專利名稱：電容式觸控面板及降低其金屬導(dǎo)體可見(jiàn)度的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及電容式觸控技術(shù)，尤其涉及一種單層透明導(dǎo)電結(jié)構(gòu)的電容式觸控面板，提供了一種電容式觸控面板及降低該電容式觸控面板金屬導(dǎo)體可見(jiàn)度的方法。
背景技術(shù)：
電容式觸控面板是利用人體與感測(cè)電極之間的電流感應(yīng)來(lái)進(jìn)行工作的，較常見(jiàn)的電容式觸控面板的結(jié)構(gòu)包括透明基板、感應(yīng)電極層以及透明保護(hù)層，其中，所述感應(yīng)電極層設(shè)置于所述透明基板上，用于感應(yīng)觸摸動(dòng)作并產(chǎn)生感應(yīng)信號(hào)。當(dāng)使用者的手指與觸控面板相接觸時(shí)，帶走一部分電荷形成很小的電流，該電流信號(hào)經(jīng)傳輸線傳輸至控制器，所述控制器接收并處理而得到觸摸點(diǎn)的位置信息。其中，所述電容式觸控面板的感應(yīng)電極層通常采用透明導(dǎo)電氧化物薄膜材料(通常采用氧化銦錫ΙΤ0)通過(guò)鍍膜蝕刻形成一定圖案的電極，所述電極圖案包括不同分布方式的多個(gè)感應(yīng)單元及感應(yīng)單元之間的連接導(dǎo)線。因而，現(xiàn)有的電容式觸控面板就其分布的電極圖案結(jié)構(gòu)而言，可分為單層ITO結(jié)構(gòu)、雙層ITO結(jié)構(gòu)等結(jié)構(gòu)。單層ITO結(jié)構(gòu)是指不同軸向(坐標(biāo)軸)的電極設(shè)在同一層上的電極結(jié)構(gòu)，雙層ITO結(jié)構(gòu)式指不同軸向的電極分設(shè)在兩層上的電極結(jié)構(gòu)。如圖1、圖2和圖3所示，一種單層ITO結(jié)構(gòu)的電容式觸控面板10包括透明基板 1、感應(yīng)電極層2、絕緣層3和透明保護(hù)層4。其中，所述透明保護(hù)層4設(shè)于該觸控面板的最外層，覆蓋于所述感應(yīng)電極層2上。所述感應(yīng)電極層2設(shè)置于所述透明基板1上，該感應(yīng)電極層2包括第一軸向電極21和第二軸向電極22彼此絕緣分別設(shè)于透明基板1的同一表面上兩個(gè)軸向上。所述絕緣層3包括多個(gè)絕緣片31，所述第一軸向電極21和所述第二軸向電極22通過(guò)絕緣片31相互隔離。進(jìn)一步的，每一個(gè)所述第一軸向電極21包括多個(gè)第一感應(yīng)單元211和多個(gè)第一軸向?qū)Ь€212，所述第一軸向?qū)Ь€212連接于同一第一軸向電極21兩相鄰的第一感應(yīng)單元 211之間。每一個(gè)所述第二感應(yīng)單元22包括多個(gè)第二感應(yīng)單元221和多個(gè)第二軸向?qū)Ь€ 222，所述第二軸向?qū)Ь€222連接于同一第二軸向電極22兩相鄰的第二感應(yīng)單元221之間。 所述絕緣片31設(shè)置于第一軸向?qū)Ь€212和第二軸向?qū)Ь€222之間，使第一軸向電極21與第二軸向電極22絕緣。如圖3所示，電容式觸控面板10還包括一控制電路(未圖示)，用于接收和處理感應(yīng)信號(hào)，通過(guò)傳輸線與所述感應(yīng)單元相連接，所述第一軸向電極21通過(guò)第一傳輸線23與所述控制電路電性連接，所述第二軸向電極22通過(guò)第二傳輸線M與所述控制電路電性連接。 所述的第一傳輸線23和第二傳輸線M通常采用金屬導(dǎo)線(metal trace)來(lái)連接。如上所述的電容式觸控面板中，由于金屬導(dǎo)體具有良好的導(dǎo)電性和較低的價(jià)格， 在實(shí)際生產(chǎn)中，第二軸向?qū)Ь€222通常采用金屬導(dǎo)線(導(dǎo)體)來(lái)連接。然而金屬導(dǎo)線具有一定的寬度，由于金屬導(dǎo)線的反射率較高，與周圍透明材料之間存在差異，當(dāng)金屬導(dǎo)線寬度大于一定值，人的肉眼就可以察覺(jué)到明顯的差別，產(chǎn)生金屬導(dǎo)線可視的產(chǎn)品外觀缺陷。
因而，現(xiàn)有技術(shù)所采用改善金屬導(dǎo)線可視問(wèn)題的方法有以下兩種(1)采取縮減金屬導(dǎo)線的外型尺寸，使其線寬小于一個(gè)很小的值，在實(shí)際生產(chǎn)制程中較難實(shí)現(xiàn)，造成生產(chǎn)良率下降，而且采用此方法未能完全消除金屬導(dǎo)線可視問(wèn)題；(2)采用透明ITO作為金屬導(dǎo)線，因連接導(dǎo)線采用與透明電極同樣的反射率低的材料制成，可形成良好外觀的產(chǎn)品，但此方法采用了成本較高的材料(ITO)，在實(shí)際生產(chǎn)中又需要再增加一道ITO鍍膜、一道黃光曝光顯影制程與一道蝕刻剝膜制程，使制造成本增加。

發(fā)明內(nèi)容
為了解決上述的問(wèn)題，本發(fā)明的目的在于提供一種降低金屬導(dǎo)體可見(jiàn)度的電容式觸控面板，具有良好的視覺(jué)效果。本發(fā)明的另一目的是提供一種降低電容式觸控面板的金屬導(dǎo)體可見(jiàn)度的方法，提高產(chǎn)品的外觀品質(zhì)，可以在保證生產(chǎn)制程良率的同時(shí)降低成本。為了達(dá)成上述目的，本發(fā)明是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的一種電容式觸控面板，包括一透明基板，一用于感應(yīng)觸摸動(dòng)作并產(chǎn)生感應(yīng)信號(hào)的感應(yīng)電極層，該感應(yīng)電極層包括布設(shè)于所述透明基板上的至少一金屬導(dǎo)體，其中，所述電容式觸控面板還包括至少一低反射膜層以相應(yīng)地覆設(shè)于每一個(gè)所述金屬導(dǎo)體上。其中，所述金屬導(dǎo)體是金屬導(dǎo)線。進(jìn)一步的，所述的感應(yīng)電極層包括多個(gè)第一軸向電極和多個(gè)第二軸向電極，第一軸向電極與第二軸向電極相互垂直且彼此絕緣，其中第一軸向電極或第二軸向電極中包括至少兩個(gè)電極感應(yīng)單元，所述的金屬導(dǎo)體連接于兩個(gè)電極感應(yīng)單元之間。進(jìn)一步的，所述低反射膜層的反射率在80%以下，由低反射率材料鍍膜形成。所述低反射率材料包括氮化物、氧化物、氮化物及氧化物的混合物或深色UV感光有機(jī)材料。其中，所述氮化物包括鉻的氮化物(CrN)、鈦的氮化物(TiN)或鋯的氮化物(&N)等金屬氮化物，所述氧化物包括鉻的氧化物(CrO)、鈦的氧化物(TiO)或鋯的氧化物(&0)等金屬氧化物。所述的深色UV感光有機(jī)材料包括灰色、棕色或黑色光阻材料。一種降低電容式觸控面板的金屬導(dǎo)體可見(jiàn)度的方法，該方法應(yīng)用在帶有金屬導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的電容式觸控面板上，所述電容式觸控面板包括設(shè)置有感應(yīng)電極層的透明基板，其中所述感應(yīng)電極層包括布設(shè)于所述透明基板上的至少一金屬導(dǎo)體，該方法中包括采用低反射材料在金屬導(dǎo)體上鍍一低反射膜層的步驟。其中，所述的金屬導(dǎo)體是金屬導(dǎo)線。進(jìn)一步的，所述低反射率材料包括氮化物、氧化物、氮化物及氧化物的混合物或深色UV感光有機(jī)材料。其中，所述氮化物包括鉻的氮化物(CrN)、鈦的氮化物(TiN)或鋯的氮化物(&N)等金屬氮化物，所述氧化物包括鉻的氧化物(CrO)、鈦的氧化物(TiO)或鋯的氧化物(&0)等金屬氧化物。所述的深色UV感光有機(jī)材料包括灰色、棕色或黑色光阻材料。本發(fā)明利用鍍膜技術(shù)在金屬導(dǎo)線(導(dǎo)體)上增加一黑色或者暗色的低反射膜層， 以降低金屬導(dǎo)線的光線反射，進(jìn)而降低金屬導(dǎo)線的可見(jiàn)度使其不易被人眼看到，從而使透明的電容式觸控面板具有良好的視覺(jué)效果。這種采用金屬導(dǎo)線上增加一低反射膜層的方法，在實(shí)際生產(chǎn)中不需要減小金屬導(dǎo)線的寬度，制程更容易實(shí)現(xiàn)，可降低產(chǎn)品不良率。此外， 該方法與用ITO代替金屬導(dǎo)線作為連接導(dǎo)線的方法相比，本發(fā)明只需增加一道黃光曝光顯影制程即可，不需要增加ITO鍍膜和蝕刻剝膜制程，生產(chǎn)成本可降低。


圖1是現(xiàn)有的一種電容式觸控面板結(jié)構(gòu)的截面示意圖；圖2是圖1的A-A剖面示意圖；圖3是現(xiàn)有的一種電容式觸控面板結(jié)構(gòu)的局部平面示意圖；圖4是本發(fā)明電容式觸控面板結(jié)構(gòu)第一實(shí)施方式的截面示意圖；圖5是圖4的B-B剖面示意圖；圖6是本發(fā)明電容式觸控面板結(jié)構(gòu)第一實(shí)施方式的局部平面示意圖；圖7是在透明基板的表面上形成有多個(gè)第一感應(yīng)單元、第一軸向?qū)Ь€與第二感應(yīng)單元的局部平面示意圖；圖8是在第一軸向?qū)Ь€表面上設(shè)置絕緣片的局部平面示意圖；圖9是本發(fā)明電容式觸控面板第二實(shí)施方式的局部平面示意圖；圖10是本發(fā)明電容式觸控面板第二實(shí)施方式的截面示意圖。符號(hào)說(shuō)明10電容式觸控面板1透明基板2感應(yīng)電極層
21第--軸向電極22第二二軸向電極
211 第--感應(yīng)單元212第--軸向?qū)Ь€
221 第:二感應(yīng)單元222第:二軸向?qū)Ь€
23第—-傳輸線24第二二傳輸線
3絕緣層4透明保護(hù)層
31絕緣片32貫穿孔
5低反射膜層5a低反射膜片
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖與具體實(shí)施方式
對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)描述。第一實(shí)施方式如圖4、圖5和圖6所示的一種電容式觸控面板10，包括透明基板1、感應(yīng)電極層 2、絕緣層3和透明保護(hù)層4。其中，所述感應(yīng)電極層2設(shè)置于所述透明基板1上，該感應(yīng)電極層2包括設(shè)置于第一軸向上的第一軸向電極21和設(shè)置于第二軸向上的第二軸向電極22， 第一軸向與第二軸向在相互垂直的方向上，所述第一軸向電極21和第二軸向電極22設(shè)置于所述透明基板1的同一表面上且彼此絕緣。所述絕緣層3包括多個(gè)絕緣片31，所述第一軸向電極21和所述第二軸向電極22通過(guò)絕緣片31相互隔離。所述透明保護(hù)層4設(shè)于該觸控面板的最外層，覆蓋于所述感應(yīng)電極層2上，通常采用有機(jī)聚合物材料。進(jìn)一步的，所述第一軸向電極21包括多個(gè)第一感應(yīng)單元211和多個(gè)第一軸向?qū)Ь€ 212，所述第一軸向?qū)Ь€212連接于同一第一軸向電極21兩相鄰的第一感應(yīng)單元211之間。 所述第二感應(yīng)單元22包括多個(gè)第二感應(yīng)單元221和多個(gè)第二軸向?qū)Ь€222，所述第二軸向?qū)Ь€222連接于同一第二軸向電極22兩相鄰的第二感應(yīng)單元221之間。所述絕緣片31設(shè)置于第一軸向?qū)Ь€212和第二軸向?qū)Ь€222之間，使第一軸向電極21與第二軸向電極22絕緣。進(jìn)一步的，所述第二軸向?qū)Ь€222是金屬導(dǎo)線，在所述第二軸向?qū)Ь€222的表面上鍍有一低反射膜層5，該低反射膜層5被分成多個(gè)低反射膜片fe —一地敷設(shè)于每一金屬導(dǎo)線上，如圖4和圖5所示，該低反射膜層5可降低光線反射率，其反射率范圍在80%以下，使金屬導(dǎo)線的可見(jiàn)度降低。其中，所述的低反射膜層5是由包括氮化物、氧化物或其混合物鍍膜形成的，所述的氮化物包括金屬氮化物，如CrN、TiN或^^等，所述的氧化物包括金屬氧化物，如Cr0、Ti0 或ZrO等?；蛘?，所述的低反射膜層是由包括深色UV感光有機(jī)材料鍍膜形成的，所述的深色UV感光有機(jī)材料包括灰色、棕色或黑色光阻材料。進(jìn)一步的，所述的第一感應(yīng)單元211、第二感應(yīng)單元221和第一軸向?qū)Ь€212采用是透明導(dǎo)電材料制成的，所述透明導(dǎo)電材料包括透明氧化銦錫(ITO)或透明氧化銻錫 (ATO)等透明導(dǎo)電氧化物。所述絕緣片31以透明的絕緣材料(通常采用二氧化硅等材料) 制成。如圖6所示，電容式觸控面板10還包括一控制電路，用于接收和處理感應(yīng)信號(hào)，通過(guò)傳輸線與所述感應(yīng)單元相連接，所述第一軸向電極21通過(guò)第一傳輸線23與所述控制電路電性連接，所述第二軸向電極22通過(guò)第二傳輸線M與所述控制電路電性連接。所述的第一傳輸線23和第二傳輸線M通常采用金屬導(dǎo)線(metal trace)來(lái)連接。一種降低電容式觸控面板的金屬導(dǎo)線可見(jiàn)度的制作方法，包括步驟1 在一透明基板1上采用透明導(dǎo)電材料鍍膜并蝕刻形成多個(gè)相間隔的第一感應(yīng)單元211、多個(gè)相間隔的第二感應(yīng)單元221及連接于同一軸向電極上兩相鄰的第一感應(yīng)單元211的第一軸向?qū)Ь€212，如圖7所示；步驟2 在所述第一軸向?qū)Ь€212的表面上采用透明絕緣材料(如二氧化硅等)覆設(shè)絕緣片31，如圖8所示；步驟3 采用導(dǎo)電性佳的金屬材料在所述絕緣片31的表面上布設(shè)第二軸向?qū)Ь€ 222，所設(shè)的第二軸向?qū)Ь€222連接于同一軸向電極上兩相鄰的所述第二感應(yīng)單元221，其中所述第二軸向?qū)Ь€222是金屬導(dǎo)線，并在所述金屬導(dǎo)線上鍍一低反射膜層5，所形成的結(jié)構(gòu)如圖6所示，其中，該過(guò)程中制作所述金屬導(dǎo)線的方法有(1)在所述透明基板1上涂布一金屬層后；將氮化物或氧化物于所述金屬層之上鍍一低反射材料層；再通過(guò)黃光微影將所述金屬層與所述低反射材料層一起蝕刻形成所述金屬導(dǎo)體及所述低反射膜層5，使所述低反射膜層5被分成多個(gè)低反射膜片fe —一敷設(shè)于金屬導(dǎo)體上；(2)在所述透明基板上涂布一金屬層后；將黑色光阻材料于所述金屬層之上涂布一黑色光阻層；通過(guò)黃光微影將所述黑色光阻層顯影曝光形成所述低反射膜層5，該低反射膜層5分成多個(gè)低反射膜片fe ；再將所形成的低反射膜片fe作為蝕刻屏蔽層，將所述金屬層蝕刻形成所述金屬導(dǎo)體，使每個(gè)金屬導(dǎo)體上均覆蓋有一所述低反射膜片fe ；(3)在所述透明基板上涂布一金屬層后，并將該金屬層蝕刻形成所述金屬導(dǎo)體； 將黑色光阻材料于所述金屬層之上涂布一黑色光阻層；再通過(guò)黃光微影將所述黑色光阻層顯影曝光形成所述低反射膜層5，使該低反射膜層5形成多個(gè)低反射膜片fe敷設(shè)于所述金屬導(dǎo)體之上；步驟4 在經(jīng)上述過(guò)程處理的具有感應(yīng)電極層2的透明基板1表面，采用透明有機(jī)聚合物材料覆設(shè)一透明保護(hù)層4。以上步驟中第一軸向電極和第二軸向電極的數(shù)量可根據(jù)實(shí)際觸控面板所需的辨析度要求相應(yīng)增減，且其中步驟1與步驟3可以調(diào)換順序，即按步驟3—步驟2—步驟 1-步驟4的順序。同理，采用同樣的方法，亦可在第一傳輸線23和第二傳輸線M上鍍上一低反射膜層5來(lái)降低金屬導(dǎo)線的可見(jiàn)度。第二實(shí)施方式如圖9、圖10所示的另一種電容式觸控面板10，包括透明基板1、感應(yīng)電極層2、絕緣層3和透明保護(hù)層4。其中，所述感應(yīng)電極層2設(shè)置于所述透明基板1上，該感應(yīng)電極層 2包括設(shè)置于第一軸向上的第一軸向電極21和設(shè)置于第二軸向上的第二軸向電極22，第一軸向與第二軸向在相互垂直的方向上，所述第一軸向電極21和第二軸向電極22設(shè)置于所述透明基板1的同一表面上，其中，所述第一軸向電極21包括多個(gè)第一感應(yīng)單元211和多個(gè)第一軸向?qū)Ь€212，所述第一軸向?qū)Ь€212連接于同一第一軸向電極21兩相鄰的第一感應(yīng)單元211之間；所述第二感應(yīng)單元22包括多個(gè)第二感應(yīng)單元221。所述絕緣層3上設(shè)有多個(gè)貫穿孔32，所述絕緣層3的第一表面緊貼于所述感應(yīng)電極層2上，多個(gè)第二軸向?qū)Ь€ 222設(shè)置于所述絕緣層3的與所述第一表面相對(duì)的第二表面，所述第二軸向?qū)Ь€222的兩端分別穿過(guò)相應(yīng)的貫穿孔，并連接所述第二軸向電極22上相鄰的第二感應(yīng)單元221。所述透明保護(hù)層4設(shè)于該觸控面板的最外層，覆蓋于所述透明基板1和所述感應(yīng)電極層2上，通常采用有機(jī)聚合物材料。進(jìn)一步的，所述第二軸向?qū)Ь€222是金屬導(dǎo)線，在所述第二軸向?qū)Ь€222的表面上鍍有一低反射膜層5，該低反射膜層5被分成多個(gè)低反射膜片fe —一地敷設(shè)于每一金屬導(dǎo)線上，如圖10所示，該低反射膜層5可降低光線反射率，其反射率范圍在80%以下，使金屬導(dǎo)線的可見(jiàn)度降低。同樣地，所述電容式觸控面板相同的結(jié)構(gòu)層采用與第一實(shí)施方式一樣的材料制成，故不在此贅述。如圖9所示，該電容式觸控面板10還包括一控制電路，用于接收和處理感應(yīng)信號(hào)， 通過(guò)傳輸線與所述感應(yīng)單元相連接，所述第一軸向電極21通過(guò)第一傳輸線23與所述控制電路電性連接，所述第二軸向電極22通過(guò)第二傳輸線M與所述控制電路電性連接。所述的第一傳輸線23和第二傳輸線M也是采用金屬導(dǎo)線(metal trace)來(lái)連接。本實(shí)施方式中的電容式觸控面板的制作方法，與第一實(shí)施方式的制作方法類似， 其不同之處僅在于絕緣層的設(shè)置方式不一樣，故不在此贅述。以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所做的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明保護(hù)的范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種電容式觸控面板，包括一透明基板；一感應(yīng)電極層，用于感應(yīng)觸摸動(dòng)作并產(chǎn)生感應(yīng)信號(hào)，該感應(yīng)電極層包括布設(shè)于所述透明基板上的至少一金屬導(dǎo)體，其特征在于所述電容式觸控面板還包括至少一低反射膜層相應(yīng)地覆設(shè)于所述金屬導(dǎo)體上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電容式觸控面板，其特征在于所述感應(yīng)電極層包括至少兩個(gè)感應(yīng)單元，所述金屬導(dǎo)體連接于所述兩個(gè)感應(yīng)單元之間。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電容式觸控面板，其特征在于所述的感應(yīng)電極層包括多個(gè)第一軸向電極和多個(gè)第二軸向電極，所述第一軸向電極與所述第二軸向電極相互垂直且彼此絕緣，其中所述第一軸向電極或所述第二軸向電極中包括所述至少兩個(gè)感應(yīng)單元。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電容式觸控面板，其特征在于所述第一軸向電極和所述第二軸向電極布設(shè)于同一層且通過(guò)多個(gè)絕緣片彼此絕緣，每一絕緣片布設(shè)于相應(yīng)第一軸向電極和相應(yīng)第二軸向電極之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電容式觸控面板，其特征在于所述電容式觸控面板還包括設(shè)有多個(gè)貫穿孔的一絕緣層，所述第一軸向電極和所述第二軸向電極布設(shè)于所述絕緣層的第一表面，每一個(gè)第二軸向電極被多個(gè)第一軸向電極分成多個(gè)感應(yīng)單元，各感應(yīng)單元布設(shè)于相應(yīng)的兩個(gè)相鄰第一電極之間，多個(gè)連接導(dǎo)線設(shè)置于絕緣層的與所述第一表面相對(duì)的第二表面，各連接導(dǎo)線的兩端分別穿過(guò)相應(yīng)的貫穿孔，并連接所述第二軸向電極上兩相鄰的感應(yīng)單元。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的電容式觸控面板，其特征在于所述絕緣層以透明的絕緣材料制成。
7.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的電容式觸控面板，其特征在于所述感應(yīng)單元以透明導(dǎo)電材料制成。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的電容式觸控面板，其特征在于所述透明導(dǎo)電材料包括透明氧化銦錫(ITO)或透明氧化銻錫(ATO)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電容式觸控面板，其特征在于所述電容式觸控面板還包括一控制電路，用于接收和處理感應(yīng)信號(hào)，其中所述感應(yīng)電極層通過(guò)所述金屬導(dǎo)體連接至該控制電路。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的電容式觸控面板，其特征在于所述感應(yīng)電極層包括多個(gè)第一軸向電極和多個(gè)第二軸向電極，所述第一軸向電極與所述第二軸向電極相互垂直且彼此絕緣，其中所述第一軸向電極或所述第二軸向電極中包括至少兩個(gè)電極感應(yīng)單元。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電容式觸控面板，其特征在于所述低反射膜層的反射率在 80%以下。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電容式觸控面板，其特征在于所述低反射膜層是由低反射率材料鍍膜形成的。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的電容式觸控面板，其特征在于所述低反射率材料包括氮化物、氧化物、氮化物及氧化物的混合物或深色UV感光有機(jī)材料。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的電容式觸控面板，其特征在于所述氮化物包括鉻的氮化物、鈦的氮化物或鋯的氮化物。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的電容式觸控面板，其特征在于所述氧化物包括鉻的氧化物、鈦的氧化物或氧化鋯。
16.根據(jù)權(quán)利要求13所述的電容式觸控面板，其特征在于所述深色UV感光有機(jī)材料包括灰色、棕色或黑色光阻材料。
17.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電容式觸控面板，其特征在于所述的反射膜層包括多個(gè)低反射膜片，所述低反射膜片一一覆設(shè)于所述金屬導(dǎo)體上。
18.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電容式觸控面板，其特征在于所述電容式觸控面板還包括一透明保護(hù)層，該透明保護(hù)層覆蓋于所述感應(yīng)電極層及所述透明基板上。
19.一種降低電容式觸控面板的金屬導(dǎo)體可見(jiàn)度的方法，所述電容式觸控面板包括設(shè)置有感應(yīng)電極層的透明基板，其中所述感應(yīng)電極層包括布設(shè)于所述透明基板上的至少一金屬導(dǎo)體，其特征在于該方法中包括采用低反射材料在金屬導(dǎo)體上鍍一低反射膜層的步驟。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的降低電容式觸控面板的金屬導(dǎo)體可見(jiàn)度的方法，其特征在于所述感應(yīng)電極層包括至少兩個(gè)感應(yīng)單元，所述金屬導(dǎo)體連接于所述兩個(gè)感應(yīng)單元之間。
21.根據(jù)權(quán)利要求19所述的降低電容式觸控面板的金屬導(dǎo)體可見(jiàn)度的方法，其特征在于所述感應(yīng)電極層包括至少一個(gè)感應(yīng)單元被所述金屬導(dǎo)體與一控制電路相連接。
22.根據(jù)權(quán)利要求19所述的降低電容式觸控面板的金屬導(dǎo)體可見(jiàn)度的方法，其特征在于所述低反射材料包括氮化物、氧化物、氮化物及氧化物的混合物或深色UV感光有機(jī)材料。
23.根據(jù)權(quán)利要求22所述的降低電容式觸控面板的金屬導(dǎo)體可見(jiàn)度的方法，其特征在于所述氮化物包括鉻的氮化物、鈦的氮化物或鋯的氮化物。
24.根據(jù)權(quán)利要求22所述的降低電容式觸控面板的金屬導(dǎo)體可見(jiàn)度的方法，其特征在于所述氧化物包括鉻的氧化物、鈦的氧化物或氧化鋯。
25.根據(jù)權(quán)利要求22所述的降低電容式觸控面板的金屬導(dǎo)體可見(jiàn)度的方法，其特征在于所述深色UV感光有機(jī)材料包括灰色、棕色或黑色光阻材料。
26.根據(jù)權(quán)利要求19所述的降低電容式觸控面板的金屬導(dǎo)體可見(jiàn)度的方法，其特征在于該方法進(jìn)一步包括以下步驟在所述透明基板上涂布一金屬層；將氮化物或氧化物于所述金屬層之上鍍一低反射材料層；再通過(guò)黃光微影將所述金屬層與所述低反射材料層一起蝕刻形成所述金屬導(dǎo)體及所述低反射膜層，使所述低反射膜層被分成多個(gè)低反射膜片一一覆設(shè)于所述金屬導(dǎo)體上。
27.根據(jù)權(quán)利要求19所述的降低電容式觸控面板的金屬導(dǎo)體可見(jiàn)度的方法，其特征在于該方法進(jìn)一步包括以下步驟在所述透明基板上涂布一金屬層；將黑色光阻材料于所述金屬層之上涂布一黑色光阻層；通過(guò)黃光微影將所述黑色光阻層顯影曝光形成所述低反射膜層，該低反射膜層分成多個(gè)低反射膜片；再將所形成的低反射膜片作為蝕刻屏蔽層，將所述金屬層蝕刻形成所述金屬導(dǎo)體，使每個(gè)金屬導(dǎo)體上均覆蓋有一所述低反射膜片。
28.根據(jù)權(quán)利要求19所述的降低電容式觸控面板的金屬導(dǎo)體可見(jiàn)度的方法，其特征在于該方法進(jìn)一步包括以下步驟在所述透明基板上涂布一金屬層，并將該金屬層蝕刻形成所述金屬導(dǎo)體；將黑色光阻材料于所述金屬層之上涂布一黑色光阻層；再通過(guò)黃光微影將所述黑色光阻層顯影曝光形成所述低反射膜層，使該低反射膜層形成多個(gè)低反射膜片覆設(shè)于所述金屬導(dǎo)體之上。
全文摘要
本發(fā)明涉及電容式觸控技術(shù)，提供了一種電容式觸控面板及降低其金屬導(dǎo)體可見(jiàn)度的方法。該電容式觸控面板包括一透明基板，所述的透明基板上設(shè)有電極感應(yīng)層，該電極感應(yīng)層包括至少兩個(gè)感應(yīng)單元及至少一條金屬導(dǎo)線，所述感應(yīng)單元分隔設(shè)置，并通過(guò)所述金屬導(dǎo)線相連接，其中所述金屬導(dǎo)線上還鍍有一低反射膜層。本發(fā)明所提供的方法是在透明觸控面板的電極感應(yīng)層上，利用鍍膜技術(shù)在金屬導(dǎo)線上增加一黑色或者暗色的低反射膜層，從而降低金屬導(dǎo)線的光線反射，進(jìn)而降低金屬導(dǎo)線的可見(jiàn)度，具有良好的視覺(jué)效果，在生產(chǎn)制程中可加大金屬導(dǎo)線的制程窗口提高良率，只需增加一道黃光曝光顯影制程即可，在提高產(chǎn)品光學(xué)性能的同時(shí)降低生產(chǎn)成本。
文檔編號(hào)G06F3/044GK102243553SQ201010176328
公開(kāi)日2011年11月16日 申請(qǐng)日期2010年5月16日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月16日
發(fā)明者李裕文, 林清山 申請(qǐng)人:宸鴻科技(廈門)有限公司