一種大光程檢測裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種光學(xué)檢測設(shè)備，尤其是對流體檢測的光學(xué)檢測設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]在市場現(xiàn)行的流體檢測技術(shù)中，比色池做為最核心的部件之一，其結(jié)構(gòu)對檢測性能精度起決定性作用。流體中不同的物質(zhì)對不同波長的光線的吸收不同，因此檢測這種物質(zhì)的方法是用它最容易吸收的檢測光線在比色池內(nèi)走一定的路程(即光程)，通過從另一端測量通過比色池的特定檢測光線的強度，計算出比色池內(nèi)流體對光線強度的消耗量(即光損)，進而計算出比色池內(nèi)流體的這種物質(zhì)的濃度。當需要檢測的流體內(nèi)某種物質(zhì)濃度很低或者需檢測物質(zhì)產(chǎn)生的光損很小的時候，通常需要高光程的比色池才能對其進行檢測。高光程也必然帶來其他的負面影響，池子足夠大才能有足夠的光程，足夠大的池子也必然帶來反應(yīng)試劑的消耗量很大，其灌注及清洗的耗費試劑及時間周期也很大。有些檢測試劑成本極高，毒性大，污染大，處理成本高，這些都大大增加了檢測成本。
[0003]目前市場上有規(guī)避以上問題的高光程的比色池，例如流通池，光程長且試劑消耗量小。但其結(jié)構(gòu)特點也暴露了其在某些特殊環(huán)境下無法使用:高溫高壓消解及測量時，流通池加熱、溫控、高壓密封均很難實現(xiàn)，且流通池內(nèi)一旦產(chǎn)生或滯留氣泡，對測量影響極大，測量結(jié)果與實際偏差很大。高溫高壓情況下測量，依然采用傳統(tǒng)的在纏繞電熱絲的圓柱型消解管兩側(cè)設(shè)置光電池和光檢器的方法，其光程即為消解管的內(nèi)徑R。當檢測精度無法滿足測量要求時，采用的方法通常是增大消解管內(nèi)徑。當消解管內(nèi)徑增加一倍時，根據(jù)圓柱體積計算公式V= (R/2)2h可以得知，R變?yōu)?R后，總體積變?yōu)?V。當R變?yōu)镽/2后，總體積變?yōu)閂/4。由此可見實際試劑消耗量與光程的二次方成正比，因此在增加光程來提高測量精度的同時，試劑增加的消耗量也十分龐大。當試劑成本很高或試劑有毒時，此種方法帶來的新增消耗成本和新增廢液處理成本也十分龐大。當檢測精度可以滿足測量要求時，在不影響檢測精度條件下將內(nèi)徑縮短一半，其節(jié)省的試劑消耗成本及廢液處理成本也十分可觀。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]為了克服上述問題，本實用新型提供光程長、試劑消耗少的大光程檢測裝置。
[0005]本實用新型的技術(shù)方案是提供一種大光程檢測裝置，其包括一個中空的固定座，所述固定座上固定有上下兩端開口的比色池，所述固定座在所述比色池一側(cè)設(shè)置有向比色池中發(fā)射檢測光線的檢測光源與接收此檢測光線的光檢器，所述比色池的另一端緊貼比色池設(shè)置有反光膜。
[0006]優(yōu)選的，所述比色池的橫截面為方形。
[0007]優(yōu)選的，所述比色池的橫截面為圓形。
[0008]優(yōu)選的，所述比色池的外壁有一個平面。
[0009]優(yōu)選的，所述比色池的外壁有兩個位于比色池兩側(cè)且相互平行的平面。
[0010]優(yōu)選的，所述比色池其中之一側(cè)壁平面上粘貼有反光膜。
[0011]優(yōu)選的，所述比色池其中之一側(cè)壁平面上鍍有反光膜。
[0012]優(yōu)選的，所述反光膜材料為:水銀、銀、鋁或其他高反光材料。
[0013]本實用新型的大光程檢測裝置采用光反射原理，在不增加試劑消耗的情況下將光程提高一倍，極大的增加了測量精度；亦可在不改變光程及測量精度的情況下將試劑消耗縮小至1/4。而且此方案在最容易出現(xiàn)問題的高溫高壓方面延續(xù)了傳統(tǒng)的被廣泛使用的成熟方案，避免了新問題的產(chǎn)生。
【附圖說明】
[0014]圖1是本實用新型最佳實施例的結(jié)構(gòu)示意圖，圖2是本實用新型立體剖切圖。
【具體實施方式】
[0015]下面對本實用新型的【具體實施方式】作進一步詳細的描述。
[0016]如圖1所示，本實用新型的一種大光程檢測裝置包括一個中空的固定座1，固定座I可以根據(jù)需求設(shè)計成由一個或者多個零件組成，固定座內(nèi)部設(shè)置有比色池2，固定座在比色池2的一側(cè)還設(shè)置有光源3和光檢器4，比色池2在與光源與光檢器相反一側(cè)設(shè)置有反光膜5。
[0017]進一步地，比色池2可以沿著固定座I的固定孔旋轉(zhuǎn)，用以調(diào)節(jié)反光膜5與光源3及光檢器4之間的角度，使光檢器4能最大限度的接收到被反光膜5反射的來自光源3發(fā)出的光線。
[0018]本實用新型最佳實施例中，比色池2的兩側(cè)有兩個相互平行的平面并且其中一平面設(shè)置有反光膜5，亦可沒有平面或者只有一個平面。
[0019]反光膜5可以粘合在比色池2側(cè)平面上，亦可鍍在或者涂在比色池2的側(cè)平面上。反光膜5采用常見的反光材料，如鋁、銀、汞或其他高反光材料。以上材料的使用，均利用其常見的性能，其未對本實用新型的結(jié)構(gòu)作出創(chuàng)造性貢獻，是本領(lǐng)域普通技術(shù)人員很容易想到的材料選擇。
[0020]比色池2上可以設(shè)置有方便纏繞電熱絲的凸起或圓環(huán)。
[0021]本實用新型在使用時，檢測液通過比色池2的開口處進入比色池2中，光源3向比色池2另一端的反光膜5發(fā)射特定光線，特定光線穿過比色池2及比色池2中的檢測液達到反光膜5，由反光膜5反射再次穿過比色池2及比色池2中的檢測液，最后到達光檢器4，由光檢器4檢測特定光線的強度，從而得到比色池2中某種物質(zhì)的濃度。
[0022]以上實施例僅為本實用新型其中的一種實施方式，其描述較為具體和詳細，但并不能因此而理解為對本實用新型專利范圍的限制。應(yīng)當指出的是，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實用新型構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進，這些都屬于本實用新型的保護范圍。因此，本實用新型專利的保護范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準。
【主權(quán)項】
1.一種大光程檢測裝置，其包括一個中空的固定座，所述固定座上固定有上下兩端開口的比色池，所述固定座在所述比色池一側(cè)設(shè)置有向比色池中發(fā)射檢測光線的檢測光源與接收此檢測光線的光檢器，所述比色池在與檢測光源與光檢器反向的側(cè)壁上緊貼比色池設(shè)置有反光膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大光程檢測裝置，其特征在于:所述比色池的橫截面為方形。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大光程檢測裝置，其特征在于:所述比色池的橫截面為圓形。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大光程檢測裝置，其特征在于:所述比色池的外壁有一個平面。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大光程檢測裝置，其特征在于:所述比色池的外壁有兩個位于比色池兩側(cè)且相互平行的平面。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大光程檢測裝置，其特征在于:所述比色池在與檢測光源反向的側(cè)壁上粘貼有反光膜。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大光程檢測裝置，其特征在于:所述比色池在與檢測光源反向的側(cè)壁上鍍有反光膜。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大光程檢測裝置，其特征在于:所述反光膜材料為:水銀、銀、鋁或其他高反光材料。
【專利摘要】本實用新型公開了一種大光程檢測裝置，其包括一個中空的固定座，所述固定座上固定有上下兩端開口的比色池，所述固定座在所述比色池一側(cè)設(shè)置有光源與光檢器，所述比色池的另一側(cè)緊貼比色池設(shè)置有反光膜。本實用新型在不增加比色池體積及耗液量的條件下將光程整整增加一倍，極大的提高了檢測精度；亦可在不改變測量精度的條件下將耗液量縮小至1/4。本實用新型的大光程檢測裝置具有結(jié)構(gòu)簡單、光程長、性能可靠等優(yōu)點。
【IPC分類】G01N21-59, G01N21-03
【公開號】CN204302174
【申請?zhí)枴緾N201420783872
【發(fā)明人】黨小鋒
【申請人】蘇州衛(wèi)水環(huán)保科技有限公司
【公開日】2015年4月29日
【申請日】2014年12月14日