一種珍珠珠層厚度的無(wú)損檢測(cè)方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種珍珠珠層厚度的無(wú)損檢測(cè)方法，包括以下步驟：將標(biāo)準(zhǔn)球體設(shè)置在X射線放射源和成像平面之間，使標(biāo)準(zhǔn)球體的球心位于參考直線上；利用X射線放射源照射標(biāo)準(zhǔn)球體，從而在成像平面上得到一標(biāo)準(zhǔn)球體圖像，測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)球體圖像的半徑R0，計(jì)算比例系數(shù)μ＝r0/R0，其中，r0為標(biāo)準(zhǔn)球體的半徑；將待測(cè)珍珠設(shè)置在X射線放射源和成像設(shè)備之間，使待測(cè)珍珠的球心位于參考直線上；利用X射線放射源照射待測(cè)珍珠，從而在成像平面上得到待測(cè)珍珠圖像，待測(cè)珍珠圖像包括珠核圖像和環(huán)狀的珠層圖像，測(cè)量待測(cè)珍珠圖像的半徑R1以及珠核圖像的半徑R2，待測(cè)珍珠的半徑為r1＝μR1，珠核的半徑為r2＝μR2，珠層厚度為r＝r1-r2。基于本發(fā)明的計(jì)算過(guò)程中的誤差可控，測(cè)量結(jié)果更為準(zhǔn)確。
【專利說(shuō)明】一種珍珠珠層厚度的無(wú)損檢測(cè)方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及珍珠珠層的檢測(cè)方法，尤其涉及一種利用X射線放射源的珍珠珠層厚度的無(wú)損檢測(cè)方法?！颈尘凹夹g(shù)】
[0002]珍珠是一個(gè)不透明的小球體，人們很容易從外觀上對(duì)珍珠的顏色、光澤、圓度、規(guī)格大小以及光潔度進(jìn)行判別。如果想深入了解珍珠的內(nèi)部結(jié)構(gòu)，一般要通過(guò)打孔或解剖的方式才能做到，但這樣做會(huì)使珍珠遭到破壞。
[0003]隨著計(jì)算機(jī)技術(shù)的發(fā)展，目前人們主要使用X射線技術(shù)和光學(xué)相干層析成像技術(shù)對(duì)珍珠進(jìn)行無(wú)損檢測(cè)。這些新成果應(yīng)用于珍珠檢測(cè)領(lǐng)域，比較有效地解決了“珍珠鑒定和定量檢測(cè)”的難題。但目前的X射線和光學(xué)相干層析成像技術(shù)存在一些缺陷，具體來(lái)說(shuō)，一般的X射線檢測(cè)技術(shù)直接通過(guò)被測(cè)珍珠的影像來(lái)計(jì)算珍珠的半徑，在這個(gè)過(guò)程中各種參數(shù)的測(cè)量存在誤差，尤其是一些參數(shù)如射線源到珍珠內(nèi)部點(diǎn)B的距離是無(wú)法測(cè)量得到的，這就導(dǎo)致很難測(cè)得被測(cè)珍珠的半徑A，計(jì)算的結(jié)果誤差無(wú)法控制(如圖1所示)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]針對(duì)上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供了一種誤差可控的珍珠珠層厚度的無(wú)損檢測(cè)方法。
[0005]本發(fā)明提供的技術(shù)方案為:
[0006]一種珍珠珠層厚度的無(wú)損檢測(cè)方法，包括以下步驟:
[0007]步驟一、成像設(shè)備提供一成像平面，在X射線放射源和所述成像平面之間規(guī)劃一平行于所述成像平面的參考直線，將標(biāo)準(zhǔn)球體設(shè)置在所述X射線放射源和所述成像平面之間，并且使所述標(biāo)準(zhǔn)球體的球心位于所述參考直線上；
[0008]步驟二、利用所述X射線放射源照射所述標(biāo)準(zhǔn)球體，從而在所述成像平面上得到一標(biāo)準(zhǔn)球體圖像，測(cè)量所述標(biāo)準(zhǔn)球體圖像的半徑Rtl,計(jì)算比例系數(shù)μ =IViRtl，其中，r0為所述標(biāo)準(zhǔn)球體的半徑；
[0009]步驟三、將待測(cè)珍珠設(shè)置在X射線放射源和成像設(shè)備之間，并且使所述待測(cè)珍珠的球心也位于所述參考直線上，所述待測(cè)珍珠包括珠核以及環(huán)狀的珠層，所述珠核位于所述珠層的中心；
[0010]步驟四、利用所述X射線放射源照射所述待測(cè)珍珠，從而在所述成像平面上得到待測(cè)珍珠圖像，所述待測(cè)珍珠圖像包括珠核圖像和環(huán)狀的珠層圖像，測(cè)量所述待測(cè)珍珠圖像的半徑R1以及所述珠核圖像的半徑R2，所述待測(cè)珍珠的半徑為A = μ R1，所述珠核的半徑為r2 = μ R2,則所述珠層厚度為r = rrr20
[0011 ] 優(yōu)選的是，所述的珍珠珠層厚度的無(wú)損檢測(cè)方法中，所述步驟一中，所述標(biāo)準(zhǔn)球體的球心位于所述X射線放射源到所述成像平面的垂線段上；所述步驟三中，所述待測(cè)珍珠的球心也位于所述X射線放射源到所述成像平面的垂線段上。[0012]優(yōu)選的是，所述的珍珠珠層厚度的無(wú)損檢測(cè)方法中，所述X射線放射源到所述參考直線的距離a≥20rQ。
[0013]優(yōu)選的是，所述的珍珠珠層厚度的無(wú)損檢測(cè)方法中，所述步驟一中，選擇與所述待測(cè)珍珠的半徑接近的標(biāo)準(zhǔn)球體。
[0014]優(yōu)選的是，所述的珍珠珠層厚度的無(wú)損檢測(cè)方法中，所述標(biāo)準(zhǔn)球體為鋼球。
[0015]優(yōu)選的是，所述的珍珠珠層厚度的無(wú)損檢測(cè)方法中，所述步驟四中，所述待測(cè)珍珠圖像的半徑是經(jīng)過(guò)以下方法測(cè)量得到的:沿所述待測(cè)珍珠圖像的邊緣每間隔預(yù)定角度g取一個(gè)點(diǎn)，從而選取到h個(gè)點(diǎn)，h = 360° /g,利用h個(gè)點(diǎn)擬合一個(gè)與所述待測(cè)珍珠圖像對(duì)應(yīng)的圓，則上述與待測(cè)珍珠圖像對(duì)應(yīng)的圓的半徑就是待測(cè)珍珠圖像的半徑，
[0016]所述珠核圖像的半徑是經(jīng)過(guò)以下方法得到的:沿所述珠核圖像的邊緣每間隔預(yù)定角度j取一個(gè)點(diǎn)，從而選取到I個(gè)點(diǎn)，I = 360° /j，利用I個(gè)點(diǎn)擬合一個(gè)與所述珠核圖像對(duì)應(yīng)的圓，則上述與珠核圖像對(duì)應(yīng)的圓的半徑就是珠核圖像的半徑。
[0017]優(yōu)選的是，所述的珍珠珠層厚度的無(wú)損檢測(cè)方法中，所述步驟二中，所述標(biāo)準(zhǔn)球體圖像的半徑是經(jīng)過(guò)以下方法測(cè)量得到的:沿所述標(biāo)準(zhǔn)球體圖像的邊緣每間隔預(yù)定角度e取一個(gè)點(diǎn)，從而選取到f個(gè)點(diǎn)，f = 360° /e，利用f個(gè)點(diǎn)擬合一個(gè)與標(biāo)準(zhǔn)球體圖像對(duì)應(yīng)的圓，則上述與標(biāo)準(zhǔn)球體圖像對(duì)應(yīng)的圓的半徑就是標(biāo)準(zhǔn)球體圖像的半徑。
[0018]優(yōu)選的是,所述的珍珠珠層厚度的無(wú)損檢測(cè)方法中，e = g = j = 1°。
[0019]本發(fā)明所述的檢測(cè)方法具有以下有益效果:本發(fā)明首先檢測(cè)一個(gè)半徑已知的標(biāo)準(zhǔn)球體，該標(biāo)準(zhǔn)球體的球心位于一平行于成像平面的參考直線上，并計(jì)算一比例系數(shù)μ，之后再將待測(cè)珍珠放置在X射線放射源和成像平面之間，并且使待測(cè)珍珠的球心也位于參考直線上，則待測(cè)珍珠的半徑A = μ R1,珠核的半徑為r2 = μ R2,珠層厚度為r = r1r2。由于標(biāo)準(zhǔn)球體的球心和待測(cè)珍珠的球心都位于參考直線上，根據(jù)相似三角形的性質(zhì)，實(shí)際上μ=d0/R0 = (VR1 = d2/R2 ;此外,本發(fā)明還認(rèn)為 d。^ r0,以及(I1 ^ r1； d2 ^ r2,則 r: = μ R1,r2 = μ R2，上述計(jì)算過(guò)程不再需要計(jì)算參數(shù)(比如X射線放射源到待測(cè)珍珠內(nèi)部的B點(diǎn)的距離)，同時(shí)使得計(jì)算過(guò)程中的誤差可控，使測(cè)量結(jié)果更為準(zhǔn)確，測(cè)量誤差一般小于0.2%。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0020]圖1為現(xiàn)有技術(shù)中的待測(cè)珍珠的檢測(cè)示意圖；
[0021]圖2為本發(fā)明所述的珍珠珠層厚度的無(wú)損檢測(cè)方法的流程圖；
[0022]圖3(a)為本發(fā)明所述的標(biāo)準(zhǔn)球體的一個(gè)實(shí)施例的檢測(cè)示意圖；
[0023]圖3 (b)為本發(fā)明所述的待測(cè)珍珠的一個(gè)實(shí)施例的檢測(cè)示意圖；
[0024]圖4為本發(fā)明所述的夾具的一個(gè)實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】 [0025]下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步的詳細(xì)說(shuō)明，以令本領(lǐng)域技術(shù)人員參照說(shuō)明書文字能夠據(jù)以實(shí)施。
[0026]如圖2、圖3(a)和圖3(b)所示，本發(fā)明提供一種珍珠珠層厚度的無(wú)損檢測(cè)方法，包括以下步驟:
[0027]步驟101、成像設(shè)備提供一成像平面，在X射線放射源和所述成像平面之間規(guī)劃一平行于所述成像平面的參考直線，將標(biāo)準(zhǔn)球體設(shè)置在所述X射線放射源和所述成像平面之間，并且使所述標(biāo)準(zhǔn)球體的球心位于所述參考直線上；
[0028]步驟102、利用所述X射線放射源照射所述標(biāo)準(zhǔn)球體，從而在所述成像平面上得到一標(biāo)準(zhǔn)球體圖像，測(cè)量所述標(biāo)準(zhǔn)球體圖像的半徑Rtl,計(jì)算比例系數(shù)μ =IViRtl，其中，rι為所述標(biāo)準(zhǔn)球體的半徑；
[0029]步驟103、將待測(cè)珍珠設(shè)置在X射線放射源和成像設(shè)備之間，并且使所述待測(cè)珍珠的球心也位于所述參考直線上，所述待測(cè)珍珠包括珠核以及環(huán)狀的珠層，所述珠核位于所述珠層的中心；
[0030]步驟104、利用所述X射線放射源照射所述待測(cè)珍珠，從而在所述成像平面上得到待測(cè)珍珠圖像，所述待測(cè)珍珠圖像包括珠核圖像和環(huán)狀的珠層圖像，測(cè)量所述待測(cè)珍珠圖像的半徑R1以及所述珠核圖像的半徑R2，所述待測(cè)珍珠的半徑為A = μ R1，所述珠核的半徑為r2 = μ R2,則所述珠層厚度為r = rrr20
[0031 ] 在圖3 (a)中，點(diǎn)A為X射線放射源，則X射線放射源照射在標(biāo)準(zhǔn)球體上時(shí)，線段AE和線段AD可以表示恰好從標(biāo)準(zhǔn)球體邊緣經(jīng)過(guò)的兩束X射線，即線段AE與標(biāo)準(zhǔn)球體相切于點(diǎn)P1，線段AD與標(biāo)準(zhǔn)球體相切于點(diǎn)P2,線段AC為由點(diǎn)A到成像平面的垂線段，則在三角形AED中，AB/AC = BP1AE,其中BP1為d0, CE為標(biāo)準(zhǔn)球體圖像的半徑Rtl，則比例系數(shù)μ有μ=d0/R0。本發(fā)明假定 BP1 ^ OP1,即 d0 ^ r0,則 μ = r0/R0。
[0032]經(jīng)過(guò)X射線放射源的照射，待測(cè)珍珠在成像平面上成像；并且由于待測(cè)珍珠的內(nèi)部結(jié)構(gòu)包括位于中心的珠核以及位于外層的環(huán)狀的珠層，最終所成的像包括珠核圖像和珠層圖像。
[0033]圖3(b)中，點(diǎn)A’表示X射線放射源，由于待測(cè)珍珠的球心也位于參考直線上，則在三角形A’ D’ E’中，A’ B’ /A’ C，= B’ P/ /C，E’，其中B’ P/為屯，CE為待測(cè)珍珠圖像的半徑R1，則比例系數(shù)μ還有μ =VR10本發(fā)明假定B’ P' ^ O’ P/JPd1^r1，則μ= VR10由于r。是已知的，則rι = μ R115同理，還有B”P/’。CTP1 ”，，則可以計(jì)算得到珠核半徑;T2= yR2。
[0034]上述計(jì)算過(guò)程的關(guān)鍵在于，假設(shè)在X射線放射源和成像平面之間規(guī)劃一條平行于成像平面的參考直線，標(biāo)準(zhǔn)球體的球心和待測(cè)珍珠的球心必須都位于該參考直線上。本發(fā)明采用一種夾具實(shí)現(xiàn)上述目的，該夾具具有一對(duì)夾緊塊1，每個(gè)夾緊塊的內(nèi)側(cè)具有球面，一對(duì)夾緊塊的內(nèi)側(cè)相對(duì)，一對(duì)夾緊塊的球面的直徑位于同一條直線上，該直線就是上述參考直線；當(dāng)標(biāo)準(zhǔn)球體2或者待測(cè)珍珠被設(shè)置在一對(duì)夾緊塊I之間時(shí)，各夾緊塊的球面與標(biāo)準(zhǔn)球體或者待測(cè)珍珠的外周面接觸，從而使標(biāo)準(zhǔn)球體的球心或者待測(cè)珍珠的球心位于參考直線上(如圖4所示)；夾具由可供X射線透過(guò)的材料制成，以便不會(huì)干擾標(biāo)準(zhǔn)球體或者待測(cè)珍珠的成像。
[0035]上述計(jì)算過(guò)程不再需要計(jì)算A’ B’，解決了計(jì)算過(guò)程中一些參數(shù)難以確認(rèn)的問題。此外，上述計(jì)算過(guò)程中，假定Cltl ^ Ivd1 以及d2 ^ r2，其誤差是可以估計(jì)和控制的。這是因?yàn)?，圖3(a)中線段AE和線段AC的夾角β保持很小的時(shí)候，就可以認(rèn)為d≈r0 ;同理，圖3(b)中線段Α’Ε’和線段A’C’的夾角Θ保持很小的時(shí)候，就可以認(rèn)為Cl1^r1;同理有
d2 ^ r2。
[0036]在圖3 (a)中，在三角形OAPi中，當(dāng)X射線放射源和標(biāo)準(zhǔn)球體球心之間的距離為標(biāo)準(zhǔn)球體的半徑20倍時(shí)，則可以計(jì)算出β =2.85°，此時(shí)dQ = 0.9988r。，因此，當(dāng)X射線放射源到標(biāo)準(zhǔn)球體的球心的距離大于等于標(biāo)準(zhǔn)球體半徑的20倍時(shí)，可以認(rèn)為Cltl ^ 同理，在圖3(b)中，在三角形O’A’P/中，當(dāng)X射線放射源和待測(cè)珍珠的球心之間的距離大于等于待測(cè)珍珠的半徑的20倍時(shí)，也有Θ <2.85°，則也可以認(rèn)為Cl1 ^ r0 ;同理有d2 ^ r2。
[0037]此外，計(jì)算過(guò)程中，誤差還是產(chǎn)生于下面一個(gè)因素:測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)球體圖像的半徑R。、待測(cè)珍珠圖像的半徑R1以及珠核圖像的半徑R2時(shí)，會(huì)產(chǎn)生誤差。以標(biāo)準(zhǔn)球體為例，由于標(biāo)準(zhǔn)球體的不規(guī)則及設(shè)備本身的原因會(huì)造成成像不是嚴(yán)格的圓形，這時(shí)直接在標(biāo)準(zhǔn)球體圖像上測(cè)量半徑Rtl，就可能產(chǎn)生誤差。在一個(gè)實(shí)施例中，本發(fā)明采用以下方法控制上述誤差，本發(fā)明在標(biāo)準(zhǔn)球體圖像的邊緣每間隔預(yù)定角度e取一個(gè)點(diǎn)，從而選取到f個(gè)點(diǎn)，f = 360° /e，利用f個(gè)點(diǎn)擬合一個(gè)與標(biāo)準(zhǔn)球體圖像對(duì)應(yīng)的圓，則上述與標(biāo)準(zhǔn)球體圖像對(duì)應(yīng)的圓的半徑就是標(biāo)準(zhǔn)球體圖像的半徑。但實(shí)際上，上述擬合算法仍然會(huì)引入誤差，假設(shè)擬合之后的標(biāo)準(zhǔn)球體圖像對(duì)應(yīng)的圓的半徑和真實(shí)半徑之差為士，那么由此造成的誤差為μ(1κ。此處只要擬合算法足夠精確，該誤差還是可控的。
[0038]同樣的，對(duì)于待測(cè)珍珠圖像的半徑以及珠核圖像的半徑也可以借助擬合算法計(jì)算得到。即沿所述待測(cè)珍珠圖像的邊緣每間隔預(yù)定角度g取一個(gè)點(diǎn)，從而選取到h個(gè)點(diǎn)，h =360° /g，利用h個(gè)點(diǎn)擬合一個(gè)與所述待測(cè)珍珠圖像對(duì)應(yīng)的圓，則上述與待測(cè)珍珠圖像對(duì)應(yīng)的圓的半徑就是待測(cè)珍珠圖像的半徑。沿所述珠核圖像的邊緣每間隔預(yù)定角度j取一個(gè)點(diǎn)，從而選取到I個(gè)點(diǎn)，I = 360° /j，利用I個(gè)點(diǎn)擬合一個(gè)與所述珠核圖像對(duì)應(yīng)的圓，則上述與珠核圖像對(duì)應(yīng)的圓的半徑就是珠核圖像的半徑。其中，e、g和j的取值越小，則擬合的準(zhǔn)確度越高，優(yōu)選的可以設(shè)置e = g = j = 1°。
[0039]在一個(gè)實(shí)施例中，步驟一中，標(biāo)準(zhǔn)球體的球心位于所述X射線放射源到所述成像平面的垂線段上；步驟三中，待測(cè)珍珠也位于所述X射線放射源到所述成像平面的垂線段上。即如圖3(a)和圖3(b)所示，標(biāo)準(zhǔn)球體的球心和待測(cè)珍珠的球心的位置是重合的。當(dāng)標(biāo)準(zhǔn)球體的球心與待測(cè)珍珠的球心同時(shí)位于參考直線上，但都不位于X射線放射源到成像平面的垂線段上時(shí)，只要標(biāo)準(zhǔn)球體的球心或者待測(cè)珍珠的球心偏離垂線段的程度較小(這個(gè)偏離程度在2°范圍內(nèi)都是可以的)，仍然可以控制誤差在合理的范圍內(nèi)。
[0040]本發(fā)明采用鋼球作為標(biāo)準(zhǔn)球體。
[0041]以下給出一組實(shí)施例的測(cè)量誤差(見表1)。這一組實(shí)施例的檢測(cè)步驟包括:
[0042]步驟一、成像設(shè)備提供一成像平面，在X射線放射源和所述成像平面之間規(guī)劃一平行于所述成像平面的參考直線，將標(biāo)準(zhǔn)球體設(shè)置在所述X射線放射源和所述成像平面之間，并且使所述標(biāo)準(zhǔn)球體的球心位于所述參考直線上，所述標(biāo)準(zhǔn)球體的球心位于所述X射線放射源到所述成像平面的垂線段上，X射線放射源到標(biāo)準(zhǔn)球體的球心的距離為117毫米，標(biāo)準(zhǔn)球體的球心到成像平面的距離是262毫米；
[0043]步驟二、利用所述X射線放射源的照射所述標(biāo)準(zhǔn)球體，從而在所述成像平面上得到一標(biāo)準(zhǔn)球體圖像，測(cè)量所述標(biāo)準(zhǔn)球體圖像的半徑Rtl，計(jì)算比例系數(shù)μ =IViRtl，其中，r0為所述標(biāo)準(zhǔn)球體的半徑，標(biāo)準(zhǔn)球體圖像的半徑通過(guò)擬合算法得出；
[0044]步驟三、將待測(cè)珍珠設(shè)置在X射線放射源和成像設(shè)備之間，并且使所述待測(cè)珍珠的球心也位于所述參考直線上，所述待測(cè)珍珠的球心也位于所述X射線放射源到所述成像平面的垂線段上，所述待測(cè)珍珠包括珠核以及環(huán)狀的珠層，所述珠核位于所述珠層的中心;
[0045]步驟四、利用所述X射線放射源照射所述待測(cè)珍珠，從而在所述成像平面上得到待測(cè)珍珠圖像，所述待測(cè)珍珠圖像包括珠核圖像和環(huán)狀的珠層圖像，測(cè)量所述待測(cè)珍珠圖像的半徑R1以及所述珠核圖像的半徑R2，所述待測(cè)珍珠的半徑為A = μ R1，所述珠核的半徑為r2 = μ R2，則所述珠層厚度為r = r1-r2，待測(cè)珍珠圖像的半徑以及珠核圖像的半徑也通過(guò)擬合算法得出，e = g = j = 1°。
[0046]表1
[0047]
【權(quán)利要求】
1.一種珍珠珠層厚度的無(wú)損檢測(cè)方法，其特征在于，包括以下步驟: 步驟一、成像設(shè)備提供一成像平面，在X射線放射源和所述成像平面之間規(guī)劃一平行于所述成像平面的參考直線，將標(biāo)準(zhǔn)球體設(shè)置在所述X射線放射源和所述成像平面之間，并且使所述標(biāo)準(zhǔn)球體的球心位于所述參考直線上； 步驟二、利用所述X射線放射源照射所述標(biāo)準(zhǔn)球體，從而在所述成像平面上得到一標(biāo)準(zhǔn)球體圖像，測(cè)量所述標(biāo)準(zhǔn)球體圖像的半徑Re，計(jì)算比例系數(shù)μ =IViRtl，其中，r0為所述標(biāo)準(zhǔn)球體的半徑； 步驟三、將待測(cè)珍珠設(shè)置在X射線放射源和成像設(shè)備之間，并且使所述待測(cè)珍珠的球心也位于所述參考直線上，所述待測(cè)珍珠包括珠核以及環(huán)狀的珠層，所述珠核位于所述珠層的中心； 步驟四、利用所述X射線放射源照射所述待測(cè)珍珠，從而在所述成像平面上得到待測(cè)珍珠圖像，所述待測(cè)珍珠圖像包括珠核圖像和環(huán)狀的珠層圖像，測(cè)量所述待測(cè)珍珠圖像的半徑R1以及所述珠核圖像的半徑R2，所述待測(cè)珍珠的半徑為F1 = μ R1，所述珠核的半徑為r2 = μ R2,則所述珠層厚度為r = rrr20
2.如權(quán)利要求1所述的珍珠珠層厚度的無(wú)損檢測(cè)方法，其特征在于，所述步驟一中，所述標(biāo)準(zhǔn)球體的球心位于所述X射線放射源到所述成像平面的垂線段上；所述步驟三中，所述待測(cè)珍珠的球心也位于所述X射線放射源到所述成像平面的垂線段上。
3.如權(quán)利要求2所述的珍珠珠層厚度的無(wú)損檢測(cè)方法，其特征在于，所述X射線放射源到所述參考直線的距離a ≥20rQ。
4.如權(quán)利要求3所述的珍珠珠層厚度的無(wú)損檢測(cè)方法，其特征在于，所述步驟一中，選擇與所述待測(cè)珍珠的半徑接近的標(biāo)準(zhǔn)球體。
5.如權(quán)利要求4所述的珍珠珠層厚度的無(wú)損檢測(cè)方法，其特征在于，所述標(biāo)準(zhǔn)球體為鋼球。
6.如權(quán)利要求1~4中任一項(xiàng)所述的珍珠珠層厚度的無(wú)損檢測(cè)方法，其特征在于，所述步驟四中，所述待測(cè)珍珠圖像的半徑是經(jīng)過(guò)以下方法測(cè)量得到的:沿所述待測(cè)珍珠圖像的邊緣每間隔預(yù)定角度g取一個(gè)點(diǎn)，從而選取到h個(gè)點(diǎn)，h = 360° /g,利用h個(gè)點(diǎn)擬合一個(gè)與所述待測(cè)珍珠圖像對(duì)應(yīng)的圓，則上述與待測(cè)珍珠圖像對(duì)應(yīng)的圓的半徑就是待測(cè)珍珠圖像的半徑， 所述珠核圖像的半徑是經(jīng)過(guò)以下方法得到的:沿所述珠核圖像的邊緣每間隔預(yù)定角度j取一個(gè)點(diǎn)，從而選取到I個(gè)點(diǎn)，I = 360° /j，利用I個(gè)點(diǎn)擬合一個(gè)與所述珠核圖像對(duì)應(yīng)的圓，則上述與珠核圖像對(duì)應(yīng)的圓的半徑就是珠核圖像的半徑。
7.如權(quán)利要求6所述的珍珠珠層厚度的無(wú)損檢測(cè)方法，其特征在于，所述步驟二中，所述標(biāo)準(zhǔn)球體圖像的半徑是經(jīng)過(guò)以下方法測(cè)量得到的:沿所述標(biāo)準(zhǔn)球體圖像的邊緣每間隔預(yù)定角度e取一個(gè)點(diǎn)，從而選取到f個(gè)點(diǎn)，f = 360° /e,利用f個(gè)點(diǎn)擬合一個(gè)與標(biāo)準(zhǔn)球體圖像對(duì)應(yīng)的圓，則上述與標(biāo)準(zhǔn)球體圖像對(duì)應(yīng)的圓的半徑就是標(biāo)準(zhǔn)球體圖像的半徑。
8.如權(quán)利要求7所述的珍珠珠層厚度的無(wú)損檢測(cè)方法,其特征在于，e= g = j = 1°。
【文檔編號(hào)】G01B15/02GK103528550SQ201310477690
【公開日】2014年1月22日 申請(qǐng)日期:2013年10月14日 優(yōu)先權(quán)日:2013年10月14日
【發(fā)明者】何錦鋒, 曾明, 廖斌, 張清 申請(qǐng)人:廣西壯族自治區(qū)質(zhì)量技術(shù)監(jiān)督局珍珠產(chǎn)品質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)站