dǎo)線經(jīng)由該第一搭接電極上的線孔而電性連接該獨(dú)立電極,該第二導(dǎo)線經(jīng)由該第二搭接電極上的線孔而電性連接該串接電極。
11.根據(jù)權(quán)利要求5所述的觸控面板的制造方法,其特征在于,該基板上更包含一預(yù)設(shè)于該周邊區(qū)內(nèi)的圖像操作區(qū),該制造方法更包括在形成該搭接電極與該感應(yīng)電極的步驟中,同時(shí)布設(shè)該電極層以形成一獨(dú)立端極、一獨(dú)立子極以及由該串接電極延伸至該圖像操作區(qū)的一串接子極與一子極軌,其中該串接子極與串接電極之間是由該子極軌電性串接,且該子極軌雙側(cè)間隔形成有相互絕緣的獨(dú)立端極與獨(dú)立子極。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的觸控面板的制造方法,其特征在于,該遮蔽層的形成范圍包含該圖像操作區(qū),以覆蓋該獨(dú)立端極、獨(dú)立子極、串接子極及子極軌,該獨(dú)立端極與該獨(dú)立子極分別顯露出一排除該遮蔽層的子線孔,該獨(dú)立端極另顯露出一排除該遮蔽層的端線孔。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的觸控面板的制造方法,其特征在于,更包括同時(shí)布設(shè)一線路層于該遮蔽層上形成一橋接子線與一搭接子線,其中該橋接子線在該圖像操作區(qū)中形成以經(jīng)由子線孔電性橋接該獨(dú)立端極與該獨(dú)立子極,而該搭接子線經(jīng)由該端線孔電性連接該獨(dú)立端極。
14.一種觸控面板,其特征在于,包括 一搭接電極,由一電極層布設(shè)而成,自一基板的觸控區(qū)延伸至該基板的周邊區(qū),通過(guò)該搭接電極將觸控區(qū)的電信號(hào)傳遞到外部控制電路,其中該周邊區(qū)圍繞于該觸控區(qū)周邊;以及 一遮蔽層,由一絕緣層布設(shè)而成,設(shè)置于該基板的周邊區(qū)且覆蓋位于周邊區(qū)的該搭接電極。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的觸控面板,其特征在于,更包括一線路層,該線路層形成若干條主導(dǎo)線于該遮蔽層上,該主導(dǎo)線電性連接該搭接電極。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的觸控面板,其特征在于,該遮蔽層在該搭接電極上具有一排除該遮蔽層的線孔,該搭接電極通過(guò)該線孔電性連接該主導(dǎo)線。
17.根據(jù)權(quán)利要求14所述的觸控面板,其特征在于,更包括一感應(yīng)電極,設(shè)置于該觸控區(qū)且由該電極層布設(shè)而成。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的觸控面板,其特征在于,該感應(yīng)電極包括 復(fù)數(shù)個(gè)串接電極,沿一第一極軸方向分布; 一極軌,設(shè)置于該串接電極之間且電性連接該串接電極;以及 復(fù)數(shù)個(gè)獨(dú)立電極,相互絕緣且間隔分布于該極軌雙側(cè),沿一第二極軸方向分布。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的觸控面板,其特征在于,該搭接電極包括 一第一搭接電極,由該獨(dú)立電極延伸至該周邊區(qū)內(nèi)形成;以及 一第二搭接電極,由該串接電極延伸至該周邊區(qū)內(nèi)形成。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的觸控面板,其特征在于,該遮蔽層在該第一搭接電極與第二搭接電極上具有一排除該遮蔽層的線孔。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的觸控面板,其特征在于,更包括一絕緣橋,由該絕緣層所布設(shè)形成,且設(shè)置于該感應(yīng)電極的極軌上。
22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的觸控面板,其特征在于,更包括 一主導(dǎo)線,設(shè)置于周邊區(qū)的遮蔽層上且由一線路層所形成;以及 一橋接導(dǎo)線,設(shè)置于觸控區(qū)的絕緣橋上且由該線路層所形成。
23.根據(jù)權(quán)利要求22所述的觸控面板,其特征在于,該橋接導(dǎo)線電性連接該極軌雙側(cè)的獨(dú)立電極,而該主導(dǎo)線包括一第一導(dǎo)線與一第二導(dǎo)線,該第一導(dǎo)線經(jīng)由該第一搭接電極上的線孔而電性連接該獨(dú)立電極,該第二導(dǎo)線經(jīng)由該第二搭接電極上的線孔而電性連接該串接電極。
24.根據(jù)權(quán)利要求18所述的觸控面板,其特征在于,該基板上更包含一預(yù)設(shè)于該周邊區(qū)內(nèi)的圖像操作區(qū),在該圖像操作區(qū)包括由該電極層所形成的一獨(dú)立端極、一獨(dú)立子極以及由該串接電極延伸至該圖像操作區(qū)的一串接子極與一子極軌,其中該串接子極與串接電極之間是由該子極軌電性串接,且該子極軌雙側(cè)間隔形成有相互絕緣的獨(dú)立端極與獨(dú)立子極。
25.根據(jù)權(quán)利要求24所述的觸控面板,其特征在于,該遮蔽層的形成范圍包含該圖像操作區(qū),以覆蓋該獨(dú)立端極、獨(dú)立子極、串接子極及子極軌,該獨(dú)立端極與該獨(dú)立子極分別顯露出一排除該遮蔽層的子線孔,該獨(dú)立端極另顯露出一排除該遮蔽層的端線孔。
26.根據(jù)權(quán)利要求25所述的觸控面板,其特征在于,更包括 一橋接子線,由一線路層所形成且設(shè)置在該圖像操作區(qū)的遮蔽層上,經(jīng)由該子線孔電性橋接該獨(dú)立端極與該獨(dú)立子極;以及 一搭接子線,由該線路層所形成且設(shè)置于周邊區(qū)的遮蔽層上,經(jīng)由該端線孔電性連接該獨(dú)立端極。
全文摘要
本發(fā)明提供一種觸控面板的制造方法,包括先布設(shè)一電極層自一基板的觸控區(qū)延伸一搭接電極至該基板的周邊區(qū),其中該周邊區(qū)圍繞該觸控區(qū)的四周,再布設(shè)一絕緣層于該基板的周邊區(qū)上形成一遮蔽層,使該遮蔽層覆蓋位于周邊區(qū)的搭接電極,使觸控區(qū)的電極層與搭接電極位于基板的同一層,用以防止電極層因存在高度差而導(dǎo)致電阻阻值發(fā)生浮動(dòng),同時(shí)采用該方法的布設(shè)手段還可以維持遮蔽層的絕緣性。本發(fā)明也提供由所述制造方法制成的一種觸控面板。
文檔編號(hào)G06F3/044GK102955603SQ20111027029
公開(kāi)日2013年3月6日 申請(qǐng)日期2011年8月17日 優(yōu)先權(quán)日2011年8月17日
發(fā)明者謝燕俊, 何寬鑫 申請(qǐng)人:宸鴻科技(廈門(mén))有限公司
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