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一種剩余寬度測(cè)量裝置的制造方法

文檔序號(hào):10245860閱讀:209來源:國(guó)知局
一種剩余寬度測(cè)量裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及工件檢測(cè),尤其涉及一種剩余寬度測(cè)量裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在進(jìn)行缺口沖擊試驗(yàn)時(shí),通常需要試樣缺口的剩余寬度,也就是試樣原寬度減去缺口寬度后的數(shù)值,現(xiàn)有測(cè)量方式中雖然已有較多的測(cè)量方式,但難以同時(shí)滿足高效率低成本和測(cè)量精度的要求,例如,如果采用直接用鋼直尺或者游標(biāo)卡尺測(cè)量的方法,雖然效率高成本低,但是由于缺口形狀與鋼直尺的厚度不一致和鋼直尺精度不夠,無法精確測(cè)量缺口深度和缺口的剩余寬度,使用游標(biāo)卡尺同樣存在缺口形狀與鋼直尺的厚度不一致導(dǎo)致難以準(zhǔn)確定位而影響測(cè)量精度的問題,而采用光柵顯微鏡、三坐標(biāo)測(cè)量?jī)x等儀器測(cè)量剩余寬度,雖然能提高測(cè)量精度,但是操作費(fèi)時(shí)費(fèi)力,效率低且成本高。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種操作簡(jiǎn)單高效、測(cè)量成本低且精度較高的剩余寬度測(cè)量裝置。
[0004]為解決上述技術(shù)問題,本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案:
[0005]—種剩余寬度測(cè)量裝置,包括底座、支架和測(cè)量?jī)x,所述底座的上表面水平設(shè)置且上表面上設(shè)有與待檢測(cè)試樣的沖擊缺口匹配的支撐模型,所述支架包括位置調(diào)節(jié)桿,所述測(cè)量?jī)x裝設(shè)在所述位置調(diào)節(jié)桿上,所述測(cè)量?jī)x可顯示同一基準(zhǔn)在所述支撐模型上安放所述待檢測(cè)試樣前、后的預(yù)定高度值Hl和檢測(cè)高度值H2。
[0006]作為上述技術(shù)方案的進(jìn)一步改進(jìn):
[0007]所述支架還包括豎直設(shè)置的支撐桿,所述位置調(diào)節(jié)桿水平裝設(shè)在所述支撐桿上,所述位置調(diào)節(jié)桿可在水平面上沿其自身方向移動(dòng)。
[0008]所述測(cè)量?jī)x可相對(duì)于所述位置調(diào)節(jié)桿上下移動(dòng)。
[0009]所述測(cè)量?jī)x為百分表。
[0010]與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于:
[0011]本實(shí)用新型的剩余寬度測(cè)量裝置,包括底座、支架和測(cè)量?jī)x,底座的上表面水平設(shè)置且上表面上設(shè)有與待檢測(cè)試樣的沖擊缺口匹配的支撐模型,支架包括位置調(diào)節(jié)桿,測(cè)量?jī)x裝設(shè)在位置調(diào)節(jié)桿上,測(cè)量?jī)x可顯示同一基準(zhǔn)在支撐模型上配合安放待檢測(cè)試樣前、后的預(yù)定高度值Hl和檢測(cè)高度值H2,即在對(duì)待檢測(cè)試樣進(jìn)行檢測(cè)前,先通過測(cè)量?jī)x記錄某一基準(zhǔn)的預(yù)定高度值Hl,然后將待檢測(cè)試樣放置在支撐模型上,使待檢測(cè)試樣的沖擊缺口與支撐模型完全吻合,再通過測(cè)量?jī)x記錄同一基準(zhǔn)的檢測(cè)高度值H2,即通過測(cè)量同一基準(zhǔn)在放置待檢測(cè)試樣前后的高度變化,從而測(cè)出待檢測(cè)試樣的剩余寬度H2-H1不需要直接與待檢測(cè)試樣的沖擊缺口接觸,避免了因缺口形狀與測(cè)量?jī)x的厚度不一致導(dǎo)致難以準(zhǔn)確定位而影響測(cè)量精度的問題,檢測(cè)精度高、成本低,同時(shí),測(cè)量過程簡(jiǎn)單易行,檢測(cè)效率高。
【附圖說明】
[0012]圖I是本實(shí)用新型剩余寬度測(cè)量裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0013]圖2是本實(shí)用新型剩余寬度測(cè)量裝置測(cè)量待檢測(cè)試樣剩余寬度的示意圖。
[0014]圖中各標(biāo)號(hào)表不:
[0015]I、底座;2、支架;21、位置調(diào)節(jié)桿;22、支撐桿;3、測(cè)量?jī)x;4、待檢測(cè)試樣;5、支撐模型。
【具體實(shí)施方式】
[0016]以下將結(jié)合說明書附圖和具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步詳細(xì)說明。
[0017]圖I和圖2示出了本實(shí)用新型剩余寬度測(cè)量裝置的一種實(shí)施例,該剩余寬度測(cè)量裝置包括底座I、支架2和測(cè)量?jī)x3,底座I的上表面水平設(shè)置且上表面上設(shè)有與待檢測(cè)試樣4的沖擊缺口匹配的支撐模型5,支架2包括位置調(diào)節(jié)桿21,測(cè)量?jī)x3裝設(shè)在位置調(diào)節(jié)桿21上,測(cè)量?jī)x3可顯示支撐模型5上配合安放待檢測(cè)試樣4前、后的預(yù)定高度值Hl和檢測(cè)高度值H2,SP在對(duì)待檢測(cè)試樣4進(jìn)行檢測(cè)前,先通過測(cè)量?jī)x3記錄某一基準(zhǔn)的預(yù)定高度值Hl,然后將待檢測(cè)試樣4放置在支撐模型5上,使待檢測(cè)試樣4的沖擊缺口與支撐模型5完全吻合,再通過測(cè)量?jī)x3記錄同一基準(zhǔn)的檢測(cè)高度值H2,即通過測(cè)量同一基準(zhǔn)在放置待檢測(cè)試樣4前后的高度變化,從而測(cè)出待檢測(cè)試樣4的剩余寬度,剩余寬度的數(shù)值為H2-H1,測(cè)量?jī)x3不需要直接與待檢測(cè)試樣4的沖擊缺口接觸,避免了因缺口形狀與測(cè)量?jī)x3的厚度不一致導(dǎo)致難以準(zhǔn)確定位而影響測(cè)量精度的問題,檢測(cè)精度高、成本低,同時(shí),測(cè)量過程簡(jiǎn)單易行,檢測(cè)效率高。
[0018]本實(shí)施例中,支架2還包括豎直設(shè)置的支撐桿22,位置調(diào)節(jié)桿21水平裝設(shè)在支撐桿22上,位置調(diào)節(jié)桿21可在水平面上沿其自身方向移動(dòng),測(cè)量?jī)x3可相對(duì)于位置調(diào)節(jié)桿21上下移動(dòng),即可調(diào)整測(cè)量?jī)x3與支撐模型5的相對(duì)位置,以保證檢測(cè)結(jié)果的精確度。
[0019]本實(shí)施例中,測(cè)量?jī)x3為百分表,則本實(shí)施例中的基準(zhǔn)為百分表的下端面。
[0020]雖然本實(shí)用新型已以較佳實(shí)施例揭露如上,然而并非用以限定本實(shí)用新型。任何熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員,在不脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案范圍的情況下,都可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容對(duì)本實(shí)用新型技術(shù)方案做出許多可能的變動(dòng)和修飾,或修改為等同變化的等效實(shí)施例。因此,凡是未脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的內(nèi)容,依據(jù)本實(shí)用新型技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所做的任何簡(jiǎn)單修改、等同變化及修飾,均應(yīng)落在本實(shí)用新型技術(shù)方案保護(hù)的范圍內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種剩余寬度測(cè)量裝置,其特征在于:包括底座(I)、支架(2)和測(cè)量?jī)x(3),所述底座(I)的上表面水平設(shè)置且上表面上設(shè)有與待檢測(cè)試樣(4)的沖擊缺口匹配的支撐模型(5),所述支架(2)包括位置調(diào)節(jié)桿(21),所述測(cè)量?jī)x(3)裝設(shè)在所述位置調(diào)節(jié)桿(21)上,所述測(cè)量?jī)x(3)可顯示同一基準(zhǔn)在所述支撐模型(5)上安放所述待檢測(cè)試樣(4)前、后的預(yù)定高度值Hl和檢測(cè)高度值H2。2.根據(jù)權(quán)利要求I的剩余寬度測(cè)量裝置,其特征在于:所述支架(2)還包括豎直設(shè)置的支撐桿(22),所述位置調(diào)節(jié)桿(21)水平裝設(shè)在所述支撐桿(22)上,所述位置調(diào)節(jié)桿(21)可在水平面上沿其自身方向移動(dòng)。3.根據(jù)權(quán)利要求I的剩余寬度測(cè)量裝置,其特征在于:所述測(cè)量?jī)x(3)可相對(duì)于所述位置調(diào)節(jié)桿(21)上下移動(dòng)。4.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的剩余寬度測(cè)量裝置,其特征在于:所述測(cè)量?jī)x(3)為百分表。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種剩余寬度測(cè)量裝置,包括底座、支架和測(cè)量?jī)x,所述底座的上表面水平設(shè)置且上表面上設(shè)有與待檢測(cè)試樣的沖擊缺口匹配的支撐模型,所述支架包括位置調(diào)節(jié)桿,所述測(cè)量?jī)x裝設(shè)在所述位置調(diào)節(jié)桿上,所述測(cè)量?jī)x可顯示同一基準(zhǔn)在所述支撐模型上安放所述待檢測(cè)試樣前、后的預(yù)定高度值H1和檢測(cè)高度值H2,本實(shí)用新型的剩余寬度測(cè)量裝置具有操作簡(jiǎn)單高效、測(cè)量成本低且精度較高等優(yōu)點(diǎn)。
【IPC分類】G01B5/02
【公開號(hào)】CN205156796
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520861475
【發(fā)明人】余波, 熊勇, 何正宏, 王雪晴, 熊燦
【申請(qǐng)人】株洲時(shí)代新材料科技股份有限公司
【公開日】2016年4月13日
【申請(qǐng)日】2015年11月2日
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