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一種觸摸面板的制作方法

文檔序號(hào):6591516閱讀:146來源:國知局
專利名稱:一種觸摸面板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種信息輸入技術(shù),尤其涉及一種觸摸面板。
背景技術(shù)
觸摸技術(shù)的出現(xiàn),使信息輸入方式不在局限于傳統(tǒng)的鍵盤和鼠標(biāo)。近年來,由于 使用觸摸輸入技術(shù)可以使電子設(shè)備中原本用于制作傳統(tǒng)鍵盤或輸入鍵的位置,用于制成屏 幕顯示區(qū)域,使電子設(shè)備具有更寬更大的屏幕用于顯示如文字、圖片、視頻等信息,進(jìn)而使 觸摸技術(shù)取得了飛速發(fā)展。目前,觸摸面板被廣泛應(yīng)用于人們的日常生活之中,其中,觸摸 面板比較典型地應(yīng)用于手機(jī)、音樂視頻播放器(MP3/MP4等)、個(gè)人數(shù)字助理、全球定位系統(tǒng) (GPS)、社會(huì)公共服務(wù)機(jī)構(gòu)及大型公共場所的導(dǎo)航系統(tǒng)、金融機(jī)構(gòu)及其他以大眾為客戶的企 業(yè)的自助服務(wù)系統(tǒng)、個(gè)人掌上電腦等電子設(shè)備中。觸摸面板根據(jù)感測的原理不同可分為電阻式觸摸面板、電容式觸摸面板、超聲波 式觸摸面板以及紅外線式觸摸面板。其中,紅外線式觸摸面板和超聲波式觸摸面板是在觸摸面板的X軸方向和Y軸方 向的一側(cè)設(shè)置紅外線或超聲波的發(fā)射源,并在另一側(cè)設(shè)置接收器,當(dāng)用戶接觸面板時(shí),會(huì)干 擾到所述紅外線或超聲波,通過測量和計(jì)算受到干擾的位置,確定觸摸位置的坐標(biāo),并完成 對(duì)應(yīng)的輸入動(dòng)作。然而,紅外線式觸摸面板和超聲波式觸摸面板所發(fā)出的紅外線或超聲波 容易因外界環(huán)境的干擾,如外界物質(zhì)出現(xiàn)在紅外線或超聲波經(jīng)過的區(qū)域而影響觸控面板的 感測和判斷,進(jìn)而可能出現(xiàn)誤動(dòng)作或誤操作。電阻式觸摸面板由上下兩組透明導(dǎo)電膜(ΙΤ0,Indium Tin Oxide,氧化銦錫膜)疊 合而成,所述的透明導(dǎo)電膜包括多個(gè)電極。當(dāng)用戶觸摸面板時(shí),所述觸控面板受用戶施加的 壓力,使上下兩組透明導(dǎo)電膜上觸摸位置對(duì)應(yīng)處的上下電極導(dǎo)通,通過控制器感測面板上 的電壓變化,計(jì)算出觸摸點(diǎn)的位置,并完成相應(yīng)輸入操作。電阻式觸摸面板相對(duì)于上述紅外 線式觸摸面板和超聲波式觸摸面板而言,受外界環(huán)境的影響較?。坏请娮枋接|摸面板經(jīng) 常被擠壓,容易發(fā)生形變甚至斷裂,使所述觸控面板的觸控靈敏度下降,甚至喪失。電容式觸摸面板則是通過感測用戶觸摸點(diǎn)的電容變化來確定實(shí)際觸摸點(diǎn)的位置, 進(jìn)而完成對(duì)應(yīng)的輸入操作。所述電容式觸摸面板相對(duì)于上述電阻式觸摸面板來說,觸摸面 板不需被擠壓,只需輕輕觸摸即可,因此,不會(huì)出現(xiàn)如電阻式觸摸面板中出現(xiàn)的靈敏度下降 的問題。傳統(tǒng)的雙側(cè)雙層電容式觸摸面板如圖1至圖2所示,所述電容式觸摸面板20包括 透明玻璃基板21、第一透明導(dǎo)電層22a、第二透明導(dǎo)電層22b、絕緣層23、電路層24以及保 護(hù)層25。第一導(dǎo)電層22a和第二導(dǎo)電層22b形成于所述透明玻璃基板21的兩個(gè)相對(duì)的表 面,且所述第一導(dǎo)電層22a包括多個(gè)沿X軸方向相互串接的X軸電極22X,所述第二導(dǎo)電層 22b包括多個(gè)沿Y軸方向相互串接的Y軸電極22Y,并相互串接的多個(gè)X軸電極22X與相互 串接的多個(gè)Y軸電極22Y形成為互補(bǔ)的圖形。在上述第一透明導(dǎo)電層22a、第二透明導(dǎo)電層 22b上分別形成所述絕緣層23。在第一透明導(dǎo)電層22a的一側(cè)絕緣層23上依次設(shè)置所述電路層24和保護(hù)層25。然而上述電容式觸控面板的制作工藝中,需要先在透明玻璃基板的一側(cè)依次形成 透明導(dǎo)電層和絕緣層,在另一側(cè)加工所述透明導(dǎo)電層和絕緣層時(shí),需要對(duì)已經(jīng)形成的透明 導(dǎo)電層和絕緣層進(jìn)行保護(hù),增大了加工難度,而且比較容易破壞到先加工完成一側(cè)的透明 導(dǎo)電層和絕緣層,造成電容式觸摸面板的次品率較高。因此,業(yè)界發(fā)展出如圖3和圖4所示的在透明玻璃基板一側(cè)形成雙層透明電極層 的單側(cè)雙層電容式觸摸面板結(jié)構(gòu)30。所述電容式觸摸面板結(jié)構(gòu)30包括透明玻璃基板31、第 一透明導(dǎo)電層32a、第二透明導(dǎo)電層32b、絕緣層33以及保護(hù)層34。首先,在所述的透明玻 璃基板31上形成第一透明導(dǎo)電層32a,所述第一透明導(dǎo)電層32a上包括多條X軸線跡32X, 每條X軸線跡32X包括多個(gè)X軸電極。在所述第一透明導(dǎo)電層32a上形成絕緣層33,并在 所述絕緣層33上形成所述第二透明導(dǎo)電層32b。所述第二透明導(dǎo)電層32b上包括多條Y軸 線跡32Y,每條Y軸線跡32Y包括多個(gè)Y軸電極,且所述X軸線跡32X與所述Y軸線跡32b 之間形成圖形互補(bǔ)關(guān)系。最后,在所述第二透明導(dǎo)電層32b上形成所述保護(hù)層34。在電容式觸摸面板30中,需要制作兩層透明導(dǎo)電層,其增加了所述電容式觸摸面 板30的厚度,不利于其輕薄化。同時(shí),在所述電容式觸摸面板30的加工工藝中,雖然不需向 圖1所示的雙側(cè)雙層電容式觸摸面板20 —樣,在加工另一層透明導(dǎo)電層時(shí),需要保護(hù)另一 面已經(jīng)完成加工的透明導(dǎo)電層和絕緣層。但是第一透明導(dǎo)電層32a和第二透明導(dǎo)電層32b 不在同一平面上,且需先后分別形成所述兩層透明導(dǎo)電層,容易出現(xiàn)對(duì)位不準(zhǔn)確,造成第一 透明導(dǎo)電層32a上的X軸線跡32X圖形與第二透明導(dǎo)電層32b上的Y軸線跡32Y圖形不互 補(bǔ),進(jìn)而使第一透明導(dǎo)電層32a和第二透明導(dǎo)電層32b之間的寄生電容增大,影響所述電容 式觸摸面板30的觸控靈敏度。另外,第一透明導(dǎo)電層32a和第二透明導(dǎo)電層32b之間分層 設(shè)置,增加了所述電容式觸摸面板30的厚度,同樣不利于其輕薄化發(fā)展。鑒于上述電容式觸摸面板30有如此多缺點(diǎn),業(yè)界改進(jìn)上述電容式觸摸面板30,形 成如圖5所示的單側(cè)單層電容式觸摸面板40。所述電容式觸摸面板40包括電極層41、金 屬橋42、絕緣塊43以及保護(hù)層(圖中未示出)。所述電極層41由多條相互平行的X軸線 跡41a和多條相互平行的Y軸線跡41b交叉形成,所述多條X軸線跡41a與多條Y軸線跡 41b之間相互垂直,每一所述X軸線跡41a被與其相交的多條Y軸線跡41b隔斷成多個(gè)單元 41X,同一 X軸線跡41a的相鄰兩個(gè)單元通過所述金屬橋42實(shí)現(xiàn)電連接,且所述金屬橋42 與所述Y軸線跡41b之間設(shè)有絕緣塊43。所述保護(hù)層形成于所述電極層41、金屬橋42以 及絕緣塊43之上,以保護(hù)所述電極層41、金屬橋42以及絕緣塊43。然而,所述單側(cè)單層電容式觸摸面板40中包括金屬橋42,而該金屬橋42需要通過 額外的工藝形成于所述X軸線跡41a的兩個(gè)相鄰單元41X之間,且所述金屬橋42的加工工 藝與所述X軸線跡41a和所述Y軸線跡41b之間的加工工藝不同,因此,需要通過專業(yè)設(shè)備 和材料來制作所述金屬橋42,不僅增加了工藝,降低了生產(chǎn)效率,而且增加了所述電容式觸 摸面板40生產(chǎn)成本。

實(shí)用新型內(nèi)容有鑒于此,有必要提供一種便于提高生產(chǎn)效率且低成本的觸摸面板。一種觸摸面板包括基板和電極層,所述電極層形成于所述基板上,且所述電極層包括多條X軸線跡、多條Y軸線跡、多個(gè)橋結(jié)構(gòu)以及多個(gè)絕緣塊,所述多條X軸線跡之間彼此相互平行,所述多條Y軸線跡之間彼此相互平行,所述多條X軸線跡與所述多條Y軸線跡 彼此相互交叉,所述多條Y軸線跡被所述多條X軸線跡分割成多個(gè)單元,所述橋結(jié)構(gòu)位于所 述X軸線跡與所述Y軸線跡的交叉處,用于連接位于同一條所述X軸線跡兩側(cè)屬于同一條 所述Y軸線跡上的相鄰兩個(gè)單元,所述橋結(jié)構(gòu)形成于所述基板上,且所述絕緣塊設(shè)置于所 述橋結(jié)構(gòu)上,所述X軸線跡與所述橋結(jié)構(gòu)重疊的部分位于所述絕緣塊之上,并通過所述絕 緣塊將所述X軸線跡與所述橋結(jié)構(gòu)絕緣開,所述橋結(jié)構(gòu)的制作材料和工藝與所述X軸線跡 與所述Y軸線跡的制作材料和工藝相同。本實(shí)用新型提供的觸摸面板中,所述X軸線跡包括多個(gè)間隔排列的X軸向電極和 多條將所述多個(gè)X軸向電極連接中屬于同一X軸線跡上的兩個(gè)相鄰X軸向電極在一起的多 條X軸引線,所述Y軸線跡包括多個(gè)間隔排列的Y軸向電極和多條將所述多個(gè)Y軸向電極 中屬于同一 Y軸線跡上的兩個(gè)相鄰Y軸向電極連接在一起的多條Y軸引線,所述X軸引線 在所述X軸線跡與所述Y軸線跡相交叉的位置將所述Y軸引線分割成兩段,所述多條Y軸 線跡被所述多條X軸線跡分割成的所述多個(gè)單元的每一單元包括一個(gè)Y軸向電極和該Y軸 向電極兩側(cè)相鄰的兩條Y軸引線的各一段。本實(shí)用新型提供的觸摸面板中,所述橋結(jié)構(gòu)在所述Y軸線跡方向上的跨度大于將 所述橋結(jié)構(gòu)連接的所述Y軸引線分隔成兩段的所述X軸引線在所述Y軸線跡方向上的跨 度;所述絕緣塊在所述X軸線跡方向上的跨度大于所述橋結(jié)構(gòu)在所述X軸線跡方向上的跨 度,所述絕緣塊在所述Y軸線跡方向上的跨度小于或等于所述橋結(jié)構(gòu)在所述Y軸線跡方向 上的跨度。本實(shí)用新型提供的觸摸面板中,所述橋結(jié)構(gòu)在垂直于所述電極層方向上的厚度大 于所述X軸線跡和所述Y軸線跡在所述垂直于所述電極層方向上的厚度。本實(shí)用新型提供的觸摸面板中,所述制作材料為透明氧化物,所述制作工藝包括 濺射工藝和光刻工藝。本實(shí)用新型提供的觸摸面板中,所述觸摸面板還包括保護(hù)層,所述保護(hù)層形成于 所述電極層之上,用于保護(hù)所述電極層。在本實(shí)用新型提供的觸摸面板中,制作電極層的原材料如透明氧化物來制作現(xiàn)有 單側(cè)單層電容式觸摸面板中的金屬橋結(jié)構(gòu),使所述橋結(jié)構(gòu)的制作設(shè)備和原材料與所述電極 層的制作設(shè)備和原材料相同,進(jìn)而可節(jié)省制作金屬橋的原材料和專業(yè)設(shè)備,降低生產(chǎn)所述 觸摸面板的生產(chǎn)成本;同時(shí),也可節(jié)省所述金屬橋的制作工藝,提高觸摸面板的生產(chǎn)效率; 同時(shí),也進(jìn)一步地,所述橋結(jié)構(gòu)使用制作所述電極層的材料如透明氧化物來制作,可避免傳 統(tǒng)的金屬橋結(jié)構(gòu)中金屬的氧化腐蝕,進(jìn)而影響觸摸面板的靈敏度,甚至喪失觸摸感應(yīng)功能。

下面將結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明,附圖中圖1為傳統(tǒng)雙側(cè)雙層電容式觸摸面板的剖面示意圖。圖2為圖1所示的觸摸面板的兩透明導(dǎo)電層的結(jié)構(gòu)示意圖。圖3為傳統(tǒng)單側(cè)雙層電容式觸摸面板的剖面示意圖。圖4為圖3所示的觸摸面板的兩透明導(dǎo)電層的結(jié)構(gòu)示意圖。[0026]圖5為傳統(tǒng)單側(cè)單層電容式觸摸面板的示意圖。圖6為本實(shí)用新型提供的觸摸面板的示意圖。圖7為圖6中觸摸面板的A-A向剖面示意圖。圖8為圖6中觸摸面板的B-B向剖面示意圖。圖9A至圖9D為第一較佳實(shí)施方式的觸摸面板的制造流程示意圖。圖IOA至圖IOE為第二較佳實(shí)施方式的觸摸面板的制造流程示意圖。
具體實(shí)施方式
為了克服現(xiàn)有技術(shù)中的觸摸面板的生產(chǎn)效率較低且成本高的問題,本實(shí)用新型利用制作電極層的原材料如透明氧化物ITO(Indium Tin Oxide,氧化銦錫)來制作現(xiàn)有單 側(cè)單層電容式觸摸面板中的金屬橋結(jié)構(gòu),使所述橋結(jié)構(gòu)的制作設(shè)備和原材料與所述電極層 的制作設(shè)備和原材料相同,進(jìn)而可節(jié)省制作金屬橋的原材料和專業(yè)設(shè)備,降低生產(chǎn)所述觸 摸面板的生產(chǎn)成本;同時(shí),也可節(jié)省所述金屬橋的制作工藝,提高觸摸面板的生產(chǎn)效率;同 時(shí),也進(jìn)一步地,所述橋結(jié)構(gòu)使用制作所述電極層的材料如透明氧化物來制作,可避免傳統(tǒng) 的金屬橋結(jié)構(gòu)中金屬的氧化腐蝕,進(jìn)而影響觸摸面板的靈敏度,甚至喪失觸摸感應(yīng)功能。以下結(jié)合說明書附圖對(duì)本實(shí)用新型提供的觸摸面板進(jìn)行詳細(xì)說明。請(qǐng)同時(shí)參閱說明書附圖6至附圖8,其中,圖6為本實(shí)用新型提供的觸摸面板100 的示意圖,圖7為圖6中所示的觸摸面板100的A-A向剖面示意圖,圖8為圖6中所示的觸 摸面板10的B-B向剖面示意圖。所述觸摸面板100包括基板110、電極層120以及保護(hù)層 (圖中未示出)。其中,所述基板110包括玻璃基板或樹脂基板。所述電極層120形成于所述基板110上,且所述電極層120包括多條X軸跡線 120x、多條Y軸跡線120y、多個(gè)橋結(jié)構(gòu)140以及以及多個(gè)絕緣塊130,且所述多條X軸線跡 120x之間相互平行,所述多條Y軸線跡120y之間相互平行,所述多條X軸線跡120x分別與 多條Y軸線跡120y彼此相互交叉。所述X軸跡線120x包括多個(gè)X軸向電極125以及將多個(gè)X軸向電極125中相鄰 兩個(gè)X軸向電極125串接在一起的多條X軸引線127。所述Y軸線跡120y包括多個(gè)Y軸向 電極121以及將多個(gè)Y軸向電極121中相連兩個(gè)Y軸向電極121串接在一起的多條Y軸引 線123。每條所述X軸引線127與每條所述Y軸引線123在所述X軸跡線120x與Y軸線 跡120y相交叉處相交,且所述Y軸引線123被所述X軸引線127分成兩段,進(jìn)而使Y軸線 跡120y被X軸線跡120x分隔成多個(gè)單元,所述每個(gè)單元包括一個(gè)Y軸向電極121和位于 該Y軸向電極121兩側(cè)的相鄰兩條Y軸引線123的各一段。所述橋結(jié)構(gòu)140設(shè)置于所述基板110上,且位于所述X軸線跡120x與Y軸線跡 120y彼此相互交叉處,其用于連接被X軸引線127分隔成兩段的位于同一 Y軸線跡120y上 相鄰的Y軸引線123,以實(shí)現(xiàn)所述Y軸引線123的兩段之間的電性連接。所述橋結(jié)構(gòu)140在 Y軸線跡120y方向上的跨度大于將該橋結(jié)構(gòu)140連接的所述Y軸引線123分隔成兩段的X 軸引線127在Y軸線跡120y方向上的跨度。所述橋結(jié)構(gòu)140的形狀可以是但不限于圓形、 矩形、多邊形等。所述絕緣塊130設(shè)置于所述橋結(jié)構(gòu)140上,且所述X軸線跡120x與所述橋結(jié)構(gòu) 140重疊的部分X軸引線127位于所述絕緣塊130之上,以通過所述絕緣塊130將所述橋結(jié)構(gòu)140與所述X軸引線127絕緣開。所述絕緣塊130的形狀與所述橋結(jié)構(gòu)相似,其在所述X軸線跡120x方向上的跨度大于所述橋結(jié)構(gòu)140在所述X軸線跡120x方向上的跨度, 且所述絕緣塊130在所述Y軸線跡120y方向上的跨度小于或等于所述橋結(jié)構(gòu)140在所述 Y軸線跡120y方向上的跨度。所述橋結(jié)構(gòu)140與所述X軸線跡120x和所述Y軸線跡120y使用相同的原材料制 作而成,且所述制作的工藝也相同,所述相同的原材料可以是但不限于透明導(dǎo)電氧化物,如 氧化銦錫、氧化銦鋅等。所述橋結(jié)構(gòu)140在垂直于所述電極層120方向上的厚度大于所述X 軸引線127和所述Y軸引線123在所述垂直于所述電極層120方向上的厚度,以保證所述 橋結(jié)構(gòu)140的電阻小于所述X軸引線127和所述Y軸引線123。所述保護(hù)層形成于所述電極層120之上,其用于保護(hù)所述電極層120上的X軸跡 線120x和所述Y軸線跡120y以及所述橋結(jié)構(gòu)140和絕緣塊130。請(qǐng)同時(shí)參閱說明書附圖9A至附圖9D,其為第一較佳實(shí)施方式的觸摸面板100的制 造流程示意圖。在圖9A中,其示意在提供的所述基板110上形成所述橋結(jié)構(gòu)140。所述橋 結(jié)構(gòu)140在本實(shí)施方式中使用氧化銦錫制作而成,所述橋結(jié)構(gòu)140按照預(yù)設(shè)好的圖案依次 經(jīng)濺射工藝和光刻工藝形成于所述基板上,所述預(yù)設(shè)的圖案為X軸線跡120x與所述Y軸線 跡120y之間相互交叉之處形成的圖案。在圖9B中,其示意在所述橋結(jié)構(gòu)140上形成絕緣塊130。所述絕緣塊130由絕緣 材料制成130,其覆蓋所述橋結(jié)構(gòu)140的大部分區(qū)域,僅露出所述橋結(jié)構(gòu)140在所述Y軸跡 線120y方向上的兩端。在圖9C中,其示意在形成了所述橋結(jié)構(gòu)140和所述絕緣塊130的基板110上形成 所述X軸線跡120X和所述Y軸線跡120y。所述X軸線跡120x和所述Y軸線跡120y亦依 次經(jīng)濺射工藝和光刻工藝形成于基板110上,且所述X軸線跡120x與所述Y軸線跡120y 在所述基板110上相互交叉并彼此圖形互補(bǔ),所述X軸線跡120x與所述橋結(jié)構(gòu)140重疊的 部分位于所述絕緣塊130之上,并通過所述絕緣塊130將所述X軸跡線與所述橋結(jié)構(gòu)140 絕緣開。所述橋結(jié)構(gòu)140用于電性連接同一條所述Y軸線跡120y上被所述X軸線跡120x 分割的多個(gè)單元中的相鄰兩個(gè)單元。所述橋結(jié)構(gòu)140在垂直于所述電極層120的方向上的 厚度大于所述X軸線跡120x和所述Y軸線跡120y在所述垂直于所所述電極層120方向上 的厚度,以保證所述橋結(jié)構(gòu)140具有較小的電阻,以實(shí)現(xiàn)Y軸線跡120y上兩個(gè)相鄰單元的 連接,提高所述觸摸面板120的觸摸靈敏度。在9D中,其示意在所述電極層120上形成所述保護(hù)層150。所述保護(hù)層150用于 保護(hù)所述電極層120,同時(shí)使所述觸摸面板100的表面更平整。請(qǐng)同時(shí)參閱說明書附圖IOA至附圖10E,其為第二較佳實(shí)施方式的觸摸面板100的 制造流程示意圖。在圖IOA中,其示意在提供的所述基板110上形成所述橋結(jié)構(gòu)140。所述 橋結(jié)構(gòu)140在本實(shí)施方式中使用氧化銦錫制作而成,所述橋結(jié)構(gòu)140按照預(yù)設(shè)好的圖案依 次經(jīng)濺射工藝和光刻工藝形成于所述基板上,所述預(yù)設(shè)的圖案為X軸線跡120x與所述Y軸 線跡120y之間相互交叉之處形成的圖案。在圖IOB中,其示意在所述橋結(jié)構(gòu)140上形成絕緣塊130。所述絕緣塊130由絕緣 材料制成130,其覆蓋所述橋結(jié)構(gòu)140的大部分區(qū)域,僅露出所述橋結(jié)構(gòu)140在所述Y軸跡 線120y方向上的兩端。[0047]在圖IOC中,其示意在形成了所述橋結(jié)構(gòu)140和所述絕緣塊130的基板110上形 成所述X軸線跡120X。所述X軸線跡120X亦依次經(jīng)濺射工藝和光刻工藝形成于基板110 上,且所述X軸線跡120x與所述橋結(jié)構(gòu)140重疊的部分位于所述絕緣塊130之上,并通過 所述絕緣塊130將所述X軸跡線120x與所述橋結(jié)構(gòu)140絕緣開。所述橋結(jié)構(gòu)140在垂直 于所述電極層120的方向上的厚度大于所述X軸線跡120x在所述垂直于所述電極層120 方向上的厚度,以保證所述橋結(jié)構(gòu)140具有較小的電阻。在圖IOD中,其示意在形成了上述橋結(jié)構(gòu)140、絕緣塊130以及所述X軸線跡120x 的基板Iio上形成Y軸線跡120y。所述Y軸線跡120y亦依次經(jīng)濺射工藝和光刻工藝形成 于基板110上,所述Y軸線跡120y與所述X軸線跡120x在所述基板110上相互交叉并彼 此圖形互補(bǔ)。所述橋結(jié)構(gòu)140用于電性連接同一條所述Y軸線跡120y上被所述X軸線跡 120x分割的多個(gè)單元中的相鄰兩個(gè)單元。所述橋結(jié)構(gòu)140在垂直于所述電極層120的方向 上的厚度大于所述Y軸線跡120y在所述垂直于所述電極層120方向上的厚度,以保證所述 橋結(jié)構(gòu)140具有較小的電阻,以實(shí)現(xiàn)同一 Y軸線跡120y上兩個(gè)相鄰單元的連接,提高所述 觸摸面板120的觸摸靈敏度。在圖IOE中,其示意在所述電極層120上形成所述保護(hù)層150。所述保護(hù)層150用于保護(hù)所述電極層120,同時(shí)使所述觸摸面板100的表面更平整。
權(quán)利要求一種觸摸面板,包括基板和電極層,所述電極層形成于所述基板上,且所述電極層包括多條X軸線跡、多條Y軸線跡、多個(gè)橋結(jié)構(gòu)以及多個(gè)絕緣塊,所述多條X軸線跡之間彼此相互平行,所述多條Y軸線跡之間彼此相互平行,所述多條X軸線跡與所述多條Y軸線跡彼此相互交叉,所述多條Y軸線跡被所述多條X軸線跡分割成多個(gè)單元,所述橋結(jié)構(gòu)位于所述X軸線跡與所述Y軸線跡的交叉處,用于連接位于同一條所述X軸線跡兩側(cè)屬于同一條所述Y軸線跡上的相鄰兩個(gè)單元,其特征在于所述橋結(jié)構(gòu)形成于所述基板上,且所述絕緣塊設(shè)置于所述橋結(jié)構(gòu)上,所述X軸線跡與所述橋結(jié)構(gòu)重疊的部分位于所述絕緣塊之上,并通過所述絕緣塊將所述X軸線跡與所述橋結(jié)構(gòu)絕緣開,所述橋結(jié)構(gòu)的制作材料和工藝與所述X軸線跡和所述Y軸線跡的制作材料和工藝相同。
2.如權(quán)利要求1所述的觸摸面板,其特征在于所述X軸線跡包括多個(gè)間隔排列的X 軸向電極和多條將所述多個(gè)X軸向電極中屬于同一 X軸線跡上的兩個(gè)相鄰X軸向電極連接 在一起的多條X軸引線,所述Y軸線跡包括多個(gè)間隔排列的Y軸向電極和多條將所述多個(gè) Y軸向電極中屬于同一 Y軸線跡上的兩個(gè)相鄰Y軸向電極連接在一起的多條Y軸引線,所 述X軸引線在所述X軸線跡與所述Y軸線跡相交叉的位置將所述Y軸引線分割成兩段,所 述多條Y軸線跡被所述多條X軸線跡分割成的所述多個(gè)單元的每一單元包括一個(gè)Y軸向電 極和該Y軸向電極兩側(cè)相鄰的兩條Y軸引線的各一段。
3.如權(quán)利要求2所述的觸摸面板,其特征在于所述橋結(jié)構(gòu)在所述Y軸線跡方向上的 跨度大于將所述橋結(jié)構(gòu)連接的所述Y軸引線分隔成兩段的所述X軸引線在所述Y軸線跡方 向上的跨度;所述絕緣塊在所述X軸線跡方向上的跨度大于所述橋結(jié)構(gòu)在所述X軸線跡方 向上的跨度,所述絕緣塊在所述Y軸線跡方向上的跨度小于或等于所述橋結(jié)構(gòu)在所述Y軸 線跡方向上的跨度。
4.如權(quán)利要求2所述的觸摸面板,其特征在于所述橋結(jié)構(gòu)在垂直于所述電極層方向 上的厚度大于所述X軸線跡和所述Y軸線跡在所述垂直于所述電極層方向上的厚度。
5.如權(quán)利要求2所述的觸摸面板,其特征在于所述制作材料為透明導(dǎo)電氧化物,所述 制作工藝包括濺射工藝和光刻工藝。
6.如權(quán)利要求1所述的觸摸面板,其特征在于所述觸摸面板還包括保護(hù)層,所述保護(hù) 層形成于所述電極層之上,用于保護(hù)所述電極層。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種信息輸入技術(shù),尤其涉及一種觸摸面板。該觸摸面板包括基板和電極層。該電極層形成于該基板上,其包括相互平行的多條X軸線跡、相互平行的多條Y軸線跡、多個(gè)橋結(jié)構(gòu)及多個(gè)絕緣塊。該多條X軸線跡與多條Y軸線跡相互交叉,該多條Y軸線跡被該多條X軸線跡分割成多個(gè)單元。該橋結(jié)構(gòu)位于X軸線跡與Y軸線跡的交叉處,用于連接位于同一條所述X軸線跡兩側(cè)屬于同一條所述Y軸線跡上的相鄰兩個(gè)單元。該橋結(jié)構(gòu)形成于該基板上,該絕緣塊設(shè)置于橋結(jié)構(gòu)上,該X軸線跡與橋結(jié)構(gòu)重疊的部分位于所述絕緣塊之上,并通過該絕緣塊將X軸線跡與橋結(jié)構(gòu)絕緣開。橋結(jié)構(gòu)的制作材料和工藝與X軸線跡和Y軸線跡的制作材料和工藝相同。
文檔編號(hào)G06F3/044GK201570004SQ20092026171
公開日2010年9月1日 申請(qǐng)日期2009年12月18日 優(yōu)先權(quán)日2009年12月18日
發(fā)明者李紹宗, 王士敏, 郭志勇, 鐘榮蘋 申請(qǐng)人:深圳萊寶高科技股份有限公司
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