專(zhuān)利名稱(chēng)：輔助圖案工具的匹配方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是關(guān)于一種輔助圖案工具的匹配方法，特別是一種經(jīng)由比對(duì)輔助圖案的輔助圖案工具的匹配方法。
背景技術(shù)：
在半導(dǎo)體工藝上，為了將集成電路的圖案順利地轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體芯片上，須先將集成電路的圖案依照半導(dǎo)體工藝的設(shè)計(jì)規(guī)范，完成光罩布局圖案設(shè)計(jì)，再依據(jù)各光罩布局圖案設(shè)計(jì)制作光罩，最后再將光罩依比例于不同的工藝中逐步轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體芯片上。由于集成電路圖案積集度逐漸提高且受限于曝光機(jī)臺(tái)的分辨率極限，在光微影工藝中轉(zhuǎn)移高密度光罩圖案時(shí)容易產(chǎn)生光學(xué)近接效應(yīng)，造成圖案轉(zhuǎn)移的偏差，例如設(shè)置于主要圖案直角處的輔助圖案殘留、直角轉(zhuǎn)角圓形化、直線末端緊縮以及直線線寬增加或縮減
坐寸ο為了避免上述光學(xué)近接效應(yīng)造成光罩轉(zhuǎn)移偏差，通常在制作光罩時(shí)都會(huì)對(duì)光罩布局圖案設(shè)計(jì)進(jìn)行光學(xué)近接修正(optical proximity correction, OPC),并于光罩布局圖案設(shè)計(jì)中加入輔助圖案(assistant feature,AF)以改善光學(xué)近接效應(yīng)。依據(jù)光罩布局圖案，利用計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)(computer aided design,CAD)計(jì)算光學(xué)近接修正,然后,利用例如計(jì)算機(jī)得到修正后的圖案和輔助圖案。輔助圖案在光學(xué)近接修正中扮演著重要的角色，不同輔助圖案的設(shè)置方式可造成明顯不同的晶圓圖案化結(jié)果。依據(jù)光罩圖案計(jì)算輔助圖案以防止光學(xué)近接效應(yīng)的輔助圖案工具是非常重要的，然而輔助圖案工具卻是非常昂貴。由于輔助圖案工具對(duì)于計(jì)算輔助圖案非常重要且有益，其計(jì)算方式是可被接受且可作為一參考目標(biāo)輔助圖案工具。光學(xué)近接修正的工程人員必須評(píng)估新版本或新開(kāi)發(fā)的輔助圖案工具，以確認(rèn)其具有較為友善的操作方式。然而，由于不同輔助圖案工具間，具有不同的主要運(yùn)算邏輯，相同的輔助圖案產(chǎn)生原則可能產(chǎn)生不同的輔助圖案。在現(xiàn)有技術(shù)中，不同輔助圖案工具通過(guò)一小區(qū)域產(chǎn)品圖案布局，以獲得不同的輔助圖案安排結(jié)果。然而，當(dāng)新版本或新開(kāi)發(fā)的輔助圖案工具計(jì)算原則與參考目標(biāo)輔助圖案工具計(jì)算原則不同時(shí)，要評(píng)估其是否可被接受是非常不容易的。因此，有必要提供一創(chuàng)新且富有進(jìn)步性的輔助圖案工具的匹配方法，以解決上述問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種輔助圖案工具的匹配方法，用以評(píng)估新版本或新開(kāi)發(fā)的輔助圖案工具的操作是否友善。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，一種輔助圖案工具的匹配方法包括以下步驟依據(jù)一特定測(cè)試布局(20)以一第一輔助圖案工具產(chǎn)生一目標(biāo)輔助圖案(30);依據(jù)該特定測(cè)試布局
(20)以一第二輔助圖案工具產(chǎn)生一對(duì)比輔助圖案(40);及比較該對(duì)比輔助圖案(40)與該目標(biāo)輔助圖案(30)，以決定接受或拒絕該第二輔助圖案工具。、
進(jìn)一步地，產(chǎn)生該目標(biāo)輔助圖案(30)的步驟包括依據(jù)該特定測(cè)試布局(20)產(chǎn)生一第一初始輔助圖案(30')，該第一初始輔助圖案(30')包括多個(gè)第一初始圖案(32' -36')，所述多個(gè)第一初始圖案(32' -36')彼此至少部分重疊；及調(diào)整所述多個(gè)第一初始圖案(32' -36')以形成該目標(biāo)輔助圖案(30)。進(jìn)一步地，所述多個(gè)第一初始圖案(32' -36')依據(jù)一第一末端調(diào)整規(guī)則進(jìn)行調(diào)M
iF. O進(jìn)一步地，產(chǎn)生該對(duì)比輔助圖案(40)的步驟包括依據(jù)該特定測(cè)試布局(20)產(chǎn)生一第二初始輔助圖案(40')，該第二初始輔助圖案(40')包括多個(gè)第二初始圖案(42' -46')，所述多個(gè)第二初始圖案(42' -46')彼此至少部分重疊；及調(diào)整所述多個(gè)第二初始圖案(42' -46')以形成該對(duì)比輔助圖案(40)。進(jìn)一步地，所述多個(gè)第二初始圖案(42' -46')依據(jù)一第二末端調(diào)整規(guī)則進(jìn)行調(diào)M
iF. O進(jìn)一步地，若該對(duì)比輔助圖案(40)實(shí)質(zhì)上與該目標(biāo)輔助圖案(30)匹配，決定該第二輔助圖案工具為可接受；否則，修正用以產(chǎn)生該對(duì)比輔助圖案(40)的規(guī)則，以產(chǎn)生新的對(duì)比輔助圖案。進(jìn)一步地，產(chǎn)生新的對(duì)比輔助圖案的步驟包括依據(jù)該特定測(cè)試布局(20)產(chǎn)生一修正后初始輔助圖案，該修正后初始輔助圖案包括多個(gè)修正后初始圖案，所述多個(gè)修正后初始圖案彼此至少部分重疊；及調(diào)整所述多個(gè)修正后初始圖案以形成該新的對(duì)比輔助圖案，其中，比較該新的對(duì)比輔助圖案與該目標(biāo)輔助圖案(30)，以決定接受或拒絕該第二輔助圖案工具。進(jìn)一步地，若該新的對(duì)比輔助圖案實(shí)質(zhì)上與該目標(biāo)輔助圖案(30)匹配，決定該第二輔助圖案工具為可接受；否則，決定該第二輔助圖案工具為被拒絕。進(jìn)一步地，該第一輔助圖案工具及該第二輔助圖案工具包含于相同的裝置內(nèi)。進(jìn)一步地，該第一輔助圖案工具及該第二輔助圖案工具包含于不相同的裝置內(nèi)。進(jìn)一步地，該目標(biāo)輔助圖案(30)的安排實(shí)質(zhì)上呈L形、U形或N形。進(jìn)一步地，該特定測(cè)試布局(20)包括多個(gè)主要圖案，該目標(biāo)輔助圖案(30)位于二相鄰主要圖案間。進(jìn)一步地，該目標(biāo)輔助圖案(30)選自于截線或散射條，或其組合。上文已相當(dāng)廣泛地概述本發(fā)明的技術(shù)特征，使下文的本發(fā)明詳細(xì)描述得以獲得較佳了解。構(gòu)成本發(fā)明權(quán)利要求的其它技術(shù)特征將描述于下文。本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識(shí)者應(yīng)了解，可相當(dāng)容易地利用下文揭示的概念與特定實(shí)施例可作為修改或設(shè)計(jì)其它結(jié)構(gòu)或工藝而實(shí)現(xiàn)與本發(fā)明相同的目的。本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識(shí)者亦應(yīng)了解，這類(lèi)等效建構(gòu)無(wú)法脫離后附的權(quán)利要求所界定的本發(fā)明的精神和范圍。


通過(guò)參照前述說(shuō)明及下列圖式，本發(fā)明的技術(shù)特征得以獲得完全了解。圖I為本發(fā)明一實(shí)施例的輔助圖案工具的匹配方法的流程圖2至4為本發(fā)明一實(shí)施例，依據(jù)一特定測(cè)試布局以一第一輔助圖案工具產(chǎn)生一目標(biāo)輔助圖案的示意圖；圖5及圖6為本發(fā)明一實(shí)施例，依據(jù)該特定測(cè)試布局以一第二輔助圖案工具產(chǎn)生一對(duì)比輔助圖案的示意圖；及圖7及圖8為本發(fā)明一實(shí)施例的U形及N形目標(biāo)輔助圖案的示意圖。其中，附圖標(biāo)記說(shuō)明如下20特定測(cè)試布局22、24主要圖案30目標(biāo)輔助圖案
30'第一初始輔助圖案32、34目標(biāo)輔助圖案的垂直條36目標(biāo)輔助圖案的水平條32' -36'第一初始圖案40對(duì)比輔助圖案40'第二初始輔助圖案42、44對(duì)比輔助圖案的垂直條46對(duì)比輔助圖案的水平條A2' -46'第二初始圖案100輔助圖案工具的匹配方法101-103 步驟
具體實(shí)施例方式圖I為本發(fā)明一實(shí)施例的輔助圖案工具的匹配方法的流程圖。圖2至圖4為本發(fā)明一實(shí)施例，依據(jù)一特定測(cè)試布局20以一第一輔助圖案工具產(chǎn)生一目標(biāo)輔助圖案30的不意圖。配合參考步驟101及圖2至圖4，在本發(fā)明一實(shí)施例中，依據(jù)包括多個(gè)主要圖案22、24(如集成電路布局的一部分，I維或2維的圖案，如圖2所示)的一特定測(cè)試布局20，以一第一輔助圖案工具產(chǎn)生一目標(biāo)輔助圖案30。在本實(shí)施例中，產(chǎn)生該目標(biāo)輔助圖案30的步驟包括依據(jù)該特定測(cè)試布局20 (如圖4所示)產(chǎn)生一第一初始輔助圖案30'，該第一初始輔助圖案30'包括多個(gè)第一初始圖案32'、34'、36'，所述多個(gè)第一初始圖案32'、34'、36'彼此至少部分重疊；及依據(jù)一第一末端調(diào)整規(guī)則調(diào)整該第一初始輔助圖案30'的所述第一初始圖案32'、34'、36'，以形成該目標(biāo)輔助圖案30(如圖5所示)。 在本實(shí)施例中，該目標(biāo)輔助圖案30的安排實(shí)質(zhì)上是呈L形且位于二相鄰主要圖案
22、24間。該目標(biāo)輔助圖案30可選自于截線(serif)或散射條(scattering bar),或其組
八
口 ο如圖3所示，該第一初始輔助圖案30'包括二垂直條32' ,34/及一水平條36'，其中該水平條36'垂直地垂疊于二垂直條32'、34'。如圖4所示，該第一初始輔助圖案30'接著被修正以移除部分水平條36'及部分垂直條34'，使得修正后的垂直條32、34及水平條36不互相重疊。
要注意的是，該目標(biāo)輔助圖案30的安排實(shí)質(zhì)上可為U形或N形，但不以此為限，其可視該特定測(cè)試布局20的主要圖案22、24而定。用以產(chǎn)生相應(yīng)U形或N形目標(biāo)輔助圖案30 (分別如圖7及圖8所示)的規(guī)則可參考上述關(guān)于用以產(chǎn)生相應(yīng)L形目標(biāo)輔助圖案30的規(guī)則，在此不再加以敘述。
圖5及圖6為本發(fā)明一實(shí)施例，依據(jù)該特定測(cè)試布局20以一第二輔助圖案工具產(chǎn)生一對(duì)比輔助圖案40的示意圖。配合參考步驟102、圖3、圖5及圖6，在本發(fā)明一實(shí)施例中，依據(jù)該特定測(cè)試布局20以一第二輔助圖案工具產(chǎn)生一對(duì)比輔助圖案40。在本實(shí)施例中，產(chǎn)生該對(duì)比輔助圖案的步驟包括依據(jù)該特定測(cè)試布局20產(chǎn)生一第二初始輔助圖案40'，該第二初始輔助圖案40'包括多個(gè)第二初始圖案42'、44'、46'，所述多個(gè)第二初始圖案42'、44'、46'彼此至少部分重疊(如圖5所示)；及調(diào)整所述多個(gè)第二初始圖案42'、44'、46'以形成該對(duì)比輔助圖案40'(如圖6所示)。如圖5所示，該第二初始輔助圖案40'包括二垂直條42'、44'及一水平條46'，其中該水平條46'垂直地垂疊于二垂直條42'、44'。如圖6所示，該第二初始輔助圖案40'接著被修正以移除部分水平條46'，使得修正后的水平條46不與垂直條42、44重疊。在本實(shí)施例中，所述多個(gè)第二初始圖案40'依據(jù)一第二末端調(diào)整規(guī)則進(jìn)行調(diào)整，該第二末端調(diào)整規(guī)則實(shí)質(zhì)上不同于該第一末端調(diào)整規(guī)則。要注意的是，該第一輔助圖案工具及該第二輔助圖案工具可包含于相同的裝置內(nèi)或包含于不相同的裝置內(nèi)。參考步驟103，比較該對(duì)比輔助圖案40與該目標(biāo)輔助圖案30，以決定接受或拒絕該第二輔助圖案工具。舉例而言，圖6所示的對(duì)比輔助圖案40被認(rèn)為實(shí)質(zhì)上不同于圖4所示的目標(biāo)輔助圖案30，用于產(chǎn)生該對(duì)比輔助圖案40的規(guī)則需要進(jìn)行修正。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，修正產(chǎn)生新的對(duì)比輔助圖案規(guī)則的步驟包括依據(jù)該特定測(cè)試布局20產(chǎn)生一修正后初始輔助圖案，該修正后初始輔助圖案包括多個(gè)修正后初始圖案，所述多個(gè)修正后初始圖案彼此至少部分重疊；及調(diào)整所述多個(gè)修正后初始圖案以形成該新的對(duì)比輔助圖案，其中，比較該新的對(duì)比輔助圖案與該目標(biāo)輔助圖案30，以決定接受或拒絕該第二輔助圖案工具。在修正后的新的對(duì)比輔助圖案規(guī)則中，對(duì)比輔助圖案40被修正(例如實(shí)質(zhì)上與圖3及圖4所示的方式相同)，以產(chǎn)生一新的對(duì)比輔助圖案(例如實(shí)質(zhì)上與圖3及圖4所示的相同目標(biāo)輔助圖案30)。如此，修正后的新的對(duì)比輔助圖案實(shí)質(zhì)上與該目標(biāo)輔助圖案30相匹配，則決定該第二輔助圖案工具為可接受。然而，若無(wú)法找出可產(chǎn)生與該目標(biāo)輔助圖案30相匹配的新的對(duì)比輔助圖案的規(guī)則，決定該第二輔助圖案工具為被拒絕。本發(fā)明的技術(shù)內(nèi)容及技術(shù)特點(diǎn)已揭示如上，然而本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識(shí)者應(yīng)了解，在不背離后附申請(qǐng)專(zhuān)利范圍所界定的本發(fā)明精神和范圍內(nèi)，本發(fā)明的教示及揭示可作種種的替換及修飾。例如，上文揭示的許多工藝可以不同的方法實(shí)施或以其它工藝予以取代，或者采用上述二種方式的組合。此外，本案的權(quán)利范圍并不局限于上文揭示的特定實(shí)施例的工藝、機(jī)臺(tái)、制造、物質(zhì)的成份、裝置、方法或步驟。本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識(shí)者應(yīng)了解，基于本發(fā)明教示及揭示工藝、機(jī)臺(tái)、制造、物質(zhì)的成份、裝置、方法或步驟，無(wú)論現(xiàn)在已存在或日后開(kāi)發(fā)者，其與本案實(shí)施例揭示者系以實(shí)質(zhì)相同的方式執(zhí)行實(shí)質(zhì)相同的功能，而達(dá)到實(shí)質(zhì)相同的結(jié)果，亦可使用于本發(fā)明。因此，以下的申請(qǐng)專(zhuān)利范圍系用以涵蓋用以此類(lèi)工藝、機(jī)臺(tái)、制 造、物質(zhì)的成份、裝置、方法或步驟。
權(quán)利要求
1.一種輔助圖案工具的匹配方法，其特征在于該匹配方法包括以下步驟 依據(jù)一特定測(cè)試布局(20)以一第一輔助圖案工具產(chǎn)生一目標(biāo)輔助圖案(30)； 依據(jù)該特定測(cè)試布局(20)以一第二輔助圖案工具產(chǎn)生一對(duì)比輔助圖案(40);及 比較該對(duì)比輔助圖案(40)與該目標(biāo)輔助圖案(30)，以決定接受或拒絕該第二輔助圖案工具。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的輔助圖案工具的匹配方法，其特征在于產(chǎn)生該目標(biāo)輔助圖案(30)的步驟包括 依據(jù)該特定測(cè)試布局(20)產(chǎn)生一第一初始輔助圖案(30')，該第一初始輔助圖案(30')包括多個(gè)第一初始圖案(32' -36')，所述多個(gè)第一初始圖案(32' -36')彼此至少部分重疊；及 調(diào)整所述多個(gè)第一初始圖案(32' -36')以形成該目標(biāo)輔助圖案(30)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的輔助圖案工具的匹配方法，其特征在于所述多個(gè)第一初始圖案(32' -36')依據(jù)一第一末端調(diào)整規(guī)則進(jìn)行調(diào)整。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的輔助圖案工具的匹配方法，其特征在于產(chǎn)生該對(duì)比輔助圖案(40)的步驟包括 依據(jù)該特定測(cè)試布局(20)產(chǎn)生一第二初始輔助圖案(40')，該第二初始輔助圖案(40')包括多個(gè)第二初始圖案(42' -46')，所述多個(gè)第二初始圖案(42' -46')彼此至少部分重疊；及 調(diào)整所述多個(gè)第二初始圖案(42' -46')以形成該對(duì)比輔助圖案(40)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的輔助圖案工具的匹配方法，其特征在于所述多個(gè)第二初始圖案(42' -46')依據(jù)一第二末端調(diào)整規(guī)則進(jìn)行調(diào)整。
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的輔助圖案工具的匹配方法，其特征在于若該對(duì)比輔助圖案(40)實(shí)質(zhì)上與該目標(biāo)輔助圖案(30)匹配，決定該第二輔助圖案工具為可接受；否則，修正用以產(chǎn)生該對(duì)比輔助圖案(40)的規(guī)則，以產(chǎn)生新的對(duì)比輔助圖案。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的輔助圖案工具的匹配方法，其特征在于產(chǎn)生新的對(duì)比輔助圖案的步驟包括 依據(jù)該特定測(cè)試布局(20)產(chǎn)生一修正后初始輔助圖案，該修正后初始輔助圖案包括多個(gè)修正后初始圖案，所述多個(gè)修正后初始圖案彼此至少部分重疊；及 調(diào)整所述多個(gè)修正后初始圖案以形成該新的對(duì)比輔助圖案，其中，比較該新的對(duì)比輔助圖案與該目標(biāo)輔助圖案(30)，以決定接受或拒絕該第二輔助圖案工具。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的輔助圖案工具的匹配方法，其特征在于若該新的對(duì)比輔助圖案實(shí)質(zhì)上與該目標(biāo)輔助圖案(30)匹配，決定該第二輔助圖案工具為可接受；否則，決定該第二輔助圖案工具為被拒絕。
9.根據(jù)權(quán)利要求I所述的輔助圖案工具的匹配方法，其特征在于該第一輔助圖案工具及該第二輔助圖案工具包含于相同的裝置內(nèi)。
10.根據(jù)權(quán)利要求I所述的輔助圖案工具的匹配方法，其特征在于該第一輔助圖案工具及該第二輔助圖案工具包含于不相同的裝置內(nèi)。
11.根據(jù)權(quán)利要求I所述的輔助圖案工具的匹配方法，其特征在于該目標(biāo)輔助圖案(30)的安排實(shí)質(zhì)上呈L形、U形或N形。
12.根據(jù)權(quán)利要求I所述的輔助圖案工具的匹配方法，其特征在于該特定測(cè)試布局(20)包括多個(gè)主要圖案，該目標(biāo)輔助圖案(30)位于二相鄰主要圖案間。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的輔助圖案工具的匹配方法，其特征在于該目標(biāo)輔助圖案(30)選自于截線或散射條或其組合。
全文摘要
一種輔助圖案工具的匹配方法包括以下步驟依據(jù)一特定測(cè)試布局(layout)以一第一輔助圖案工具產(chǎn)生一目標(biāo)輔助圖案；依據(jù)該特定測(cè)試布局以一第二輔助圖案工具產(chǎn)生一對(duì)比輔助圖案；及比較該對(duì)比輔助圖案與該目標(biāo)輔助圖案，以決定接受或拒絕該第二輔助圖案工具。本發(fā)明輔助圖案工具的匹配方法，用以評(píng)估新版本或新開(kāi)發(fā)的輔助圖案工具的操作是否友善。
文檔編號(hào)G06F17/50GK102737139SQ20111012810
公開(kāi)日2012年10月17日 申請(qǐng)日期2011年5月18日 優(yōu)先權(quán)日2011年4月5日
發(fā)明者傅國(guó)貴, 劉獻(xiàn)文, 陳逸男 申請(qǐng)人:南亞科技股份有限公司