本發(fā)明涉及一種無損檢測裝置及方法，特別是涉及一種雙層同軸螺孔檢測裝置及方法。

背景技術(shù)：

某些大型飛機(jī)葉片的緊固結(jié)構(gòu)采用雙層螺孔結(jié)構(gòu)，為保障葉片運(yùn)行安全需要定期對螺孔缺陷進(jìn)行無損檢測。目前，通常采用渦流檢測方法，檢測螺孔的孔邊、內(nèi)壁缺陷，但由于是雙層螺孔結(jié)構(gòu)，渦流檢測探頭掃查難度較大，檢測效率極低。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)之不足，提供一種雙層同軸螺孔檢測裝置及方法，采用結(jié)構(gòu)獨(dú)特的探桿，分別插入上層螺孔和下層螺孔進(jìn)行旋轉(zhuǎn)掃查，通過兩次旋轉(zhuǎn)掃查即可完成雙層螺孔的渦流掃查。

本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是：一種雙層同軸螺孔檢測裝置，包括上桿、中桿、下桿、多個(gè)渦流檢測探頭，其特征在于：所述上桿為圓柱體，其外徑大于被檢螺孔的直徑；所述中桿為圓柱體，其外徑等于被檢螺孔的直徑，中桿的上端面固定在上桿的底端面中心；上桿底端面上圍繞中桿上端面的部分固定一個(gè)渦流檢測探頭，中桿的側(cè)周面徑向固定一列渦流檢測探頭組，所述渦流檢測探頭組由多個(gè)渦流檢測探頭排列組成；所述下桿為彈性桿，下桿的上端面固定在中桿的底端面上，下桿以中桿中軸線為中心傾斜向外，下桿垂直于中桿底端面方向長度等于雙層螺孔之間的間距，下桿底端面以中桿中軸線為中心的旋轉(zhuǎn)內(nèi)直徑等于螺孔的直徑；下桿的底端面固定一個(gè)渦流檢測探頭。

一種雙層同軸螺孔檢測方法，采用上述的裝置，其特征在于：將裝置分別插入上層螺孔和下層螺孔進(jìn)行旋轉(zhuǎn)掃查，通過兩次旋轉(zhuǎn)掃查即可完成雙層螺孔的渦流掃查，包括如下步驟，

a.將裝置從上往下插入上層螺孔中，裝置中的上桿底端面上圍繞中桿上端面的部分剛好與上層螺孔的孔上周邊緊貼；裝置中的中桿側(cè)周面與上層螺孔的內(nèi)表面緊貼；裝置中的下桿穿過上層螺孔，下桿的底端面剛好與下層螺孔的孔上周邊緊貼；

b.以裝置的中軸線為中心旋轉(zhuǎn)裝置，固定在上桿底端面上圍繞中桿上端面的部分的渦流檢測探頭掃查上層螺孔的孔上周邊；固定在中桿的側(cè)周面上的渦流檢測探頭組掃查上層螺孔的內(nèi)表面；固定在下桿底端面的渦流檢測探頭掃查下層螺孔的孔上周邊；裝置旋轉(zhuǎn)一周，即可完成上層螺孔的孔上周邊、上層螺孔的內(nèi)表面、下層螺孔的孔上周邊的渦流掃查；

c.將裝置從下往上插入下層螺孔中，裝置中的上桿底端面上圍繞中桿上端面的部分剛好與下層螺孔的孔下周邊緊貼；裝置中的中桿側(cè)周面與下層螺孔的內(nèi)表面緊貼；裝置中的下桿穿過下層螺孔，下桿的底端面剛好與上層螺孔的孔下周邊緊貼；

d.以裝置的中軸線為中心旋轉(zhuǎn)裝置，固定在上桿底端面上圍繞中桿上端面的部分的渦流檢測探頭掃查下層螺孔的孔下周邊；固定在中桿的側(cè)周面上的渦流檢測探頭組掃查下層螺孔的內(nèi)表面；固定在下桿底端面的渦流檢測探頭掃查上層螺孔的孔下周邊；裝置旋轉(zhuǎn)一周，即可完成下層螺孔的孔下周邊、下層螺孔的內(nèi)表面、上層螺孔的孔下周邊的渦流掃查。

一種雙層同軸螺孔檢測裝置，進(jìn)一步的，裝置包括上桿、中桿、多個(gè)下桿、多個(gè)渦流檢測探頭，所述上桿為圓柱體，其外徑大于被檢螺孔的直徑；所述中桿為圓柱體，其外徑等于被檢螺孔的直徑，中桿的上端面固定在上桿的底端面中心；上桿底端面上圍繞中桿上端面的部分固定多個(gè)渦流檢測探頭，中桿的側(cè)周面徑向固定多列渦流檢測探頭組，每一列渦流檢測探頭組由多個(gè)渦流檢測探頭排列組成；所述多個(gè)下桿為彈性桿，多個(gè)下桿的上端面固定在中桿的底端面上，多個(gè)下桿以中桿中軸線為中心傾斜向外，多個(gè)下桿垂直于中桿底端面方向長度等于雙層螺孔之間的間距，多個(gè)下桿底端面以中桿中軸線為中心的旋轉(zhuǎn)內(nèi)直徑等于螺孔的直徑；每個(gè)下桿的底端面固定一個(gè)或多個(gè)渦流檢測探頭。這樣檢測過程中裝置旋轉(zhuǎn)一個(gè)小角度，即可完成掃查。

本發(fā)明的有益效果是，一種雙層同軸螺孔檢測裝置及方法，采用結(jié)構(gòu)獨(dú)特的探桿，分別插入上層螺孔和下層螺孔進(jìn)行旋轉(zhuǎn)掃查，通過兩次旋轉(zhuǎn)掃查即可完成雙層螺孔的渦流掃查，有效解決了雙層螺孔工件的螺孔缺陷檢測難題，檢測效率大大提高。

以下結(jié)合實(shí)施例對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說明，但本發(fā)明的一種雙層同軸螺孔檢測裝置及方法不局限于實(shí)施例。

附圖說明

下面結(jié)合附圖中實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)一步說明。

圖1是本發(fā)明實(shí)施例一的一種雙層同軸螺孔檢測裝置的三維結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2是本發(fā)明實(shí)施例一的一種雙層同軸螺孔檢測裝置的剖視圖。

圖3是本發(fā)明實(shí)施例一的一種雙層同軸螺孔檢測裝置與雙層螺孔工件示意圖。

圖4是本發(fā)明實(shí)施例一的一種雙層同軸螺孔檢測方法示意圖。

圖5是本發(fā)明實(shí)施例二的一種雙層同軸螺孔檢測裝置的三維結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中，1.上桿，2.中桿，3.下桿，4.渦流檢測探頭，40.渦流檢測探頭組，5.上層螺孔，6.下層螺孔。

具體實(shí)施方式

實(shí)施例一，如圖1、圖2、圖3、圖4所示，一種雙層同軸螺孔檢測裝置，包括上桿1、中桿2、下桿3、多個(gè)渦流檢測探頭4，其特征在于：所述上桿1為圓柱體，其外徑大于被檢螺孔的直徑；所述中桿2為圓柱體，其外徑等于被檢螺孔的直徑，中桿2的上端面固定在上桿1的底端面中心；上桿1底端面上圍繞中桿2上端面的部分固定一個(gè)渦流檢測探頭4，中桿2的側(cè)周面徑向固定一列渦流檢測探頭組40，所述渦流檢測探頭組40由多個(gè)渦流檢測探頭4排列組成；所述下桿3為彈性桿，下桿3的上端面固定在中桿2的底端面上，下桿3以中桿2中軸線為中心傾斜向外，下桿3垂直于中桿2底端面方向長度等于雙層螺孔之間的間距，下桿3底端面以中桿2中軸線為中心的旋轉(zhuǎn)內(nèi)直徑等于螺孔的直徑；下桿3的底端面固定一個(gè)渦流檢測探頭4。

一種雙層同軸螺孔檢測方法，采用上述的裝置，其特征在于：將裝置分別插入上層螺孔5和下層螺孔6進(jìn)行旋轉(zhuǎn)掃查，通過兩次旋轉(zhuǎn)掃查即可完成雙層螺孔的渦流掃查，包括如下步驟，

a.將裝置從上往下插入上層螺孔5中，裝置中的上桿1底端面上圍繞中桿2上端面的部分剛好與上層螺孔5的孔上周邊緊貼；裝置中的中桿2側(cè)周面與上層螺孔5的內(nèi)表面緊貼；裝置中的下桿3穿過上層螺孔5，下桿3的底端面剛好與下層螺孔6的孔上周邊緊貼；

b.以裝置的中軸線為中心旋轉(zhuǎn)裝置，固定在上桿1底端面上圍繞中桿2上端面的部分的渦流檢測探頭4掃查上層螺孔5的孔上周邊；固定在中桿2的側(cè)周面上的渦流檢測探頭組40掃查上層螺孔5的內(nèi)表面；固定在下桿3底端面的渦流檢測探頭4掃查下層螺孔6的孔上周邊；裝置旋轉(zhuǎn)一周，即可完成上層螺孔5的孔上周邊、上層螺孔5的內(nèi)表面、下層螺孔6的孔上周邊的渦流掃查；

c.將裝置從下往上插入下層螺孔6中，裝置中的上桿1底端面上圍繞中桿2上端面的部分剛好與下層螺孔6的孔下周邊緊貼；裝置中的中桿2側(cè)周面與下層螺孔6的內(nèi)表面緊貼；裝置中的下桿3穿過下層螺孔6，下桿3的底端面剛好與上層螺孔5的孔下周邊緊貼；

d.以裝置的中軸線為中心旋轉(zhuǎn)裝置，固定在上桿1底端面上圍繞中桿2上端面的部分的渦流檢測探頭4掃查下層螺孔6的孔下周邊；固定在中桿2的側(cè)周面上的渦流檢測探頭組40掃查下層螺孔6的內(nèi)表面；固定在下桿3底端面的渦流檢測探頭4掃查上層螺孔5的孔下周邊；裝置旋轉(zhuǎn)一周，即可完成下層螺孔6的孔下周邊、下層螺孔6的內(nèi)表面、上層螺孔5的孔下周邊的渦流掃查。

實(shí)施例二，如圖5所示，一種雙層同軸螺孔檢測裝置，進(jìn)一步的，裝置包括上桿1、中桿2、多個(gè)下桿3、多個(gè)渦流檢測探頭4，所述上桿1為圓柱體，其外徑大于被檢螺孔的直徑；所述中桿2為圓柱體，其外徑等于被檢螺孔的直徑，中桿2的上端面固定在上桿1的底端面中心；上桿1底端面上圍繞中桿2上端面的部分固定多個(gè)渦流檢測探頭4，中桿2的側(cè)周面徑向固定多列渦流檢測探頭組40，每一列渦流檢測探頭組40由多個(gè)渦流檢測探頭4排列組成；所述多個(gè)下桿3為彈性桿，多個(gè)下桿3的上端面固定在中桿2的底端面上，多個(gè)下桿3以中桿2中軸線為中心傾斜向外，多個(gè)下桿3垂直于中桿2底端面方向長度等于雙層螺孔之間的間距，多個(gè)下桿3底端面以中桿2中軸線為中心的旋轉(zhuǎn)內(nèi)直徑等于螺孔的直徑；每個(gè)下桿3的底端面固定一個(gè)或多個(gè)渦流檢測探頭4。

上述實(shí)施例僅用來進(jìn)一步說明本發(fā)明的一種雙層同軸螺孔檢測裝置及方法，但本發(fā)明并不局限于實(shí)施例，凡是依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對以上實(shí)施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均落入本發(fā)明技術(shù)方案的保護(hù)范圍內(nèi)。