柱面干涉拼接測量裝置及其調(diào)整方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種圓柱度誤差干涉測量裝置及其調(diào)整方法。它包括干涉儀、支座、六維調(diào)整架、CGH、一維導軌平臺、被測件、四維調(diào)整機構、五維調(diào)整機構、電控升降臺。所述支座上安裝干涉儀和一維導軌平臺,一維導軌平臺上安裝六維調(diào)整架,將CGH安裝在六維調(diào)整架上,使干涉儀出射光軸能夠通過CGH中心,并且能調(diào)整CGH與被測件之間的距離;由所述四維調(diào)整機構、五維調(diào)整機構和電控升降臺組成被測件調(diào)節(jié)機構,被測件調(diào)節(jié)機構下端是電控升降臺。通過調(diào)節(jié)四維調(diào)整平臺使被測件軸心線與五維調(diào)整平臺上的轉(zhuǎn)動平臺的軸心線重合;再調(diào)節(jié)五維調(diào)整平臺使轉(zhuǎn)動平臺的軸心線與CGH產(chǎn)生的柱面焦線精確重合;通過轉(zhuǎn)動平臺并配合升降臺,實現(xiàn)柱型被測件的面型的整周檢測。
【專利說明】柱面干涉拼接測量裝置及其調(diào)整方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及一種圓柱度誤差檢測裝置及方法,特別是一種柱面干涉拼接測量裝置及其調(diào)整方法,有效的解決了被測圓柱型工件在測量中安裝和調(diào)整困難的問題,實現(xiàn)其整周檢測。
【背景技術】
[0002]隨著科技水平和工業(yè)水平的發(fā)展,在現(xiàn)代的工業(yè)生產(chǎn)中對圓柱形零件的要求越來越高。對圓柱型零件的檢驗中,圓柱度誤差測量是檢驗該類零件重要的精度指標之一。針對圓柱度誤差的拼接干涉測量裝置及方法,雖然它能夠滿足ISO的采樣要求并實現(xiàn)高精度測量,但其被測件的安裝調(diào)整較為困難,阻撓了此方法的發(fā)展推廣。
[0003]本發(fā)明結(jié)合了圓柱度誤差的拼接干涉測量裝置及方法,設計了被測件的安裝調(diào)整機構及其調(diào)整方法,能夠?qū)崿F(xiàn)對被測件的快速、有效、精確調(diào)整。
[0004]目前,柱面干涉拼接測量中被測件的安裝調(diào)整機構及其調(diào)整方法未見相關文獻報道。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0005]本發(fā)明的目的在于針對已有技術存在的缺陷,提供一種柱面干涉拼接測量及其調(diào)整方法。利用拼接思想測量圓柱狀零件,由于測量的子孔徑較小,要進行整周檢測,被測件不僅要實現(xiàn)上下移動,還要調(diào)整使被測件的軸心線與計算全息片(CGH)產(chǎn)生的柱面波的焦線重合,并且實現(xiàn)在被測件旋轉(zhuǎn)過程中其軸心線與柱面波焦線始終重合。
[0006]為了達到上述目的,本發(fā)明的構思是:調(diào)整機構分兩部分,一部分使被測件的軸心線與調(diào)整臺的旋轉(zhuǎn)中心線重合,保持這部分不變,調(diào)整另一部分使被測件的軸心線與CGH產(chǎn)生的柱面波焦線重合,可以確保被測件在旋轉(zhuǎn)過程中三條線始終重合,穩(wěn)定測量;一維升降臺實現(xiàn)被測件的上下移動;對被測件進行調(diào)平調(diào)心,防止其軸心線與焦軸線交叉,將被測表面反射光點控制在十字交叉線中心,確保每個子孔徑都有干涉條紋。該調(diào)整機構及其調(diào)整方法最終實現(xiàn)圓柱工件的整周檢測。
[0007]根據(jù)上述的發(fā)明構思,本發(fā)明采用下述技術方案:
一種柱面干涉拼接測量裝置,包括干涉儀(I)、支座(2)、六維調(diào)整架(3)、CGH (4)、一維導軌平臺(5)、被測件(6)、四維調(diào)整機構(7)、五維調(diào)整機構(8)、電控升降臺(9)。其特征在于:所述支座(2)上安裝干涉儀(I)和一維導軌平臺(5),一維導軌平臺(5)上安裝六維調(diào)整架(3) JfCGH (4)安裝在六維調(diào)整架(3)上,使干涉儀(I)出射光軸能夠通過CGH (4)中心,并且能調(diào)整CGH (4)與被測件(6)之間的距離;由所述四維調(diào)整機構(7)、五維調(diào)整機構(8)和電控升降臺(9)組成被測件調(diào)節(jié)機構,被測件調(diào)節(jié)機構下端是電控升降臺(9),電控升降臺(9)上面固定五維調(diào)整機構(8),用來調(diào)整被測件(6)的軸心線與CGH (4)產(chǎn)生的柱面波焦線重合,五維調(diào)整機構(8)上面固定四維調(diào)整機構(7),用來調(diào)整被測件(6)的軸心線與被測件調(diào)節(jié)機構的旋轉(zhuǎn)中心線重合,四維調(diào)節(jié)機構(7)上面固定被測件(6)。[0008]所述裝置中干涉儀(I)是:Zogo公司型號為GPI XP/D的干涉儀,640X480CCD圖像采集,采用激光三維相移干涉法,激光發(fā)生器為氦-氖激光(波長632.8nm),能產(chǎn)生一束標準平面波,平面測量精度達到λ/20。
[0009]所述CGH (4)及其配套的六維調(diào)整架(3)是:Zogo公司產(chǎn)品,型號為H45F1.5C,后焦距65mm。干涉儀(I)產(chǎn)生的平面波經(jīng)過CGH (4)轉(zhuǎn)換為柱面波垂直入射到被測件(6)的表面,攜帶者被測柱面(6)表面面形信息的反射波第二次反向通過CGH (4),進入干涉儀
(I)中,與標準平面波發(fā)生干涉,在CXD中顯示干涉條紋圖;所述六維調(diào)整架(3)的五個旋鈕(15,16,17,18,19)通過不同的組合來控制CGH (4)六個自由度的姿態(tài)。
[0010]所述一維導軌平臺(5)是:安裝板(20)上面固定滑軌(21,21’),滑塊(22,22’)可以沿滑軌(21,21’)的平行方向自由移動,滑軌(22,22’)上面固定連接板(23);連接板(23)上面固定六維調(diào)整架(3 )可進行一維移動。
[0011]所述四維調(diào)整機構(7)是:二軸精密傾斜平臺(11,11’)上面固定另一個二維直動平臺(10,10’),可滿足被測件(6)除上下移動和豎直旋轉(zhuǎn)外的其他四個自由度的調(diào)節(jié)。
[0012]所述五維調(diào)整機構(8)是:二維精密弧擺臺(14,14’)上面固定二維直動平臺(13,13’),而精密轉(zhuǎn)動平臺(12,12’ )固定在該二維直動平臺(13,13’)上,可滿足被測件(6)除上下移動外的其他五個自由度的調(diào)節(jié)。
[0013]所述電控升降臺(9)是:采購產(chǎn)品型號為PSAV100-ZF,配有一維42/57步進電機驅(qū)動控制器,產(chǎn)品編號為SC300-1B,可實現(xiàn)被測件(6)豎直方向的移動和定位。
[0014]所述柱面干涉拼接測量裝置的調(diào)整方法,用于對權利要求1所述的柱面干涉拼接測量裝置進行調(diào)整,其特征在于操作步驟如下:
①安裝調(diào)整CGH(4) =CGH (4)安裝在六維調(diào)整架(3)上,將六維調(diào)整架(3)安裝在一維導軌平臺(5)上;一要調(diào)整CGH (4)與被測件(6)之間的距離,使CGH (4)與被測柱形工件軸線距離為CGH (4)的后焦距;二要調(diào)整六維調(diào)整架(3)使干涉儀(I)的出射光軸通過CGH (4)的中心,并使其相對光軸有I度的偏轉(zhuǎn),通過調(diào)整CGH (4)的標記點位置使CGH(4)產(chǎn)生的柱面波焦線為豎直方向;再觀察CGH (4)對準環(huán),調(diào)節(jié)至對準環(huán)上的干涉條紋數(shù)在5條以內(nèi);
②調(diào)整四維調(diào)整臺(6):首先將被測件調(diào)節(jié)機構所有部件調(diào)整到豎直位置;其次,分別使用水平和豎直的千分表對被測件(6)進行調(diào)心和調(diào)平:調(diào)心是將千分表指針頂在被測件(6)上,通過調(diào)整二維直動平臺(10,10’)來調(diào)節(jié)被測柱面(6)的周線位置,直至千分表示數(shù)在轉(zhuǎn)動過程中變化很??;調(diào)平與調(diào)心的方法相同,不同之處是轉(zhuǎn)動過程中只調(diào)節(jié)二軸精密傾斜平臺(11,11’);在調(diào)心、調(diào)平過程中千分表配合使用:先旋轉(zhuǎn)被測件(6),讓千分表觸頭滑過整個測量行程,尋找表面變化規(guī)律,確定千分表上的最大和最小讀數(shù),然后轉(zhuǎn)動被測件(6)使千分表的指針到達中間讀數(shù)位置,再調(diào)整二維直動平臺(10,10’),使千分表指針達到中間讀數(shù)和最大讀數(shù)的一半量程位置,如此反復;調(diào)整之后移動千分表的位置,保持千分表始終有示數(shù);再重復上述步驟直至千分表示數(shù)幾乎不變;
③調(diào)整一維導軌平臺(5)與電控升降臺(9):移動一維導軌平臺(5)和電控升降臺(9)的位置,使CGH (4)與被測件(6)的軸心線距離為CGH (4)產(chǎn)生的柱面波的后焦距,并且調(diào)整被測件(6)在適合的高度;調(diào)整CGH (4)的方位,使產(chǎn)生的柱面波軸線為豎直方向,使干涉儀(I)光軸垂直通過CGH (4)的中心; ④調(diào)整五維調(diào)整平臺(8):首先在光源模式下找到反射光斑,通過調(diào)節(jié)二維直動平臺(13,13’)和二維精密弧擺臺(14,14’),將反射光斑逐漸調(diào)至十字交叉線中心;再切換至條紋模式進行細調(diào),根據(jù)干涉條紋不同而調(diào)節(jié)不同自由度:面對干涉儀(1),豎條紋則調(diào)節(jié)左右移動,橫條紋則調(diào)節(jié)俯仰,中間疏兩邊密條紋則調(diào)節(jié)離焦,星形條紋則調(diào)節(jié)左右傾斜;干涉條紋越少,被測件軸心線與柱面波焦線重合越好;
⑤保持步驟三的狀態(tài),對被測件(6)再進行一次調(diào)心調(diào)平,并切換至光源模式,在調(diào)整旋轉(zhuǎn)平臺(12,12’ )的過程中不斷調(diào)整四維調(diào)整臺(7)中的二維直動臺(10,10’ )和二軸精密傾斜臺(11,11’),使光點不偏出十字交叉中心,確保在條紋模式下被測件(6 )轉(zhuǎn)動一周,每個位置都有干涉條紋圖,實現(xiàn)整周檢測。
[0015]本發(fā)明柱面干涉拼接測量裝置及其調(diào)整方法的有益效果是:能夠方便、快速、準確調(diào)整柱形被測件以滿足測量要求,實現(xiàn)其整周檢測。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0016]圖1是柱面干涉拼接測量裝置的整體結(jié)構示意圖。
[0017]圖2是柱面干涉拼接測量裝置中被測件調(diào)節(jié)機構的結(jié)構示意圖。
[0018]圖3是四維調(diào)整機構的結(jié)構示意圖 圖4是五維調(diào)整機構的結(jié)構示意圖
圖5是CGH六維調(diào)整架的結(jié)構示意圖 圖6是一維導軌平臺的結(jié)構示意圖 圖7是測量裝置調(diào)整方法的程序框圖。
【具體實施方式】
[0019]本發(fā)明實施例結(jié)合【專利附圖】
【附圖說明】如下:
實施例一:
如圖1所示,一種柱面干涉拼接測量裝置,包括干涉儀(I)、支座(2)、六維調(diào)整架(3)、CGH (4)、一維導軌平臺(5)、被測件(6)、四維調(diào)整機構(7)、五維調(diào)整機構(8)、電控升降臺(9)。其特征在于:所述支座(2)上安裝干涉儀(I)和一維導軌平臺(5),一維導軌平臺(5)上安裝六維調(diào)整架(3)JfCGH (4)安裝在六維調(diào)整架(3)上,使干涉儀(I)出射光軸能夠通過CGH (4)中心,并且能調(diào)整CGH (4)與被測件(6)之間的距離;由所述四維調(diào)整機構(7)、五維調(diào)整機構(8)和電控升降臺(9)組成被測件調(diào)節(jié)機構,被測件調(diào)節(jié)機構下端是電控升降臺(9),電控升降臺(9)上面固定五維調(diào)整機構(8),用來調(diào)整被測件(6)的軸心線與CGH(4)產(chǎn)生的柱面波焦線重合,五維調(diào)整機構(8)上面固定四維調(diào)整機構(7),用來調(diào)整被測件(6)的軸心線與被測件調(diào)節(jié)機構的旋轉(zhuǎn)中心線重合,四維調(diào)節(jié)機構(7)上面固定被測件(6)。
[0020]所述裝置中干涉儀(I)是:Zogo公司型號為GPI XP/D的干涉儀,640X480CCD圖像采集,采用激光三維相移干涉法,激光發(fā)生器為氦-氖激光(波長632.8nm),能產(chǎn)生一束標準平面波,平面測量精度達到λ/20。
[0021]所述CGH (4)及其配套的六維調(diào)整架(3)是:Zogo公司產(chǎn)品,型號為H45F1.5C,后焦距65mm。干涉儀(I)產(chǎn)生的平面波經(jīng)過CGH (4)轉(zhuǎn)換為柱面波垂直入射到被測件(6)的表面,攜帶者被測柱面(6)表面面形信息的反射波第二次反向通過CGH (4),進入干涉儀
(I)中,與標準平面波發(fā)生干涉,在C⑶中顯示干涉條紋圖;所述六維調(diào)整架(3)的五個旋鈕(15,16,17,18,19)通過不同的組合來控制CGH (4)六個自由度的姿態(tài)。
[0022]所述一維導軌平臺(5)是:安裝板(20)上面固定滑軌(21,21’),滑塊(22,22’)可以沿滑軌(21,21’)的平行方向自由移動,滑軌(22,22’)上面固定連接板(23);連接板(23)上面固定六維調(diào)整架(3 )可進行一維移動。
[0023]所述四維調(diào)整機構(7)是:二軸精密傾斜平臺(11,11’)上面固定另一個二維直動平臺(10,10’),可滿足被測件(6)除上下移動和豎直旋轉(zhuǎn)外的其他四個自由度的調(diào)節(jié)。
[0024]所述五維調(diào)整機構(8)是:二維精密弧擺臺(14,14’)上面固定二維直動平臺(13,13’),而精密轉(zhuǎn)動平臺(12,12’ )固定在該二維直動平臺(13,13’)上,可滿足被測件
(6)除上下移動外的其他五個自由度的調(diào)節(jié)。
[0025]所述電控升降臺(9)是:采購產(chǎn)品型號為PSAV100-ZF,配有一維42/57步進電機驅(qū)動控制器,產(chǎn)品編號為SC300-1B,可實現(xiàn)被測件(6)豎直方向的移動和定位。
[0026]實施例二:
一種柱面干涉拼接測量裝置的調(diào)整方法,用于對權利要求1所述的柱面干涉拼接測量裝置進行調(diào)整,其特征在于操作步驟如下:
①安裝調(diào)整CGH(4) =CGH (4)安裝在六維調(diào)整架(3)上,將六維調(diào)整架(3)安裝在一維導軌平臺(5)上;一要調(diào)整CGH (4)與被測件(6)之間的距離,使CGH (4)與被測柱形工件軸線距離為CGH (4)的后焦距;二要調(diào)整六維調(diào)整架(3)使干涉儀(I)的出射光軸通過CGH (4)的中心,并使其相對光軸有I度的偏轉(zhuǎn),通過調(diào)整CGH (4)的標記點位置使CGH
(4)產(chǎn)生的柱面波焦線為豎直方向;再觀察CGH (4)對準環(huán),調(diào)節(jié)至對準環(huán)上的干涉條紋數(shù)在5條以內(nèi);
②調(diào)整四維調(diào)整臺(6):首先將被測件調(diào)節(jié)機構所有部件調(diào)整到豎直位置;其次,分別使用水平和豎直的千分表對被測件(6)進行調(diào)心和調(diào)平:調(diào)心是將千分表指針頂在被測件(6)上,通過調(diào)整二維直動平臺(10,10’)來調(diào)節(jié)被測柱面(6)的周線位置,直至千分表示數(shù)在轉(zhuǎn)動過程中變化很小;調(diào)平與調(diào)心的方法相同,不同之處是轉(zhuǎn)動過程中只調(diào)節(jié)二軸精密傾斜平臺(11,11’);在調(diào)心、調(diào)平過程中千分表配合使用:先旋轉(zhuǎn)被測件(6),讓千分表觸頭滑過整個測量行程,尋找表面變化規(guī)律,確定千分表上的最大和最小讀數(shù),然后轉(zhuǎn)動被測件(6)使千分表的指針到達中間讀數(shù)位置,再調(diào)整二維直動平臺(10,10’),使千分表指針達到中間讀數(shù)和最大讀數(shù)的一半量程位置,如此反復;調(diào)整之后移動千分表的位置,保持千分表始終有示數(shù);再重復上述步驟直至千分表示數(shù)幾乎不變;
③調(diào)整一維導軌平臺(5)與電控升降臺(9):移動一維導軌平臺(5)和電控升降臺
(9)的位置,使CGH (4)與被測件(6)的軸心線距離為CGH (4)產(chǎn)生的柱面波的后焦距,并且調(diào)整被測件(6)在適合的高度;調(diào)整CGH (4)的方位,使產(chǎn)生的柱面波軸線為豎直方向,使干涉儀(I)光軸垂直通過CGH (4)的中心;
④調(diào)整五維調(diào)整平臺(8):首先在光源模式下找到反射光斑,通過調(diào)節(jié)二維直動平臺(13,13’)和二維精密弧擺臺(14,14’),將反射光斑逐漸調(diào)至十字交叉線中心;再切換至條紋模式進行細調(diào),根據(jù)干涉條紋不同而調(diào)節(jié)不同自由度:面對干涉儀(1),豎條紋則調(diào)節(jié)左右移動,橫條紋則調(diào)節(jié)俯仰,中間疏兩邊密條紋則調(diào)節(jié)離焦,星形條紋則調(diào)節(jié)左右傾斜;干涉條紋越少,被測件軸心線與柱面波焦線重合越好;
⑤保持步驟三的狀態(tài),對被測件(6)再進行一次調(diào)心調(diào)平,并切換至光源模式,在調(diào)整旋轉(zhuǎn)平臺(12,12’ )的過程中不斷調(diào)整四維調(diào)整臺(7)中的二維直動臺(10,10’)和二軸精密傾斜臺(11,11’),使光點不偏出十字交叉中心,確保在條紋模式下被測件(6 )轉(zhuǎn)動一周,每個位置都有干涉條紋圖,實現(xiàn)整周檢測。
[0027]上述實例實施不以任何形式限制本發(fā)明,凡采取等同替換或者等效變換的方式所獲得技術方案,均在本發(fā)明保護范圍內(nèi)。
【權利要求】
1.一種柱面干涉拼接測量裝置,包括干涉儀(I)、支座(2)、六維調(diào)整架(3)、CGH(4)、一維導軌平臺(5)、被測件(6)、四維調(diào)整機構(7)、五維調(diào)整機構(8)、電控升降臺(9);其特征在于:所述支座(2)上安裝干涉儀(I)和一維導軌平臺(5),一維導軌平臺(5)上安裝六維調(diào)整架(3),將CGH (4)安裝在六維調(diào)整架(3)上,使干涉儀(I)出射光軸能夠通過CGH (4)中心,并且能調(diào)整CGH (4)與被測件(6)之間的距離;由所述四維調(diào)整機構(7)、五維調(diào)整機構(8)和電控升降臺(9)組成被測件調(diào)節(jié)機構,被測件調(diào)節(jié)機構下端是電控升降臺(9),電控升降臺(9)上面固定五維調(diào)整機構(8),用來調(diào)整被測件(6)的軸心線與CGH (4)產(chǎn)生的柱面波焦線重合,五維調(diào)整機構(8)上面固定四維調(diào)整機構(7),用來調(diào)整被測件(6)的軸心線與被測件調(diào)節(jié)機構的旋轉(zhuǎn)中心線重合,四維調(diào)節(jié)機構(7)上面固定被測件(6)。
2.所述一維導軌平臺(5)是:安裝板(20)上面固定滑軌(21,21’),滑塊(22,22’)可以沿滑軌(21,21’)的平行方向自由移動,滑軌(22,22’)上面固定連接板(23);連接板(23)上面固定六維調(diào)整架(3 )可進行一維移動。
3.所述四維調(diào)整機構(7)是:二軸精密傾斜平臺(11,11’)上面固定另一個二維直動平臺(10,10’),可滿足被測件(6)除上下移動和豎直旋轉(zhuǎn)外的其他四個自由度的調(diào)節(jié)。
4.所述五維調(diào)整機構(8)是:二維精密弧擺臺(14,14’)上面固定二維直動平臺(13,13’),而精密轉(zhuǎn)動平臺(12,12’ )固定在該二維直動平臺(13,13’)上,可滿足被測件(6)除上下移動外的其他五個自由度的調(diào)節(jié)。
5.所述柱面干涉拼接測量裝置的調(diào)整方法,用于對權利要求1所述的柱面干涉拼接測量裝置進行調(diào)整,其特征在于操作步驟如下: ①安裝調(diào)整CGH(4) =CGH (4)安裝在六維調(diào)整架(3)上,將六維調(diào)整架(3)安裝在一維導軌平臺(5)上;一要調(diào)整CGH (4)與被測件(6)之間的距離,使CGH (4)與被測柱形工件軸線距離為CGH (4)的后焦距;二要調(diào)整六維調(diào)整架(3)使干涉儀(I)的出射光軸通過CGH (4)的中心,并使其相對光軸有I度的偏轉(zhuǎn),通過調(diào)整CGH (4)的標記點位置使CGH(4)產(chǎn)生的柱面波焦線為豎直方向;再觀察CGH (4)對準環(huán),調(diào)節(jié)至對準環(huán)上的干涉條紋數(shù)在5條以內(nèi); ②調(diào)整四維調(diào)整臺(6):首先將被測件調(diào)節(jié)機構所有部件調(diào)整到豎直位置;其次,分別使用水平和豎直的千分表對被測件(6)進行調(diào)心和調(diào)平:調(diào)心是將千分表指針頂在被測件(6)上,通過調(diào)整二維直動平臺(10,10’)來調(diào)節(jié)被測柱面(6)的周線位置,直至千分表示數(shù)在轉(zhuǎn)動過程中變化很?。徽{(diào)平與調(diào)心的方法相同,不同之處是轉(zhuǎn)動過程中只調(diào)節(jié)二軸精密傾斜平臺(11,11’);在調(diào)心、調(diào)平過程中千分表配合使用:先旋轉(zhuǎn)被測件(6),讓千分表觸頭滑過整個測量行程,尋找表面變化規(guī)律,確定千分表上的最大和最小讀數(shù),然后轉(zhuǎn)動被測件(6)使千分表的指針到達中間讀數(shù)位置,再調(diào)整二維直動平臺(10,10’),使千分表指針達到中間讀數(shù)和最大讀數(shù)的一半量程位置,如此反復;調(diào)整之后移動千分表的位置,保持千分表始終有示數(shù);再重復上述步驟直至千分表示數(shù)幾乎不變; ③調(diào)整一維導軌平臺(5)與電控升降臺(9):移動一維導軌平臺(5)和電控升降臺(9)的位置,使CGH (4)與被測件(6)的軸心線距離為CGH (4)產(chǎn)生的柱面波的后焦距,并且調(diào)整被測件(6)在適合的高度;調(diào)整CGH (4)的方位,使產(chǎn)生的柱面波軸線為豎直方向,使干涉儀(I)光軸垂直通過CGH (4)的中心; ④調(diào)整五維調(diào)整平臺(8):首先在光源模式下找到反射光斑,通過調(diào)節(jié)二維直動平臺(13,13’)和二維精密弧擺臺(14,14’),將反射光斑逐漸調(diào)至十字交叉線中心;再切換至條紋模式進行細調(diào),根據(jù)干涉條紋不同而調(diào)節(jié)不同自由度:面對干涉儀(1),豎條紋則調(diào)節(jié)左右移動,橫條紋則調(diào)節(jié)俯仰,中間疏兩邊密條紋則調(diào)節(jié)離焦,星形條紋則調(diào)節(jié)左右傾斜;干涉條紋越少,被測件軸心線與柱面波焦線重合越好; 保持步驟三的狀態(tài),對被測件(6)再進行一次調(diào)心調(diào)平,并切換至光源模式,在調(diào)整旋轉(zhuǎn)平臺(12,12’ )的過程中不斷調(diào)整四維調(diào)整臺(7)中的二維直動臺(10,10’ )和二軸精密傾斜臺(11,11’),使光點不偏出十字交叉中心,確保在條紋模式下被測件(6)轉(zhuǎn)動一周,每個位置都有干涉條 紋圖,實現(xiàn)整周檢測。
【文檔編號】G01B11/24GK103994731SQ201410223665
【公開日】2014年8月20日 申請日期:2014年5月26日 優(yōu)先權日:2014年5月26日
【發(fā)明者】于瀛潔, 許海峰, 彭軍政, 葛東寶, 宋琨鵬 申請人:上海大學