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軌跡之間的線性關系的制作方法

文檔序號:6166207閱讀:175來源:國知局
軌跡之間的線性關系的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種運行時間物位測量儀器和一種運行時間物位測量方法,其中將相繼的回聲曲線的回聲分組并且組合成軌跡。因此,確定兩個軌跡之間的線性關系并且考慮所述線性關系,以便從中確定一個或多個未知量。由此,例如能夠推導出填充介質的介電常數、容器長度或探頭長度或要期望的回聲的位置。
【專利說明】軌跡之間的線性關系
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及物位測量的【技術領域】。尤其地,本發(fā)明涉及一種運行時間物位測量儀器、一種用于執(zhí)行追蹤方法的運行時間物位測量方法以用于對在不同時間檢測到的回聲曲線的分別產生于相同的反射體的回聲進行分組、一種用于執(zhí)行追蹤方法的處理器、一種計算機可讀介質和一種程序元件。
【背景技術】
[0002]運行時間物位測量儀器根據FMCW或脈沖運行時間方法來工作。所述測量儀器在朝向填充物料表面的方向上發(fā)出電磁波或聲波。所述波然后完全地或部分地由不同的反射體來反射。所述反射體尤其能夠為填充介質(例如水、油、另外的流體或流體混合物或散裝物料)的表面、存儲有填充介質的容器的底部、污染物、不同的填充物料之間的分離層(例如水和油之間的分離層)或者容器中的固定的干擾部位,如凸起或其他的容器固定裝置。
[0003]如此反射的發(fā)射信號(下面也稱作接收信號或回聲曲線)現在接下來由物位測量儀器接收并且記錄。
[0004]物位測量儀器典型地以脈沖運行的方式工作,因此分別在不同的時間以脈沖形式發(fā)出發(fā)射信號,并且然后如已經描述的那樣由物位測量儀器的傳感裝置檢測發(fā)射信號(接收信號)的所得出的、反射的脈沖。然后,儀器的評估單元從中推導出填充介質表面的方位或位置。因此,換言之, 從所述所接收的脈沖來確定物位。
[0005]另外的物位測量儀器根據FMCW (調頻連續(xù)波)原理工作。在此,在朝向容器的方向上連續(xù)地放射頻率經過調制的波,并且對反射的信號分量在儀器中連同瞬時放射的信號一起進行處理。所述處理的結果是下述頻譜,所述頻譜能夠根據已知的方法轉化為回聲曲線。
[0006]如此獲得的并且必要時已經經過處理和評估的數據能夠提供給外部儀器。所述提供能夠以模擬的形式(4……20mA接口)或者也能夠以數字的形式(現場總線)來進行。
[0007]也能夠無線地進行數據傳遞。
[0008]所接收的為在一個或多個反射體上反射的(在特定的時間ti發(fā)出的)發(fā)射脈沖的回聲曲線典型地具有一個或多個最大值和/或最小值,所述最大值和/或最小值距接收單元的電距離能夠從相應的最大值或最小值的方位中確定。
[0009]所述電距離與脈沖的相應的信號分量的運行時間相對應。在考慮信號的傳播速度的情況下,從中能夠確定物理的、即實際的距離。換言之,當將接收信號繪制在坐標系中時(參見圖7),電距離為所述接收信號的橫坐標值。在此,完全不考慮物理的環(huán)境影響,所述環(huán)境影響會引起電磁波的改變的傳播速度。因此,能夠將電距離看作為模型的理想條件。與此相關的是物理距離。將其理解成下述距離值,所述距離值能夠直接在傳感器上物理地(例如借助米尺)確定。電距離的坐標系能夠通過位移(補償偏移)和擴展(Streckung)(補償運行時間)而轉變成關于物理距離的坐標系。術語說明在EP 11 167 924.7中再次更清楚地詳述。
[0010]由于容器中不利的關系能夠出現下述情況,回聲曲線的特定的回聲不能夠與軌跡明確地關聯或者不能夠識別回聲曲線中的所述回聲,例如因為所述回聲淹沒在噪聲中。
[0011]也能夠出現下述情況,容器中的物理關系改變,例如因為填充介質的組分改變。
[0012]這種結果能夠導致不準確的測量或者甚至不可能確定在特定的時間點的物位。

【發(fā)明內容】

[0013]本發(fā)明的目的是改進對物位的確定。
[0014]根據本發(fā)明的第一方面,提出一種運行時間物位測量儀器,所述運行時間物位測量儀器具有發(fā)射單元、接收單元和評估單元。發(fā)射單元用于發(fā)出發(fā)射信號,所述發(fā)射信號在填充介質的填充物料表面(所述填充介質例如位于容器中)上以及至少一個第二反射體上反射。因此,運行時間物位測量儀器在朝向填充物料表面的方向上發(fā)出發(fā)射信號。
[0015]接收單元用于檢測所反射的發(fā)射信號(也稱作接收信號、接收脈沖或回聲曲線)。接收單元能夠是獨立的單元。所述接收單元也能夠與發(fā)射單元共有特定的構件組。在物位雷達的情況下,共同的構件組例如是發(fā)射/接收天線。
[0016]所反射的發(fā)射信號為在多個反射體的情況下具有多個回聲的回聲曲線。當然,在回聲曲線中不能夠始終清楚地識別這些回聲,因為其振幅在一些情況下過小或者因為其部分地彼此疊加。
[0017]評估單元用于執(zhí)行追蹤方法,以用于對在不同時間檢測到的回聲曲線的分別產生于相同的反射體的回聲進行分組。
[0018]追蹤方法下面再次在參考附圖的情況下闡明。最終,運行時間物位測量儀器在不同的時間接收回聲曲線,使得得到回聲曲線的時間上的序列,所述回聲曲線反應在容器中的關系的時間上的發(fā)展情況?,F在,評估單元能夠分析每個單獨的回聲曲線并且確定最大值或最小值的方位。
[0019]現在,追蹤方法的目的是:將每個最大值或最小值與容器中的反射體關聯或者分類為不可關聯的回聲。如果以正確的方式完成所述關聯,那么從中獲得物位的時間上的發(fā)展情況和箱中的不同的另外的反射體的位置的時間上的發(fā)展情況。然后,能夠在圖表中記錄位置的時間上的發(fā)展情況。
[0020]現在,以容器中的恒定的排空速率或填充速率為出發(fā)點,可以近似地通過直線部段來繪制各個測量點(即從相繼的回聲曲線中計算出的電距離或反射體的位置;填充物料表面的位置也屬于此),如這例如在圖2中示出。形成直線部段僅是存儲器優(yōu)化的追蹤方法的一個實施例。在該處能夠設想每個另外的示出源自反射部位的回聲所留下的痕跡的連接線。因此,軌跡的回聲在前一時間點所位于的回聲位置的連接能夠通過任意的曲線組來實現。在最簡單的情況下這對應于直線。然而,也能夠根據情況使用高階的多項式或甚至非線性的函數。
[0021]如果現在改變填充物料的排空速率或填充速率,那么這在基于直線的部段形成的追蹤方法中引起所計算出的曲線中的折彎。因此,在該情況下為具有不同斜率的兩個相互接觸的直線部段。
[0022]因為為此考慮電距離并且不考慮實際的、物理的距離,底部回聲的或位于填充物料表面之下的其他的固定的反射體的位置也隨著物位上升或下降而改變。這在圖8中示意性示出。[0023]因此,在所述相互接觸的直線部段中涉及軌跡。圖8示出三個這種軌跡TpTyT3t5
[0024]所述軌跡中的一個通常對應于填充物料表面在不同時間的位置、底部回聲的位置的另外的軌跡和第三軌跡,例如在填充物料表面之下的固定的反射體的位置、在兩種不同的填充介質或在具有導波的物位測量裝置的情況下探頭之間的分離層的位置。
[0025]因此,運行時間物位測量儀器的評估單元實施為用于:確定第一組產生于第一反射體(例如填充物料表面、容器底部等)的回聲的第一軌跡和第二組產生于第二反射體(在該情況下例如為容器底部、填充物料表面等)的回聲的第二軌跡,其中每個軌跡描述相應的發(fā)射信號在不同的時間(即在發(fā)出不同的發(fā)射信號的不同的時間點)從發(fā)射單元至與軌跡相關聯的反射體并且返回至接收單元的運行時間。
[0026]此外,評估單元實施為用于確定在第一軌跡和第二軌跡之間的線性關系。
[0027]所述線性關系為在第一軌跡經過的所有位置和第二軌跡經過的所有另外的位置之間的函數關聯性。尤其根據圖1至4進一步在下面解釋如何計算所述函數關聯性。
[0028]現在,因為在填充物料表面之下的位置固定的反射體的電位置以與填充物料表面的位置本身相對應的方式改變,那么在每兩個軌跡之間從數學觀點來看存在線性關聯性或者線性關系,所述線性關聯性或線性關系能夠借助于不同的回聲曲線來估算。
[0029]在確定第一軌跡和第二軌跡之間的線性關系之后,然后,評估單元能夠將另外的回聲曲線的第一回聲與第一軌跡相關聯。所述另外的回聲曲線例如與用于確定兩個軌跡之間的線性關系的時間上相繼的回聲曲線相比在較晚的時間點被接收。在此因此為新的測量。
[0030]那么,評估單元能夠從在第一軌跡和第二軌跡之間的線性關系中確定一個或多個未知量。
[0031]未知量例如是另外的回聲曲線的第二回聲的期望位置。對此,除線性關系之外,評估單元還考慮另外的回聲曲線中的與第一軌跡相關聯的第一回聲。
[0032]然后,因此能夠從兩個軌跡之間的線性關聯性和另外的與第一軌跡相關聯的測量點(另外的回聲曲線的回聲的位置)的了解中估算或計算出(第二軌跡的)相應的另外的回
聲的期望位置。
[0033]因此,本發(fā)明提供下述可行性:與振幅關系或填充速度無關地,在存在干擾回聲、底部回聲或多次回聲的情況下也可靠地追蹤物位回聲。
[0034]因為評估單元能夠確定兩個任意軌跡之間的關系,所以所述方法不僅能夠用于物位回聲,而且也能夠用于回聲曲線的另外的回聲。
[0035]根據本發(fā)明的一個實施形式,第一組回聲是在填充物料表面上反射的發(fā)射信號。
[0036]根據本發(fā)明的另一個實施形式,未知量是另外的回聲曲線的與第二軌跡相關聯的回聲的期望位置,其中另外的回聲曲線與在上文中描述的回聲曲線相比在稍后的時間點被接收。
[0037]根據本發(fā)明的另一個實施形式,未知量是填充介質的介電常數。
[0038]根據本發(fā)明的另一個實施形式,運行時間物位測量儀器是TDR物位測量儀器,其中未知量是TDR物位測量儀器的探頭的長度。
[0039]根據本發(fā)明的另一個實施形式,評估單元實施成根據探頭的特定的長度通過與實際的探頭長度進行比較來識別,探頭是否受到污染。[0040]根據本發(fā)明的另一個實施形式,評估單元實施成根據探頭的特定的長度通過與實際的探頭長度進行比較來計算出(已經確定的)介電常數的品質。在該情況下假定探頭沒有受到污染。
[0041]根據本發(fā)明的另一個實施形式,未知量是存在有填充介質的容器的高度,或者是容器中的位于填充物料表面之下的固定的反射體的位置。
[0042]根據本發(fā)明的另一個實施形式,對軌跡和各兩個軌跡之間的線性關系的確定通過估算方法來進行。
[0043]因此,不同的回聲曲線的分別與軌跡相關聯的回聲的各個(電)位置能夠通過一個或多個直線部段來近似。
[0044]根據本發(fā)明的另一個方面,對第一軌跡和第二軌跡之間的線性關系的確定通過遞歸法來進行。
[0045]根據本發(fā)明的另一個方面,提出一種用于執(zhí)行追蹤方法的運行時間物位測量方法,以用于將在不同時間檢測到的回聲曲線的分別產生于相同的反射體的回聲進行分組。所述方法具有下述步驟:
[0046]發(fā)出發(fā)射信號,所述發(fā)射信號在填充介質的填充物料表面上并且在至少一個第二反射體上反射;
[0047]檢測所反射的發(fā)射信號,其中其為具有多個回聲的回聲曲線。
[0048]確定第一組產生于第一反射體的回聲的第一軌跡和第二組產生于第二反射體的回聲的第二軌跡,其中每個軌跡描述相應的發(fā)射信號在不同的時間從發(fā)射單元至與軌跡相關聯的反射體并且返回至接收單元的運行時間;
[0049]確定第一軌跡的各個位置和第二軌跡的位置之間的線性關系;
[0050]從第一軌跡和第二軌跡之間的線性關系中確定一個或多個未知量。
[0051]方法也能夠具有其他的在上文中和在下文中描述的步驟。
[0052]根據本發(fā)明的另一個方面,提出一種用于執(zhí)行追蹤方法的處理器,以用于對在不同時間檢測到的回聲曲線的產生于相同的反射體的回聲進行分組。追蹤方法為在上文中和在下文中描述的方法。
[0053]根據本發(fā)明的另一個方面,提出一種計算機可讀介質,在所述計算機可讀介質上存儲有程序,所述程序當其在運行時間物位測量儀器的處理器上執(zhí)行時引導處理器實施在上文中以及在下文中描述的方法步驟。
[0054]根據本發(fā)明的另一個方面,提出一種程序元件,所述程序元件當其在運行時間物位測量儀器的處理器上執(zhí)行時引導所述處理器實施在上文中以及在下文中描述的步驟。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0055]下面參考附圖描述本發(fā)明的實施例。
[0056]圖1示出根據本發(fā)明的一個實施例的追蹤位置(反射體的電距離)的關聯性的圖表視圖,所述追蹤位置從時間上相繼的回聲曲線中獲得。
[0057]圖2示出兩個軌跡的時間分布曲線。
[0058]圖3示出根據本發(fā)明的一個實施例的兩個軌跡的追蹤位置的線性關系的圖表視圖。[0059]圖4示出在根據本發(fā)明的一個實施例進行物位確定時用于簡少組合分析的方法。
[0060]圖5示出根據本發(fā)明的一個實施例的具有填充物料容器的物位測量儀器。
[0061]圖6示出根據本發(fā)明的一個實施例的具有填充物料容器的另外的物位測量儀器。
[0062]圖7A示出在第一時間接收的回聲曲線。
[0063]圖7B示出在第二時間接收的回聲曲線。
[0064]圖8示出多個軌跡的時間上的發(fā)展情況。
[0065]圖9示出各兩個軌跡之間的線性關系。
[0066]圖10示出根據本發(fā)明的一個實施例的方法的流程圖。
【具體實施方式】
[0067]在附圖中的描述是示意性的且不是符合比例的。如果在不同的附圖中應用相同附圖標記,那么這些附圖標記能夠表示相同的或類似的元件。但是,相同的或類似的元件也能夠通過不同的附圖標記來表示。
[0068]下面,示出物位測量儀器的評估單元的可行的實施方案。所接收到的回聲曲線能夠首先經過處理。通過例如經由數字濾波來目的明確地對信號進行數字評估,對于用于提取回聲的方法而言更容易可行的是:從回聲曲線中確定顯著的信號分量。
[0069] 所提取的回聲為了進一步處理例如能夠以列表的形式存儲。然而,除在列表中存儲之外,訪問數據的另外的可能性也是可行的。追蹤功能塊將時間點\的回聲曲線的回聲與時間點ti+1的隨后的回聲曲線的回聲相關聯,其中回聲經過相同的物理的反射部位和相同的路徑(即通過在相同的反射體上反射發(fā)射信號而產生)。
[0070]追蹤方法是已知的。更詳細的信息例如在W02009/037000A2中得出。
[0071]本發(fā)明的核心方面是:使兩個軌跡的時間上的發(fā)展情況,也就是說,將兩個反射或兩個不同的物理反射部位的位置的時間上的發(fā)展情況相互相關并且從中確定線性關聯性的參數。每個軌跡可以由一組位置數值構成,所述位置數值從回聲曲線的回聲中確定。因為在物位測量儀器中應當測量傳感器距填充物料的間距,那么除術語位置之外也應用術語距離。
[0072]圖1應當詳細闡明兩個軌跡之間的關系的真實情況。坐標系示出散點圖,所述散點圖由兩個軌跡的各個位置數值的距離對形成。例如,軌跡稱作為軌跡T1和軌跡τ2。然而,能考慮兩個不同的軌跡構成的任何其他可設想的組合。
[0073]每個距離對通過交叉來標記。橫軸(X軸101)包括軌跡1\的距離D,縱軸(y軸102)包括軌跡T2的距離D。所述布置不是強制需要的。因此,橫軸和縱軸也能夠彼此交換。
[0074]軸標度的度量單位也對于本發(fā)明是不重要的。因此,在此僅示例性地存在電距離D。根據回聲曲線對位置的暫時縮放是可行的。在圖1中為了更準確地闡明而特別標記一個距離對。距離對?(叫0叫2』描述在時間點i的軌跡T1和軌跡T2的兩個位置的數值對,在所述時間點產生回聲曲線。圖表中的另外的且沒有準確表示的點源自另外的回聲曲線,所述另外的回聲曲線在另外的時間點由傳感器來檢測到。由傳感器產生的新的回聲曲線以附加點來擴展圖表,所述新的回聲曲線源自另外的信號處理過程且所述新的回聲曲線的回聲與軌跡相關聯。
[0075]兩個軌跡的位置的在圖1中示出的關聯性使得能夠將軌跡T1和軌跡T2的位置相關變得清楚。這表示,軌跡T1和軌跡T2處于函數關聯性。描述散點圖的直線方程為此用作為基礎。數學上,所述關聯性能夠如下描述:
[0076]DT2,J^a1.DT1,k+a0+ek (1.1)
[0077]DT2;k是在時間點k的測量的軌跡T2的位置,
[0078]DT1;k是在時間點k的測量的軌跡T1的位置,
[0079]a0和是直線的參數,所述直線描述軌跡T1和軌跡T2的位置之間的線性關聯性,
[0080]ek是時間點k的測量的關聯性的誤差。
[0081]函數的參數B1沒有度量單位,而具有與DT2,k*DT1,k相同的度量單位。ek具有與DT2,k或DT1,k相同的度量單位。假設在所給出的關聯性中存在誤差是必要的,因為由此綜合地描繪出模型的誤差。參數%和%與測量部位的所給出的特性相關,在所述測量部位處使用傳感器。此外,參數與軌跡的變化相關,使所述參數彼此相關。
[0082]公式(1.1)僅是關聯性的一種表達形式。當然,其能夠應用于每個軌跡并且不一定要求將軌跡T1和T2作為基礎。但是,那么,參數B1和%的數值與軌跡T1和T2之間的關聯性不同。
[0083]圖2示出兩個軌跡(T3 2 03和T4 204)關于時間的示例性的變化。x軸201表示以米為單位的距離并且y軸202表示測量時間t。軌跡203、204的支撐點205、207、209、……和206、208、210、……分別通過x標記,所述支撐點從回聲曲線在相應的時間點j的回聲位
置中得出。
[0084]如果將圖2中的支撐點轉用到如圖1那樣示出兩個軌跡之間的關系的圖表中,那么獲得圖3中的圖表。X軸307在此包括軌跡T3的位置,y軸308在此包括軌跡T4的位置。此外,以虛線的形式描繪兩個軌跡之間的線性關聯性304?,F在能夠識別的是,除了圖3中的支撐點之外,也能夠得到關于兩個軌跡的關聯性的另外的結論。不僅對于位于支撐點之間的位置303、而且對于位于支撐點附近的位置302和301而言,能夠應用關聯性。此外,這意味著:當已知一個軌跡的位置時,能夠預測另外的軌跡的位置。所述預測是可逆的。在圖3中的示例中,這意味著:能夠從軌跡T3的位置預測軌跡T4的位置并且反之亦然。此外,不僅能夠得出預測,而且當由于不利的信號關系而不可以確定軌跡的位置時,也給出對軌跡的位置的估算。
[0085]確定參數aQ和B1:
[0086]參數%和能夠由傳感器通過本領域技術人員熟悉的適當的參數估算方法來獨立地確定。由于所基于的模型中的誤差,參數的所謂的估算是有利的,所述估算在確定參數時使誤差最小化。估算本身能夠以不同的方式進行。應用常見的參數估算方法是可行的,例如LS (最小二乘法)估算器。LS估算器在參考文獻中詳細描述并且對于本領域技術人員是已知的。估算例如能夠設計成:
[0087]
【權利要求】
1.一種運行時間物位測量儀器(500),具有: 發(fā)射單元(501,502),用于發(fā)出發(fā)射信號(507),所述發(fā)射信號在填充介質的填充物料表面(505)和至少一個第二反射體(506, 512)上被反射; 接收單元(501,513),用于檢測被反射的所述發(fā)射信號(509,510),其中所述發(fā)射信號為具有多個回聲(704,701,703)的回聲曲線(703); 評估單元(513),用于執(zhí)行追蹤方法,以用于對在不同時間檢測到的回聲曲線的分別產生于相同的反射體的回聲進行分組,其中所述評估單元實施成執(zhí)行下述步驟: Ca)確定第一組產生于第一反射體的回聲(701)的第一軌跡和第二組產生于第二反射體的回聲(702)的第二軌跡,其中每個軌跡描述相應的所述發(fā)射信號在不同時間(t1;t2,t3,t4)從所述發(fā)射單元至與所述軌跡相關聯的反射體并且返回至所述接收單元的運行時間;(b)確定所述第一軌跡和所述第二軌跡之間的線性關系; (C)從所述第一軌跡和所述第二軌跡之間的所述線性關系中確定一個或多個未知量。
2.根據權利要求1所述的運行時間物位測量儀器, 其中所述第一組回聲為在所述填充物料表面(505)上反射的發(fā)射信號(509)。
3.根據上述權利要求中任一項所述的運行時間物位測量儀器, 其中所述未知量為另外的回聲曲線的與所述第二軌跡相關聯的回聲的期望位置,其中所述另外的回聲曲線與其他的回聲曲線相比在稍后的時間點被接收。
4.根據上述權利要求中`任一項所述的運行時間物位測量儀器, 其中所述未知量為所述填充介質(504)的介電常數。
5.根據上述權利要求中任一項所述的運行時間物位測量儀器, 其中所述運行時間物位測量儀器(500)是TDR物位測量儀器; 其中所述未知量是所述TDR物位測量儀器的探頭(601,602)的長度。
6.根據權利要求5所述的運行時間物位測量儀器, 其中所述評估單元(513)實施成根據所述探頭(601,602)的所確定的長度通過與實際探頭長度進行比較來識別:所述探頭是否受到污染。
7.根據權利要求5或6所述的運行時間物位測量儀器, 其中所述評估單元(513)實施成根據所述探頭(601,602)的所確定的長度通過與實際探頭長度進行比較來計算所確定的介電常數的品質。
8.根據上述權利要求中任一項所述的運行時間物位測量儀器, 其中所述未知量為裝有所述填充介質的容器的高度(520)或者為所述容器中固定的反射體(512,506)的位置。
9.根據權利要求5至8中任一項所述的運行時間物位測量儀器, 其中所述評估單元(513)實施為執(zhí)行下述步驟: 計算所述容器底部的位置Cllissp ; 確定所述容器底部的所計算出的位置是否位于所述探頭的下部端部之上; 將所計算出的位置作為反射體的位置分類,其中如果所述容器底部的所計算出的位置位于所述探頭的下部端部之上,則不是所述容器底部。
10.根據上述權利要求中任一項所述的運行時間物位測量儀器, 其中對所述軌跡和所述第一軌跡和所述第二軌跡之間的線性關系的確定通過估算法來進行。
11.根據上述權利要求中任一項所述的運行時間物位測量儀器, 其中確定所述第一軌跡和所述第二軌跡之間的線性關系通過遞歸法來進行。
12.一種用于執(zhí)行追蹤方法的運行時間物位測量方法,以用于對在不同時間檢測到的回聲曲線的分別產生于相同的反射體的回聲進行分組,所述方法具有下述步驟: 發(fā)出發(fā)射信號,所述發(fā)射信號在填充介質(504)的填充物料表面(505)和至少一個第二反射體(512,506)上被反射; 檢測被反射的所述發(fā)射信號(509,510),其中所述發(fā)射信號為具有多個回聲(704,701,703)的回聲曲線(703) 確定第一組產生于第一反射體的回聲(701)的第一軌跡和第二組產生于第二反射體的回聲(702)的第二軌跡,其中每個軌跡描述相應的所述發(fā)射信號在不同時間(t1; t2,t3,t4)從所述發(fā)射單元至與所述軌跡相關聯的反射體并且返回至所述接收單元的運行時間; 確定所述第一軌跡和 所述第二軌跡之間的線性關系; 從所述第一軌跡和所述第二軌跡之間的所述線性關系中確定一個或多個未知量。
13.一種用于執(zhí)行追蹤方法的處理器(513),以用于對在不同時間檢測到的回聲曲線的分別產生于相同的反射體的回聲進行分組,其中所述處理器實施成用于執(zhí)行下述步驟: 確定第一組產生于第一反射體的回聲(701)的第一軌跡和第二組產生于第二反射體的回聲(702)的第二軌跡,其中每個軌跡描述相應的所述發(fā)射信號在不同時間(t1; t2,t3,t4)從所述發(fā)射單元至與所述軌跡相關聯的反射體并且返回至所述接收單元的運行時間; 確定所述第一軌跡和所述第二軌跡之間的線性關系; 從所述第一軌跡和所述第二軌跡之間的所述線性關系中確定一個或多個未知量。
14.一種計算機可讀介質,在所述計算機可讀介質上存儲有用于執(zhí)行追蹤方法的程序,以用于對在不同時間檢測到的回聲曲線的分別產生于相同的反射體的回聲進行分組,所述程序當其在運行時間物位測量儀器的處理器上執(zhí)行時引導所述處理器執(zhí)行下述步驟: 確定第一組產生于第一反射體的回聲(701)的第一軌跡和第二組產生于第二反射體的回聲(702)的第二軌跡,其中每個軌跡描述相應的所述發(fā)射信號在不同時間(t1; t2,t3,t4)從所述發(fā)射單元至與所述軌跡相關聯的反射體并且返回至所述接收單元的運行時間; 確定所述第一軌跡和所述第二軌跡之間的線性關系; 從所述第一軌跡和所述第二軌跡之間的所述線性關系中確定一個或多個未知量。
15.一種用于執(zhí)行追蹤方法的程序元件,以用于對在不同時間檢測到的回聲曲線的分別產生于相同的反射體的回聲進行分組,所述程序元件當其在運行時間物位測量儀器的處理器上執(zhí)行時引導所述處理器執(zhí)行下述步驟: 確定第一組產生于第一反射體的回聲的第一軌跡和第二組產生于第二反射體的回聲的第二軌跡,其中每個軌跡描述相應的所述發(fā)射信號在不同時間從所述發(fā)射單元至與所述軌跡相關聯的反射體并且返回至所述接收單元的運行時間; 確定所述第一軌跡和所述第二軌跡之間的線性關系; 從所述第一軌跡和所述第二軌跡之間的所述線性關系中確定一個或多個未知量。
【文檔編號】G01S7/41GK103733033SQ201280038550
【公開日】2014年4月16日 申請日期:2012年7月26日 優(yōu)先權日:2011年8月4日
【發(fā)明者】羅蘭·韋勒, 克里斯蒂安·霍費雷爾, 卡爾·格里斯鮑姆 申請人:Vega格里沙貝兩合公司
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