氧化鋯探頭的取樣裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及氣體檢測技術領域，尤其涉及氧化鋯探頭的取樣裝置。
【背景技術】
[0002]在工業(yè)生產過程中，氧化鋯氧量分析儀已經(jīng)得到了廣泛的應用，氧化鋯探頭作為傳感器部件，具有反應迅速，測量范圍廣，使用壽命長等優(yōu)點。目前，大部分氧化鋯探頭的適用溫度區(qū)間為O?700°C。在冶金領域(環(huán)境溫度在900°C以上)使用時，一般都采用負壓發(fā)生器將氣體由于高溫工作環(huán)境中引流至氧化鋯探頭，以達到取樣的目的?，F(xiàn)有技術的最主要缺陷是:負壓發(fā)生器容易把具有腐蝕性的雜質輸送至氧化鋯探頭內，使得氧化鋯探頭內部容易發(fā)生堵塞，工作人員需要頻繁地作維護，從而導致設備維護的成本費用高。另一方面，現(xiàn)有技術中的氧化鋯探頭需要配置負壓發(fā)生器，從而提高了設備的物料成本。
【實用新型內容】
[0003]本實用新型主要的目的在于:提供一種不僅能夠降低氧化鋯探頭的設備維護成本，而且能夠降低設備的物料成本。
[0004]為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供一種氧化鋯探頭的取樣裝置，該氧化鋯探頭的取樣裝置包括可置于溫度小于或等于1600°C的環(huán)境中以導向氣體流動的前端取樣導管，設于所述前端取樣導管和氧化鋯探頭之間以將氣體輸送至氧化鋯探頭的后端傳輸導管；其中，
[0005]所述前端取樣導管的第一端呈30°?60°的斜口設置；所述后端傳輸導管的側壁上設置至少一通孔；所述后端傳輸導管的第一端與所述前端取樣導管的第二端粘接，所述后端傳輸導管的第二端與氧化鋯探頭螺紋連接；所述前端取樣導管的第一端的斜口朝向氣體流入的方向。
[0006]優(yōu)選地，所述前端取樣導管為剛玉管。
[0007]優(yōu)選地，所述前端取樣導管的第一端呈45°的斜口設置。
[0008]優(yōu)選地，所述后端傳輸導管為合金管。
[0009]優(yōu)選地，所述通孔設置為一個，且所述通孔設置為橢圓形；所述通孔設置于后端傳輸導管與所述前端取樣導管的斜口相對應的位置。
[0010]本實用新型提供的氧化鋯探頭的取樣裝置，該取樣裝置的前端取樣導管放置于待測的工作環(huán)境中，前端取樣導管第一端的斜口朝向待測工作環(huán)境中的氣體流入方向，從而使得氣體更加容易進入到前端取樣導管中。后端傳輸導管設于前端取樣導管和氧化鋯探頭之間的位置。由于后端傳輸導管所處的環(huán)境溫度低于前端取樣導管所處的環(huán)境溫度，且后端傳輸導管設有利于氣體流通的通孔。根據(jù)氣體流動的特點，氣體容易由溫度高處流向溫度低處。因此，待測環(huán)境中的氣體由前端取樣導管的第一端進入并經(jīng)后端傳輸導管傳輸?shù)窖趸喬筋^內，從而實現(xiàn)了對高溫工作環(huán)境的取樣的目的。本實用新型提供的氧化鋯探頭的取樣裝置僅將待檢測環(huán)境的氣體導向傳輸至氧化鋯探頭中，極少引入雜質，不僅避免大顆粒雜質堵塞氧化鋯探頭的情況發(fā)生，而且減少了雜質對氧化鋯探頭的腐蝕，從而降低了氧化鋯探頭的維護成本。另一方面，相對于現(xiàn)有技術為氧化鋯探頭配置負壓發(fā)生器的方案，本實用新型的產品物料成本相對降低。
【附圖說明】
[0011]圖1為本實用新型氧化鋯探頭的取樣裝置的結構示意圖；
[0012]圖2為本實用新型氧化鋯探頭的取樣裝置安裝狀態(tài)的結構示意圖。
[0013]本實用新型目的的實現(xiàn)、功能特點及優(yōu)點將結合實施例，參照附圖做進一步說明。
【具體實施方式】
[0014]應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本實用新型，并不用于限定本實用新型。
[0015]本實用新型提供一種氧化鋯探頭的取樣裝置。
[0016]參照圖1和2，圖1為本實用新型氧化鋯探頭的取樣裝置的結構示意圖；圖2為本實用新型氧化鋯探頭的取樣裝置安裝狀態(tài)的結構示意圖。本實施例提供的一種氧化鋯探頭的取樣裝置，該氧化鋯探頭的取樣裝置包括:可置于溫度小于或等于1600°C的環(huán)境中以導向氣體流動的前端取樣導管I，設于前端取樣導管I和氧化鋯探頭2之間以將氣體輸送至氧化鋯探頭2的后端傳輸導管3。其中，前端取樣導管I的第一端11呈30°?60°的斜口設置。后端傳輸導管3的側壁上設置至少一通孔33。后端傳輸導管3的第一端31與前端取樣導管I的第二端12粘接，后端傳輸導管3的第二端32與氧化鋯探頭2螺紋連接。前端取樣導管I的第一端11的斜口朝向氣體流入的方向。
[0017]應當說明的是，在鋼鐵冶金領域(如加熱爐)中，工作環(huán)境的溫度一般高達1200°C，而氧化鋯探頭2所能承受的溫度一般在700°C以下。為了檢測到冶金領域的工作環(huán)境的氣體參數(shù)，需要從該工作環(huán)境中進行取樣，將氣體引導至氧化鋯探頭2進行檢測。本實用新型中的氧化鋯探頭2的取樣裝置包括前端取樣導管I以及后端傳輸導管3。后端傳輸導管3的第一端31與前端取樣導管I的第二端12粘接，后端傳輸導管3的第二端32與氧化鋯探頭2螺紋連接。應當說明的是，后端傳輸導管3與前端取樣導管1、氧化鋯探頭2之間的連接均為密封連接。
[0018]前端取樣導管I能夠承受的環(huán)境溫度小于或等于1600°C，因此，前端取樣導管I可置于冶金的工作環(huán)境中，以獲取冶金工作環(huán)境中的氣體樣本。為了增大前端取樣導管I的氣體流通面積，提高取樣效率，前端取樣導管I的第一端11呈30°?60°的斜口設置，且前端取樣導管I的第一端11的斜口朝向氣體流入的方向。在本實施例中，優(yōu)選地，前端取樣導管I為剛玉管。另一方面，為了便于加工，前端取樣導管I的第一端11的斜口呈45°設置。應當說明的是，前端取樣導管I還可以設置為其他能夠承受小于或等于1600°C的環(huán)境溫度的材質，在此不贅述。
[0019]后端傳輸導管3設于前端取樣導管I和氧化鋯探頭2之間的位置，用于將前端取樣導管I獲取的氣體樣本傳輸至氧化鋯探頭2中。在本實施例中，后端傳輸導管3為合金管。應當說明的是，為了加快氣體由前端取樣導管I流向后端傳輸導管3最后到達氧化鋯探頭2的速度，后端傳輸導管3的側壁設置至少一通孔33。通孔33的數(shù)量可以根據(jù)實際情況進行選擇。為了避免過多的氣體由通孔33處流失，在本實施例中，通孔33設置為一個。應當說明的是，在鋼鐵冶金領域中，環(huán)境溫度由爐體(例如加熱爐)中心向爐壁遞減。前端取樣導管I置于靠近爐體的中心位置，因而其導管內的溫度與爐體中心的溫度相當。后端傳輸導管3置于靠近爐壁的位置，通孔33使得后端傳輸導管3內的溫度接近爐壁的溫度。由于氣體容易由溫度高處流向溫度低處，因此，后端傳輸導管3中的側壁設置通孔33，能夠加快氧化鋯探頭的取樣裝置的取樣效率。應當說明的是，為了進一步加快氣體流通的速度，加快氧化鋯探頭的取樣裝置的取樣效率，通孔33設置為橢圓形，且通孔33設置于后端傳輸導管3與前端取樣導管I的斜口相對應的位置。
[0020]本實用新型提供的氧化鋯探頭的取樣裝置，該取樣裝置的前端取樣導管I放置于待測的工作環(huán)境中，前端取樣導管I第一端的斜口朝向待測工作環(huán)境中的氣體流入方向，從而使得氣體更加容易進入到前端取樣導管I中。后端傳輸導管3設于前端取樣導管I和氧化鋯探頭2之間的位置。由于后端傳輸導管3所處的環(huán)境溫度低于前端取樣導管I所處的環(huán)境溫度，且后端傳輸導管3設有利于氣體流通的通孔33。根據(jù)氣體流動的特點，氣體容易由溫度高處流向溫度低處。因此，待測環(huán)境中的氣體由前端取樣導管I的第一端進入并經(jīng)后端傳輸導管3傳輸?shù)窖趸喬筋^2內，從而實現(xiàn)了對高溫工作環(huán)境的取樣的目的。本實用新型提供的氧化鋯探頭的取樣裝置僅將待檢測環(huán)境的氣體導向傳輸至氧化鋯探頭中，極少引入雜質，不僅避免大顆粒雜質堵塞氧化鋯探頭2的情況發(fā)生，而且減少了雜質對氧化鋯探頭2的腐蝕，從而降低了氧化鋯探頭2的維護成本。另一方面，相對于現(xiàn)有技術為氧化鋯探頭配置負壓發(fā)生器的方案，本實用新型的產品物料成本相對降低。
[0021]以上僅為本實用新型的優(yōu)選實施例，并非因此限制本實用新型的專利范圍，凡是利用本實用新型說明書及附圖內容所作的等效結構或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關的技術領域，均同理包括在本實用新型的專利保護范圍內。
【主權項】
1.一種氧化鋯探頭的取樣裝置，其特征在于，包括:可置于溫度小于或等于1600°c的環(huán)境中以導向氣體流動的前端取樣導管，設于所述前端取樣導管和氧化鋯探頭之間以將氣體輸送至氧化鋯探頭的后端傳輸導管；其中， 所述前端取樣導管的第一端呈30°?60°的斜口設置；所述后端傳輸導管的側壁上設置至少一通孔；所述后端傳輸導管的第一端與所述前端取樣導管的第二端粘接，所述后端傳輸導管的第二端與氧化鋯探頭螺紋連接；所述前端取樣導管的第一端的斜口朝向氣體流入的方向。
2.如權利要求1所述的氧化鋯探頭的取樣裝置，其特征在于，所述前端取樣導管為剛玉管。
3.如權利要求1或2所述的氧化鋯探頭的取樣裝置，其特征在于，所述前端取樣導管的第一端呈45°的斜口設置。
4.如權利要求1或2所述的氧化鋯探頭的取樣裝置，其特征在于，所述后端傳輸導管為合金管。
5.如權利要求1所述的氧化鋯探頭的取樣裝置，其特征在于，所述通孔設置為一個，且所述通孔設置為橢圓形；所述通孔設置于后端傳輸導管與所述前端取樣導管的斜口相對應的位置。
【專利摘要】本實用新型公開了一種氧化鋯探頭的取樣裝置，該取樣裝置包括前端取樣導管和后端傳輸導管。前端取樣導管的第一端呈30°～60°的斜口設置；后端傳輸導管的側壁上設置至少一通孔；后端傳輸導管的第一端與前端取樣導管的第二端粘接，后端傳輸導管的第二端與氧化鋯探頭螺紋連接；前端取樣導管的第一端的斜口朝向氣體流入的方向。本實用新型提供的氧化鋯探頭的取樣裝置僅將待檢測環(huán)境的氣體導向傳輸至氧化鋯探頭中，極少引入雜質，不僅避免大顆粒雜質堵塞氧化鋯探頭的情況發(fā)生，而且減少了雜質對氧化鋯探頭的腐蝕，從而降低了氧化鋯探頭的維護成本。另一方面，相對于現(xiàn)有技術為氧化鋯探頭配置負壓發(fā)生器的方案，本實用新型的產品物料成本相對降低。
【IPC分類】G01N1-22, G01N27-409
【公開號】CN204302061
【申請?zhí)枴緾N201420848017
【發(fā)明人】彭林, 魏永剛, 蘇一龍, 唐家銀
【申請人】深圳市榮鷹電子儀器有限公司
【公開日】2015年4月29日
【申請日】2014年12月29日