一種可進(jìn)行自清潔的電子分析天平的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種可進(jìn)行自清潔的電子分析天平，包括測(cè)量基座與設(shè)置在測(cè)量基座上的測(cè)量室，所述電子分析天平包含有設(shè)立在測(cè)量基座上的清潔室；所述清潔室有超聲波清潔裝置與干燥裝置組成；所述超聲波清潔裝置由超聲波發(fā)生器、超聲波換能器與清潔劑噴射裝置組成；所述測(cè)量室內(nèi)設(shè)有干燥裝置，所述干燥裝置包含有電加熱管；所述電加熱管由清潔室延伸至測(cè)量室內(nèi)；采用上述技術(shù)方案的電子分析天平，確保其測(cè)量平臺(tái)與待測(cè)物體表面沒(méi)有污垢，從而得到更為精確的測(cè)量結(jié)果；同時(shí)采用電熱管對(duì)測(cè)量室內(nèi)加熱，可以快速蒸發(fā)測(cè)量平臺(tái)與待測(cè)物體上的殘留清潔劑，減少測(cè)量誤差，并能保持測(cè)量室內(nèi)干燥，避免空氣潮濕而影響測(cè)量數(shù)據(jù)。
【專利說(shuō)明】—種可進(jìn)行自清潔的電子分析天平
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本實(shí)用新型涉及一種天平，尤其是一種可進(jìn)行自清潔的電子分析天平。
【背景技術(shù)】
[0002]電子分析天平作為精密測(cè)量工具已在工業(yè)、醫(yī)療、化工等領(lǐng)域得到廣泛的運(yùn)用。由于電子分析天平的待測(cè)對(duì)象對(duì)測(cè)量精度具有極高要求，測(cè)量過(guò)程中的絲毫誤差均有可能影響測(cè)量結(jié)果。電子分析天平在長(zhǎng)期使用中其表面必然會(huì)留下或多或少的灰塵與污垢，同時(shí)待測(cè)物體在生產(chǎn)、運(yùn)輸過(guò)程中也難以表面的潔凈；上述污垢均有可能影響待測(cè)天平的測(cè)量結(jié)果，而簡(jiǎn)單的擦洗通常難以除盡污垢。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種電子分析天平，其可以有效清潔天平表面與待測(cè)物體的表層污垢，從而提高測(cè)量精度。
[0004]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型提供了一種可進(jìn)行自清潔的電子分析天平，包括測(cè)量基座與設(shè)置在測(cè)量基座上的測(cè)量室，所述測(cè)量基座包含控制面板、顯示屏，以及設(shè)立在測(cè)量基座上表面的測(cè)量平臺(tái)；所述測(cè)量室包括玻璃面板與前開(kāi)門(mén)；所述電子分析天平包含有設(shè)立在測(cè)量基座上的清潔室；所述清潔室有超聲波清潔裝置與干燥裝置組成；所述超聲波清潔裝置由超聲波發(fā)生器、超聲波換能器與清潔劑噴射裝置組成；所述測(cè)量室內(nèi)設(shè)有干燥裝置，所述干燥裝置包含有電加熱管；所述電加熱管由清潔室延伸至測(cè)量室內(nèi)。
[0005]作為本實(shí)用新型的一種改進(jìn)，所述超聲波發(fā)生器內(nèi)部設(shè)有放大電路；所述放大電路采用開(kāi)關(guān)電源形式放大電路。采用開(kāi)關(guān)電源形式放大電路可以有效提高其放大電路工作效率，從而使得超聲波發(fā)生器輸出功率有所提高。
[0006]作為本實(shí)用新型的一種改進(jìn)，所述超聲波發(fā)生器內(nèi)部設(shè)有電源裝置；所述電源裝置采用它激式電源。采用它激式電源可匹配各類型的輸入電壓。
[0007]作為本實(shí)用新型的一種改進(jìn)，所述清潔劑噴射裝置包含有兩個(gè)相互水平的清潔劑出口，所述兩個(gè)清潔劑出口處于同一垂線上。采用兩個(gè)清潔劑出口，可以同時(shí)清潔測(cè)量平臺(tái)與待測(cè)物體，確保其表面無(wú)污垢。
[0008]作為本實(shí)用新型的另一種改進(jìn)，所述電加熱管延伸至測(cè)量室部分為多根首尾相連的U型管，有效的增加了其散熱面積，加速了測(cè)量室內(nèi)的干燥速度。
[0009]作為本實(shí)用新型的另一種改進(jìn)，所述測(cè)量基座上設(shè)有引流槽，其可以確保清潔劑不會(huì)停留在測(cè)量平臺(tái)上。
[0010]使用時(shí)，清潔劑噴射噴射裝置將清潔劑噴射在測(cè)量平臺(tái)與待測(cè)物體表面，待其覆蓋均勻后，采用超聲波對(duì)其進(jìn)行清潔。清潔完成后的清潔液連通污垢隨引流槽流出，同時(shí)電熱管通過(guò)升溫使得物體表面殘留清潔劑快速蒸發(fā)。
[0011]采用上述技術(shù)方案的電子分析天平，其可以在測(cè)量開(kāi)始之前對(duì)測(cè)量平臺(tái)與待測(cè)物體進(jìn)行超聲波清洗，確保其表面沒(méi)有污垢，從而得到更為精確的測(cè)量結(jié)果；同時(shí)采用電熱管對(duì)測(cè)量室內(nèi)加熱，可以快速蒸發(fā)測(cè)量平臺(tái)與待測(cè)物體上的殘留清潔劑，減少測(cè)量誤差，并能保持測(cè)量室內(nèi)干燥，避免空氣潮濕而影響測(cè)量數(shù)據(jù)。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0012]圖1為本實(shí)用新型的主視圖；
[0013]附圖標(biāo)記說(shuō)明:
[0014]I 一測(cè)量基座、2—測(cè)量室、3—測(cè)量平臺(tái)、4 一清潔室、5—超聲波發(fā)生器、6—超聲波換能器、7—清潔劑噴射裝置、8—電熱管、9一引流槽。
【具體實(shí)施方式】
[0015]下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】，進(jìn)一步闡明本實(shí)用新型，應(yīng)理解下述【具體實(shí)施方式】?jī)H用于說(shuō)明本實(shí)用新型而不用于限制本實(shí)用新型的范圍。
[0016]如圖1所示的一種可進(jìn)行自清潔的電子分析天平，包括測(cè)量基座I與設(shè)置在測(cè)量基座上的測(cè)量室2，所述測(cè)量基座I包含控制面板、顯示屏，以及設(shè)立在測(cè)量基座I上表面的測(cè)量平臺(tái)3 ;所述測(cè)量室包括玻璃面板與前開(kāi)門(mén)；所述電子分析天平包含有設(shè)立在測(cè)量基座上的清潔室；所述清潔室4有超聲波清潔裝置與干燥裝置組成；所述超聲波清潔裝置由超聲波發(fā)生器5、超聲波換能器6與清潔劑噴射裝置7組成；所述測(cè)量室內(nèi)設(shè)有干燥裝置，所述干燥裝置包含有電加熱管9 ;所述電加熱管9由清潔室4延伸至測(cè)量室2內(nèi)。
[0017]作為本實(shí)用新型的一種改進(jìn)，所述超聲波發(fā)生器5內(nèi)部設(shè)有放大電路；所述放大電路采用開(kāi)關(guān)電源形式放大電路。采用開(kāi)關(guān)電源形式放大電路可以有效提高其放大電路工作效率，從而使得超聲波發(fā)生器輸出功率有所提高。
[0018]作為本實(shí)用新型的一種改進(jìn)，所述超聲波發(fā)生器5內(nèi)部設(shè)有電源裝置；所述電源裝置采用它激式電源。采用它激式電源可匹配各類型的輸入電壓。
[0019]作為本實(shí)用新型的一種改進(jìn)，所述清潔劑噴射裝置7包含有兩個(gè)相互水平的清潔劑出口，所述兩個(gè)清潔劑出口處于同一垂線上。采用兩個(gè)清潔劑出口，可以同時(shí)清潔測(cè)量平臺(tái)與待測(cè)物體，確保其表面無(wú)污垢。
[0020]作為本實(shí)用新型的另一種改進(jìn)，所述電加熱管8延伸至測(cè)量室部分為多根首尾相連的U型管，有效的增加了其散熱面積，加速了測(cè)量室內(nèi)的干燥速度。
[0021]作為本實(shí)用新型的另一種改進(jìn)，所述測(cè)量基座上設(shè)有引流槽9，其可以確保清潔劑不會(huì)停留在測(cè)量平臺(tái)上。
[0022]使用時(shí)，清潔劑噴射噴射裝置將清潔劑噴射在測(cè)量平臺(tái)與待測(cè)物體表面，待其覆蓋均勻后，采用超聲波對(duì)其進(jìn)行清潔。清潔完成后的清潔液連通污垢隨引流槽流出，同時(shí)電熱管通過(guò)升溫使得物體表面殘留清潔劑快速蒸發(fā)。
[0023]采用上述技術(shù)方案的電子分析天平，其可以在測(cè)量開(kāi)始之前對(duì)測(cè)量平臺(tái)與待測(cè)物體進(jìn)行超聲波清洗，確保其表面沒(méi)有污垢，從而得到更為精確的測(cè)量結(jié)果；同時(shí)采用電熱管對(duì)測(cè)量室內(nèi)加熱，可以快速蒸發(fā)測(cè)量平臺(tái)與待測(cè)物體上的殘留清潔劑，減少測(cè)量誤差，并能保持測(cè)量室內(nèi)干燥，避免空氣潮濕而影響測(cè)量數(shù)據(jù)。
[0024]本實(shí)用新型方案所公開(kāi)的技術(shù)手段不僅限于上述實(shí)施方式所公開(kāi)的技術(shù)手段，還包括由以上技術(shù)特征任意組合所組成的技術(shù)方案。
【權(quán)利要求】
1.一種可進(jìn)行自清潔的電子分析天平，包括測(cè)量基座與設(shè)置在測(cè)量基座上的測(cè)量室，所述測(cè)量基座包含控制面板、顯示屏，以及設(shè)立在測(cè)量基座上表面的測(cè)量平臺(tái)；所述測(cè)量室包括玻璃面板與前開(kāi)門(mén)；其特征在于，所述電子分析天平包含有設(shè)立在測(cè)量基座上的清潔室；所述清潔室有超聲波清潔裝置與干燥裝置組成；所述超聲波清潔裝置由超聲波發(fā)生器、超聲波換能器與清潔劑噴射裝置組成；所述測(cè)量室內(nèi)設(shè)有干燥裝置，所述干燥裝置包含有電加熱管；所述電加熱管由清潔室延伸至測(cè)量室內(nèi)。
2.按照權(quán)利要求1所述的可進(jìn)行自清潔的電子分析天平，其特征在于，所述超聲波發(fā)生器內(nèi)部設(shè)有放大電路；所述放大電路采用開(kāi)關(guān)電源形式放大電路。
3.按照權(quán)利要求1所述的可進(jìn)行自清潔的電子分析天平，其特征在于，所述超聲波發(fā)生器內(nèi)部設(shè)有電源裝置；所述電源裝置采用它激式電源。
4.按照權(quán)利要求1所述的可進(jìn)行自清潔的電子分析天平，其特征在于，所述清潔劑噴射裝置包含有兩個(gè)相互水平的清潔劑出口，所述兩個(gè)清潔劑出口處于同一垂線上。
5.按照權(quán)利要求1所述的可進(jìn)行自清潔的電子分析天平，其特征在于，所述電加熱管延伸至測(cè)量室部分為多根首尾相連的U型管。
6.按照權(quán)利要求1所述的可進(jìn)行自清潔的電子分析天平，其特征在于，所述測(cè)量基座上設(shè)有引流槽。
【文檔編號(hào)】G01G23/00GK203587210SQ201320610980
【公開(kāi)日】2014年5月7日 申請(qǐng)日期:2013年9月30日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月30日
【發(fā)明者】劉達(dá)文, 李修強(qiáng), 初亞飛, 胡佚, 羅永剛, 畢金, 毛宇, 李健, 凌云 申請(qǐng)人:南京白云化工環(huán)境監(jiān)測(cè)有限公司