一種工件光學測試機構的制作方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及一種工件的光線測試機構。
【背景技術】
[0002]對工件進行光學性能的檢測通常需要在暗箱中進行，但人工向安置有檢測設備的暗箱中入料和下料十分浪費時間，尤其是暗箱空間較小的情況下，不利于工件的擺放定位，尤其是圓形、圓柱形等不容易固定的工件，影響檢測結果。

【發(fā)明內容】

[0003]一種工件光學測試機構，包括中空的暗箱，所述暗箱中設有光學測試裝置，其特征是，還包括若干傳送裝置，所述暗箱設置在傳送裝置的傳送方向上，至少有相對處于所述傳送方向上游的一側設置供工件通過的開口，并設有能夠打開和封閉所述開口的活動門。
[0004]優(yōu)選的，所述傳送裝置穿過暗箱設置，且所述活動門上開設容納所述傳送裝置行進的缺口。
[0005]優(yōu)選的，所述活動門上沿垂直于傳送方向的方向設有多個適應不同位置傳送裝置通行的所述缺口。
[0006]優(yōu)選的，所述暗箱相對處于所述傳送方向上游和下游的兩側均設置所述開口和對應的所述活動門，暗箱中設置一氣缸同時控制兩扇所述活動門的打開和封閉。
[0007]優(yōu)選的，所述傳送裝置穿過暗箱并偏向暗箱一側設置，暗箱近于傳送裝置的一側為第一側面，所述活動門通過靠近和遠離所述第一側面進行打開和封閉，且活動門面向所述第一側面的一側開設容納所述傳送裝置行進的缺口。
[0008]優(yōu)選的，所述暗箱中設有限制所述活動門在氣缸驅動下行進方向的限位機構。
[0009]優(yōu)選的，所述限位機構包括平行于所述氣缸軸線方向設置的導軌，以及設于活動門上與所述導軌配合的滑塊。
[0010]優(yōu)選的，所述傳送裝置上至少設有兩個沿所述傳送方向排列的分別用于支撐工件的放置治具。
[0011]本發(fā)明所達到的有益效果:
1.本發(fā)明的工件光學測試機構，包括中空的設有光學測試裝置的暗箱，同時還結合了傳送裝置，使得傳送裝置可以直接將工件輸入和輸出暗箱進行上料檢測和下料，大大提高檢測效率，同時由傳送裝置運載的工件可以直接跟隨傳送裝置到達暗箱中進行檢測，無需在暗箱中另外設計定位座，免去了重新定位的麻煩，有助于提高檢測精度。另外，暗箱上對應于工件的通過開口設置活動門可以自動及時開門放行和關門開始測試，也有助于提高檢測效率和增加測量精度。
[0012]2.傳送裝置穿過暗箱設置，且活動門上開設容納傳送裝置行進的缺口，則可以最大限度保證暗箱的遮光效果，提高測量精度。尤其是垂直于傳送方向設有多個不同位置的傳送裝置時，分別設置對應的缺口。
[0013]3.暗箱相對處于傳送方向上游和下游的兩側均設置開口和對應的活動門，則工件可以沿同一方向進入和退出暗箱，而需要從同一入口折返，簡化結構，縮短相應工件的間隔檢測時間，流水線工作更加順暢。尤其是暗箱中設置一氣缸同時控制兩扇活動門的打開和封閉，則同步對上游的工件開放入口，和對一個下游相鄰的且已經在暗箱中測試完畢的工件開放出口，則最為節(jié)約時間，提高效率。
[0014]4.缺口設置在活動門上，則活動門尺寸的設計受傳送裝置排布的影響相對較小，活動門可以設置的較大，方便工件的通過。同時傳送裝置偏向暗箱一側設置，則缺口可以設置的較小，進一步減小從縫隙中射入暗箱的光線量。
[0015]5.暗箱中設置輔助氣缸限的限位機構則可以提高制活動門開閉的穩(wěn)定性，防止關閉時歪斜，保證密封性。
[0016]6.限位機構以導軌和滑塊的配合結構實現，結構簡單，性能穩(wěn)定。
[0017]7.傳送裝置上設置至少兩個用于支撐工件的放置治具，則在保持支撐穩(wěn)定的基礎上有利于節(jié)省治具數量。
【附圖說明】
[0018]圖1是本發(fā)明優(yōu)選實施例的示意圖；
圖2是圖1所示局部A的放大示意圖；
圖3是本發(fā)明優(yōu)選實施例中暗箱的內部結構圖；
圖4是本發(fā)明優(yōu)選實施例中放置治具的凹槽部位的俯視圖；
其中:1、燈管，12、引腳，2、傳送裝置，22、鏈條，24、鏈輪，3、放置治具，32、底座，322、凹槽，42、暗箱，422、面板，424、第一側面，44、色溫計，45、限位機構，452、導軌，46、活動門，462、缺口，47、氣缸，472、活塞，48、連接板，482、滑塊，484、條形槽，486、限位件。
【具體實施方式】
[0019]下面結合附圖對本發(fā)明作進一步描述。以下實施例僅用于更加清楚地說明本發(fā)明的技術方案，而不能以此來限制本發(fā)明的保護范圍。
[0020]如圖1-4所示，一種工件光學測試機構，具體包括中空的暗箱42，暗箱42中設有光學測試裝置，還包括至少兩個傳送裝置2，暗箱42設置在傳送裝置2的傳送方向上，至少有相對處于傳送方向上游的一側設置供工件通過的開口，并設有能夠打開和封閉開口的活動門46 ?
[0021]傳送裝置2水平穿過暗箱42設置，具體由鏈條22、鏈輪24和驅動裝置按照本領域慣用方法組裝而成，且各傳送裝置2在驅動裝置驅動下同步行進。
[0022]暗箱42相對處于傳送方向上游和下游的兩側均設置開口和對應的活動門46，暗箱42中設置一氣缸47同時控制兩扇活動門46的打開和封閉，則能夠同步對傳送方向上游的工件開放入口，和對一個下游相鄰的且已經在暗箱42中測試完畢的工件開放出口，從而最大限度的節(jié)約時間，提高效率。其中，暗箱42的內部，頂端設置有色溫計44作為光學測試裝置，對暗箱42內部放置的工件進行光學性能的測試。開口設置在暗箱42的兩側面板422上，開口尺寸均能夠容納工件通過，同時活動門46設置在面板422的內側。暗箱42的兩端對稱設置分別沿豎直方向的氣缸47，且暗箱42兩側的活動門46其內側均與同一水平連接板48相連，并通過連接板48與氣缸47的活塞472相連，從而氣缸47升降能夠同步帶動兩活動門46升降，實現暗箱42的開閉。更具體的，暗箱42中，兩端還設有限制活動門46在氣缸47驅動下行進方向的限位機構45。限位機構45具體包括平行于氣缸47軸線方向設置的導軌452，以及設于連接板48上與導軌452配合的滑塊482。另外，連接板48的中部還開始有容納工件向上伸出的條形槽484，并在條形槽484的兩端設置門形限位件486，限位件486 —方面可以控制工件在暗箱42中的位置，另一方面也方便安裝傳感器感應工件。
[0023]由于傳送裝置2水平穿過暗箱42設置，為保證傳送裝置2的順利行進和活動門46關閉時暗箱42的密閉效果，活動門46上還開設容納傳送裝置2行進的缺口 462。更具體的，傳送裝置2穿過暗箱42并偏向暗箱42底端設置，暗箱42的底部平面即近于傳送裝置2的一側為第一側面424，活動門46通過靠近和遠離第一側面424打開和封閉暗箱42的開口，且活動門46面向第一側面424的一側開設容納傳送裝置2行進的缺口 462。進一步的，當垂直于傳送方向設有多個不同位置的傳送裝置2時，可以分別設置對應的缺口 462。
[0024]另外，所述傳送裝置2上至少設有兩個沿傳送方向排列的分別用于支撐工件的放置治具3。則同時可有兩個工件在本發(fā)明機構中行進，縮短等待時間。放置治具3具體包括一組兩個底座32分別用于支撐工件的兩端，當工件為燈管I時，燈管I的各端端部均有兩個引腳12，則底座32上相應開設容置兩個引腳12的兩個凹槽322，凹槽322深度大于引腳12截面尺寸。此時，燈管I的兩端引腳12可以分別擱置在對應側傳送裝置2上底座32的凹槽322中，不僅結構簡單，而且凹槽322對引腳12的限位穩(wěn)定同時還能保護引腳12。
[0025]下面以本發(fā)明優(yōu)選實施例應用在燈管I光學測試中的工作過程介紹本發(fā)明，但不對本發(fā)明構成限制。首先將兩根待測燈管I依次擺放在沿傳送方向的兩個放置治具3上。燈管I兩端的引腳12分別嵌設在對應的底座32凹槽322中?？梢栽O置傳感器，當感應上游的燈管I隨傳送裝置2到達暗箱42前時，氣缸47控制兩活動門46打開，接著燈管I進入暗箱42，同時下游相鄰燈管I來的暗箱42前，隨后氣缸47再次帶動兩活動門46關閉，同時連接板48下降通過限位件486限定燈管I的位置，隨后色溫計44開始檢測工作，測試完畢，則活動門46再次打開，檢查完的燈管I離開暗箱42，同時下游的相鄰燈管I進入暗箱42等待測試。依次類推即可穩(wěn)定、準確、高效的完成批量燈管I的光學測試。
以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，應當指出，對于本技術領域的普通技術人員來說，在不脫離本發(fā)明技術原理的前提下，還可以做出若干改進和變形，這些改進和變形也應視為本發(fā)明的保護范圍。
【主權項】
1.一種工件光學測試機構，包括中空的暗箱，所述暗箱中設有光學測試裝置，其特征是，還包括若干傳送裝置，所述暗箱設置在傳送裝置的傳送方向上，至少有相對處于所述傳送方向上游的一側設置供工件通過的開口，并設有能夠打開和封閉所述開口的活動門。
2.根據權利要求1所述的一種工件光學測試機構，其特征是，所述傳送裝置穿過暗箱設置，且所述活動門上開設容納所述傳送裝置行進的缺口。
3.根據權利要求2所述的一種工件光學測試機構，其特征是，所述活動門上沿垂直于傳送方向的方向設有多個適應不同位置傳送裝置通行的所述缺口。
4.根據權利要求1所述的一種工件光學測試機構，其特征是，所述暗箱相對處于所述傳送方向上游和下游的兩側均設置所述開口和對應的所述活動門，暗箱中設置一氣缸同時控制兩扇所述活動門的打開和封閉。
5.根據權利要求4所述的一種工件光學測試機構，其特征是，所述傳送裝置穿過暗箱并偏向暗箱一側設置，暗箱近于傳送裝置的一側為第一側面，所述活動門通過靠近和遠離所述第一側面進行打開和封閉，且活動門面向所述第一側面的一側開設容納所述傳送裝置行進的缺口。
6.根據權利要求5所述的一種工件光學測試機構，其特征是，所述暗箱中設有限制所述活動門在氣缸驅動下行進方向的限位機構。
7.根據權利要求6所述的一種工件光學測試機構，其特征是，所述限位機構包括平行于所述氣缸軸線方向設置的導軌，以及設于活動門上與所述導軌配合的滑塊。
8.根據權利要求1所述的一種工件光學測試機構，其特征是，所述傳送裝置上至少設有兩個沿所述傳送方向排列的分別用于支撐工件的放置治具。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種工件光學測試機構，包括中空的暗箱，所述暗箱中設有光學測試裝置，其特征是，還包括若干傳送裝置，所述暗箱設置在傳送裝置的傳送方向上，至少有相對處于所述傳送方向上游的一側設置供工件通過的開口，并設有能夠打開和封閉所述開口的活動門。設有光學測試裝置的暗箱，和傳送裝置的結合，使得傳送裝置可以直接將工件輸入和輸出暗箱進行上料檢測和下料，大大提高檢測效率，同時由傳送裝置運載的工件可以直接跟隨傳送裝置到達暗箱中進行檢測，無需在暗箱中另外設計定位座，免去了重新定位的麻煩，有助于提高檢測精度。
【IPC分類】G01M11-02
【公開號】CN104568388
【申請?zhí)枴緾N201410848448
【發(fā)明人】陳億善, 薄克艷
【申請人】愛彼思（蘇州）自動化科技有限公司
【公開日】2015年4月29日
【申請日】2014年12月31日