一種集成測量主盤的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開一種集成測量主盤，包括基座，所述基座上設(shè)有豎軸，所述豎軸下部連接從動輪，所述基座上還設(shè)有電機(jī)，所述從動輪由電機(jī)驅(qū)動；所述豎軸上部連接有圓盤狀主盤，所述主盤的外圈上連接有至少兩組可獨(dú)立檢測特定蛋白的測量單元；本實(shí)用新型有益效果是：在主盤上設(shè)有多個可獨(dú)立檢測樣本的測量單元，隨主盤轉(zhuǎn)動可自動同時處理多個待檢測樣本，這樣即可提高工作效率；另每個測量單元設(shè)為一個整體，相互之間位置固定，不隨整機(jī)機(jī)械傳動而改變相對位置，這樣可以消除傳動定位誤差帶來的測量誤差、降低對整機(jī)傳動精度的要求；便于測量單元批量模塊化生產(chǎn)；便于整機(jī)維護(hù)，測量模塊中任何測量單元出現(xiàn)故障不會出現(xiàn)連鎖反應(yīng)，單獨(dú)替換即可。
【專利說明】
_種集成測量主盤
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及一種醫(yī)療器械中測試集成組件，特別涉及一種高速C反應(yīng)蛋白分析儀的多測量單元時的集成化設(shè)計。
【背景技術(shù)】
[0002]目前特定蛋白分析儀作為臨床檢驗(yàn)中經(jīng)常使用的重要儀器之一，已普遍使用于各個大中型醫(yī)院，給臨床上對疾病的診斷、治療和預(yù)后及健康狀態(tài)提供必不可少的信息依據(jù)，成為大中型醫(yī)院不可或缺的儀器。特定蛋白中的C反應(yīng)蛋白是鑒別細(xì)菌感染和病毒感染的重要指標(biāo)，在我國由于抗生素的濫用，導(dǎo)致檢測C反應(yīng)蛋白的分析儀尤其迫切需要。
[0003]現(xiàn)有能檢測C反應(yīng)蛋白的儀器一般一次只能檢測一份待檢測樣本，不能支持以自動檢測模式來處理大量的樣本，且檢測速度較低，導(dǎo)致工作效率很低。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本實(shí)用新型的目的在于為克服上述技術(shù)的不足而提供一種可以同時自動處理多個待檢測樣本的高速C反應(yīng)蛋白分析儀中的集成測量主盤。
[0005]本實(shí)用新型的技術(shù)方案是這樣實(shí)現(xiàn)的，該集成測量主盤包括基座，所述基座上設(shè)有豎軸，所述豎軸下部連接從動輪，所述基座上還設(shè)有電機(jī)，所述從動輪由電機(jī)驅(qū)動;所述豎軸上部連接有圓盤狀主盤，所述主盤的外圈上連接有至少兩組可獨(dú)立檢測特定蛋白的測量單元。
[0006]優(yōu)選地，所述測量單元包括預(yù)處理模組和測量模組，所述預(yù)處理模組采用透射比濁法對樣本進(jìn)行測試，所述測量模組采用散射比濁法對樣本進(jìn)行測試。
[0007]優(yōu)選地，所述測量單元與主盤徑向呈同一夾角連接在主盤的外圈上。
[0008]優(yōu)選地，所述預(yù)處理模組和測量模組以并列方式徑向連接在主盤的外圈上。
[0009]優(yōu)選地，所述預(yù)處理模組包括預(yù)處理基座，所述預(yù)處理基座下部設(shè)有預(yù)處理攪拌電機(jī)，所述預(yù)處理攪拌電機(jī)上安裝有預(yù)處理永磁體，所述預(yù)處理基座上位于所述預(yù)處理攪拌電機(jī)和預(yù)處理永磁體的上方設(shè)有透明的預(yù)處理杯，所述預(yù)處理杯內(nèi)部放置有試劑攪拌粒子，所述預(yù)處理基座上位于預(yù)處理杯前后位置分別設(shè)有預(yù)處理光源和預(yù)處理傳感器，所述預(yù)處理永磁體在所述預(yù)處理攪拌電機(jī)帶動下可帶動所述試劑攪拌粒子旋轉(zhuǎn)。
[0010]優(yōu)選地，所述測量模組包括測量基座，所述測量基座下部設(shè)有測量攪拌電機(jī)，所述測量攪拌電機(jī)上安裝有測量永磁體，在所述測量基座上位于所述測量攪拌電機(jī)和測量永磁體的上方設(shè)有加熱塊，以及加熱塊的上方設(shè)有透明的測量杯，所述測量杯內(nèi)部放置有試劑攪拌粒子，所述測量基座上位于測量杯前后位置分別設(shè)有測量光源和測量傳感器，所述測量永磁體在所述測量攪拌電機(jī)帶動下可帶動所述試劑攪拌粒子旋轉(zhuǎn)。
[0011]優(yōu)選地，所述基座上位于主盤四周設(shè)有有若干組固定的加液管，所述加液管用于給預(yù)處理模組和測量模組中的樣本添加試劑。
[0012]優(yōu)選地，所述豎軸中間設(shè)有通孔，所述通孔內(nèi)穿設(shè)有電線及管路。
[0013]優(yōu)選地，所述豎軸徑向設(shè)有圓盤狀組合碼齒，所述組合碼齒包含一個圓周碼齒和一個陰陽碼齒，所述圓周碼齒用于所述基座上設(shè)有的光電傳感器對其作位置控制和丟步檢查，所述陰陽碼齒用于所述光電傳感器對其作零位判斷。
[0014]優(yōu)選地，所述主盤上設(shè)有主盤支架，所述主盤支架中部為一圓盤，圓盤外沿設(shè)有若干豎立的支撐片，所述支撐片固定于所述主盤上，所述主盤支架圓盤上設(shè)有控制板卡。
[0015]本實(shí)用新型的有益效果如下:該集成測量主盤，在主盤上設(shè)有多個可獨(dú)立檢測樣本的測量單元，隨主盤轉(zhuǎn)動可自動同時處理多個待檢測樣本，這樣即可提高工作效率。另每個測量單元設(shè)為一個整體，相互之間位置固定，不隨整機(jī)機(jī)械傳動而改變相對位置，這樣可以消除傳動定位誤差帶來的測量誤差，近而可以降低對整機(jī)傳動精度的要求;便于測量單元批量模塊化生產(chǎn);便于整機(jī)維護(hù)，測量模塊中任何測量單元出現(xiàn)故障不會出現(xiàn)連鎖反應(yīng)，單獨(dú)替換即可。
【附圖說明】
[0016]圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例整體結(jié)構(gòu)圖；
[0017]圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例的結(jié)構(gòu)分解圖；
[0018]圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例的螺旋型排列交替安裝示意圖；
[0019]圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例的常規(guī)排列(左)與螺旋型排列對絲示意圖；
[0020]圖5為本實(shí)用新型實(shí)施例的測量單元滑軌安裝示意圖；
[0021 ]圖6為本實(shí)用新型實(shí)施例的預(yù)處理模組結(jié)構(gòu)剖視圖；
[0022]圖7為本實(shí)用新型實(shí)施例的檢測模組結(jié)構(gòu)剖視圖；
[0023]圖8為本實(shí)用新型實(shí)施例的組合碼齒立體結(jié)構(gòu)圖；
[0024]圖9為本實(shí)用新型實(shí)施例的主盤支架結(jié)構(gòu)圖；
[0025]圖10為本實(shí)用新型實(shí)施例的整機(jī)俯視圖。
[0026]其中，主要組件符號說明:
[0027]1、主盤子組，2、預(yù)處理模組，3、檢測模組，4、加液管，5、加液管，6、傳動子組，7、測量子組、8、液路子組，9、控制子組，10、罩子，61、主軸，62、主盤，63、滑軌結(jié)構(gòu)，64、螺釘，21、緊固孔位，301、元底座，302、反應(yīng)杯，303、光信號接收器，304、排液模塊，305、攪拌模塊，306、加熱恒溫模塊，307、測試光源，308、透光孔，309、滑槽，201、單元底座，202、光源，203、濾光片，204、反應(yīng)杯，205、光信號接收器，206、排液模塊，207、攪拌模塊，208、透光孔，209、滑槽，621、陰陽碼齒，622、圓周碼齒，623、零位光電傳感器，624、位置光電傳感器，81、主盤支架，82、閥類部件，83液路匯流塊。
【具體實(shí)施方式】
[0028]為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施例，對本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。
[0029]如圖1所示，一種測量主盤機(jī)構(gòu)，主盤可以同時集成安裝N(N彡2)組測量單元，每組測量單元可以包含M(M多I)種測量模組，主盤可以實(shí)現(xiàn)精確旋轉(zhuǎn)定位，通過與采樣針配合，實(shí)現(xiàn)高速、多項目的測量。
[0030]具體實(shí)施例1:
[0031]主盤集成6組測量模組，如圖1所示的整體結(jié)構(gòu)中，每組測量模組包含2種測量單元，包括檢測模組3及預(yù)處理模組2。
[0032]如圖2所示詳細(xì)結(jié)構(gòu)圖，自下而上分別是傳動子組6、測量子組7、液路子組8和控制子組9。通過將測量、液路和控制模組的高度集成，避免了整個系統(tǒng)需要大量的線材和液管和其他系統(tǒng)連接，提高了系統(tǒng)轉(zhuǎn)動時可靠性和系統(tǒng)結(jié)構(gòu)的簡潔性。
[0033]其中傳動子組6的主軸61設(shè)置為中空結(jié)構(gòu)，液路管道和線材排布在中空的主軸61中，既可以減小盤轉(zhuǎn)動時的回轉(zhuǎn)半徑，又可以使整體結(jié)構(gòu)更為簡潔，避免液路管道和線材排布在外面跟隨盤轉(zhuǎn)動帶來的風(fēng)險。
[0034]6組測量單元按螺旋交錯排列，與主盤62的徑向呈30度夾角安裝于主盤62上(如圖3所示)，這樣的結(jié)構(gòu)可以最大程度減小整個系統(tǒng)圓周直徑的大小，節(jié)約集成所占空間(如圖5所示)。各個測量單元通過滑軌結(jié)構(gòu)63連接在主盤62下部，再通過一顆螺釘64緊固測量單元的唯一緊固孔位21。既可以精準(zhǔn)定位，還很方便裝卸模組。
[0035]檢測模組3(如圖7所示)，該單元測試原理是投射法，包括單元底座301、反應(yīng)杯302、光信號接收器303、排液模塊304、攪拌模塊305、加熱恒溫模塊306和測試光源307。單元底座具有橫向貫穿的透光孔308。頂部具有和主盤滑軌配合的滑槽309，可以精準(zhǔn)定位，還能很方便裝卸模組。預(yù)處理模組2(如圖6所示)，該單元測試原理為散射法，包括單元底座201、光源202、濾光片203、反應(yīng)杯204、光信號接收器205、排液模塊206和攪拌模塊207。模組基塊具有橫向貫穿的透光孔208，頂部具有和主盤滑軌配合的滑槽209，可以實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)定位和快速拆裝模組。
[0036]主盤轉(zhuǎn)動控制機(jī)構(gòu)通過零位光電傳感器623，位置光電傳感器624和組合碼齒62來實(shí)現(xiàn)主盤轉(zhuǎn)動的控制，組合碼齒如圖8所示。組合碼齒62包含一個圓周均勻碼齒622和一個陰陽碼齒621，可以實(shí)現(xiàn)多種轉(zhuǎn)動方式控制。當(dāng)主盤向一個方向連續(xù)回轉(zhuǎn)時，圓周碼齒622與位置光電傳感器624配合做位置控制和丟步檢查，陰陽碼齒621與零位光電傳感器623作為零位判斷；當(dāng)主盤62做左右震蕩轉(zhuǎn)動時，圓周碼齒622做位置控制和丟步檢查，陰陽碼齒621可以實(shí)現(xiàn)在任意位置斷電后能找到歸零的方向。組合碼齒結(jié)構(gòu)設(shè)置在主盤轉(zhuǎn)軸套的最下端，從而減小整個系統(tǒng)的尺寸。(如圖8所示)主盤支架81如圖9所示，各個支腳除起支撐作用夕卜，還同時作為閥類部件82的安裝支架；臺面上端可以安放控制子組9，臺面下端可以安裝液路匯流塊83 (如圖2所示)。
[0037]主盤四周有N組固定的加液管4、5(如圖1所示)，可以讓各個模組在各個固定位置加各種試劑。
[0038]主盤上端設(shè)計有防護(hù)罩10(如圖1所示)，可以避免轉(zhuǎn)動時自身管路和線路與其他系統(tǒng)干涉，另外也起到一定美觀的作用，遮擋內(nèi)部零部件和管路。
[0039]實(shí)施例2:
[0040]根據(jù)設(shè)備具體情況，將實(shí)施例1中測量模組的數(shù)量增加或減少，模組安裝的角度同時做出適應(yīng)性調(diào)整，即為本實(shí)施例。
[0041]以上所描述的僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例，上述具體實(shí)施例不是對本實(shí)用新型的限制。在本實(shí)用新型的技術(shù)思想范疇內(nèi)，可以出現(xiàn)各種變形及修改，凡本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員根據(jù)以上描述所做的潤飾、修改或等同替換，均屬于本實(shí)用新型所保護(hù)的范圍。
【主權(quán)項】
1.一種集成測量主盤，其特征在于:包括基座，所述基座上設(shè)有豎軸，所述豎軸下部連接從動輪，所述基座上還設(shè)有電機(jī)，所述從動輪由電機(jī)驅(qū)動;所述豎軸上部連接有圓盤狀主盤，所述主盤的外圈上連接有至少兩組可獨(dú)立檢測特定蛋白的測量單元。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的集成測量主盤，其特征在于:所述測量單元包括預(yù)處理模組和測量模組，所述預(yù)處理模組采用透射比濁法對樣本進(jìn)行測試，所述測量模組采用散射比濁法對樣本進(jìn)行測試。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的集成測量主盤，其特征在于:所述測量單元與主盤徑向呈一夾角連接在主盤的外圈上。4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的集成測量主盤，其特征在于:所述預(yù)處理模組和測量模組交替徑向連接在主盤的外圈上。5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的集成測量主盤，其特征在于:所述預(yù)處理模組包括預(yù)處理基座，所述預(yù)處理基座下部設(shè)有預(yù)處理攪拌電機(jī)，所述預(yù)處理攪拌電機(jī)上安裝有預(yù)處理永磁體，所述預(yù)處理基座上位于所述預(yù)處理攪拌電機(jī)和預(yù)處理永磁體的上方設(shè)有透明的預(yù)處理杯，所述預(yù)處理杯內(nèi)部放置有試劑攪拌粒子，所述預(yù)處理基座上位于預(yù)處理杯前后位置分別設(shè)有預(yù)處理光源和預(yù)處理傳感器，所述預(yù)處理永磁體在所述預(yù)處理攪拌電機(jī)帶動下可帶動所述試劑攪拌粒子旋轉(zhuǎn)。6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的集成測量主盤，其特征在于:所述測量模組包括測量基座，所述測量基座下部設(shè)有測量攪拌電機(jī)，所述測量攪拌電機(jī)上安裝有測量永磁體，在所述測量基座上位于所述測量攪拌電機(jī)和測量永磁體的上方設(shè)有加熱塊，以及加熱塊的上方設(shè)有透明的測量杯，所述測量杯內(nèi)部放置有試劑攪拌粒子，所述測量基座上位于測量杯前后位置分別設(shè)有測量光源和測量傳感器，所述測量永磁體在所述測量攪拌電機(jī)帶動下可帶動所述試劑攪拌粒子旋轉(zhuǎn)。7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的集成測量主盤，其特征在于:所述基座上位于主盤四周設(shè)有有若干組固定的加液管，所述加液管用于給預(yù)處理模組和測量模組中的樣本添加試劑。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的集成測量主盤，其特征在于:所述豎軸中間設(shè)有通孔，所述通孔內(nèi)穿設(shè)有電線及管路。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的集成測量主盤，其特征在于:所述豎軸徑向設(shè)有圓盤狀組合碼齒，所述組合碼齒包含一個圓周碼齒和一個陰陽碼齒，所述圓周碼齒用于所述基座上設(shè)有的光電傳感器對其作位置控制和丟步檢查，所述陰陽碼齒用于所述光電傳感器對其作零位判斷。10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的集成測量主盤，其特征在于:所述主盤上設(shè)有主盤支架，所述主盤支架中部為一圓盤，圓盤外沿設(shè)有若干豎立的支撐片，所述支撐片固定于所述主盤上，所述主盤支架圓盤上設(shè)有控制板卡。
【文檔編號】G01N35/00GK205656199SQ201620169236
【公開日】2016年10月19日
【申請日】2016年3月4日 公開號201620169236.2, CN 201620169236, CN 205656199 U, CN 205656199U, CN-U-205656199, CN201620169236, CN201620169236.2, CN205656199 U, CN205656199U
【發(fā)明人】劉先成, 徐巖, 張良, 唐建波
【申請人】深圳普門科技有限公司