專利名稱：一種圖像檢測對中工具的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及ー種圖像檢測工具，特別是涉及ー種圖像檢測對中工具。
背景技術(shù)：
射線檢測是利用射線對材料或試件進(jìn)行透照，檢查其內(nèi)部缺陷或根據(jù)衍射特性對其晶體結(jié)構(gòu)進(jìn)行分析的技木。射線檢測是五大常規(guī)無損檢測的方法之一，在エ業(yè)上有著非常廣泛的應(yīng)用。目前射線檢測按照美國材料試驗(yàn)學(xué)會(ASTM)的定義可以分為照相檢測、實(shí)時成像檢測、層析檢測和其它射線檢測技術(shù)四類。X射線與自然光井沒有本質(zhì)的區(qū)別，都是電磁波，只是X射線的光量子的能量遠(yuǎn)大于可見光，它能夠穿透可見光不能穿透的物體，而且在穿透物體的同時將和物質(zhì)發(fā)生復(fù)雜 的物理和化學(xué)作用，可以使原子發(fā)生電離，使某些物質(zhì)發(fā)出熒光，還可以使某些物質(zhì)產(chǎn)生光化學(xué)反應(yīng)。如果エ件局部區(qū)域存在缺陷，它將改變物體對射線的衰減，引起透射射線強(qiáng)度的變化，這樣，采用一定的檢測方法，比如利用膠片感光，來檢測透射線強(qiáng)度，就可以判斷エ件中是否存在缺陷以及缺陷的位置、大小。X射線檢測エ藝分為膠片成像エ藝和數(shù)字成像エ藝。膠片成像エ藝即射線照射被檢測物體，透過的射線使膠片感光，清洗膠片，即可根據(jù)膠片的感光情況判斷被檢測物的內(nèi)部質(zhì)量。數(shù)字成像エ藝即經(jīng)過射線檢測，將被檢測物的內(nèi)部質(zhì)量信息轉(zhuǎn)化成數(shù)字信號，儲存或還原顯示出來，以反映被檢測物的內(nèi)部質(zhì)量情況。X射線檢測在使用中不損傷被檢物，方便實(shí)用，可達(dá)到其他檢測手段無法達(dá)到的獨(dú)特檢測效果，使用面寬，底片長期存檔備查，便于分析事故，可以直觀的顯示缺陷圖像等。盡管X射線檢測具有優(yōu)良的特性，但是X射線源的不同和接收器內(nèi)電子線路的不一致性及其正常變化，都會引起X射線檢測設(shè)備上不同像元在同樣X射線劑量輻射的情況下具有不同的輸出信號，主要包括隨機(jī)噪聲、偏置誤差、像元相應(yīng)不一致性、瑕疵像元等，如果對圖像不進(jìn)行校準(zhǔn)，則會最終影響實(shí)際檢測工作的要求。
發(fā)明內(nèi)容為解決上述問題，本實(shí)用新型公開了ー種圖像檢測對中工具，可以方便的對圖像進(jìn)行校準(zhǔn)對中，防止圖像的偏差而影響最終的檢測要求和檢測結(jié)果。本實(shí)用新型公開的ー種圖像檢測對中工具，包括校準(zhǔn)板、水平儀和刻線組，所述的水平儀設(shè)置在校準(zhǔn)板的上表面的中央，所述的刻線組設(shè)置在校準(zhǔn)板的上表面的右上角。本實(shí)用新型公開的ー種圖像檢測對中工具的一種改進(jìn)，所述的刻線組包括刻線I、刻線II和刻線III，所述的刻線I和刻線II互相垂直，所述的刻線III和刻線I之間的夾角為45度。本實(shí)用新型公開的ー種圖像檢測對中工具的又一種改進(jìn)，所述的刻線I為水平設(shè)置。本實(shí)用新型公開的ー種圖像檢測對中工具，通過設(shè)置在校準(zhǔn)板上表面中央的水平儀，可以方便、快捷的對校準(zhǔn)板進(jìn)行水平調(diào)校，避免了額外的水平調(diào)校工序，提高了水平調(diào)校的精準(zhǔn)性，節(jié)約了水平調(diào)校的時間，提高了工作效率；通過設(shè)置的刻線組，可以方便將圖像與刻線組進(jìn)行基準(zhǔn)對齊，迅速對圖像進(jìn)行調(diào)校；通過設(shè)置的互相垂直的刻線I和刻線II以及夾角為45度的刻線III和刻線I，可以為圖像的調(diào)?；鶞?zhǔn)提供三軸方向，對圖像的調(diào)校更加精確，并且調(diào)校一次完成，避免了多次調(diào)校的繁瑣工序，減少了調(diào)校時間，提高了生產(chǎn)效率。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡單，生產(chǎn)容易，使用中減少了傳統(tǒng)圖像檢測中的調(diào)校工序和時間，具有廣闊的市場前景。

圖I、本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；附圖標(biāo)記列表1、校準(zhǔn)板，2、水平儀，3、刻 線I，4、刻線11，5、刻線III。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式
，進(jìn)一步闡明本實(shí)用新型，應(yīng)理解下述具體實(shí)施方式
僅用于說明本實(shí)用新型而不用于限制本實(shí)用新型的范圍。需要說明的是，下面描述中使用的詞語“前”、“后”、“左”、“右”、“上”和“下”指的是附圖中的方向，詞語“內(nèi)”和“外”分別指的是朝向或遠(yuǎn)離特定部件幾何中心的方向。如圖I所示，本實(shí)用新型公開的一種圖像檢測對中工具，包括校準(zhǔn)板I、水平儀2和刻線組，所述的水平儀2設(shè)置在校準(zhǔn)板I的上表面的中央，所述的刻線組設(shè)置在校準(zhǔn)板I的上表面的右上角。作為一種優(yōu)選，所述的刻線組包括刻線I 3、刻線II 4和刻線III 5，所述的刻線I 3和刻線II 4互相垂直，所述的刻線III 5和刻線I 3之間的夾角為45度。作為一種優(yōu)選，所述的刻線I 3為水平設(shè)置。本實(shí)用新型公開的一種圖像檢測對中工具，通過設(shè)置在校準(zhǔn)板上表面中央的水平儀，可以方便、快捷的對校準(zhǔn)板進(jìn)行水平調(diào)校，避免了額外的水平調(diào)校工序，提高了水平調(diào)校的精準(zhǔn)性，節(jié)約了水平調(diào)校的時間，提高了工作效率；通過設(shè)置的刻線組，可以方便將圖像與刻線組進(jìn)行基準(zhǔn)對齊，迅速對圖像進(jìn)行調(diào)校；通過設(shè)置的互相垂直的刻線I和刻線II以及夾角為45度的刻線III和刻線I，可以為圖像的調(diào)?；鶞?zhǔn)提供三軸方向，對圖像的調(diào)校更加精確，并且調(diào)校一次完成，避免了多次調(diào)校的繁瑣工序，減少了調(diào)校時間，提高了生產(chǎn)效率。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡單，生產(chǎn)容易，使用中減少了傳統(tǒng)圖像檢測中的調(diào)校工序和時間，具有廣闊的市場前景。本實(shí)用新型方案所公開的技術(shù)手段不僅限于上述技術(shù)手段所公開的技術(shù)手段，還包括由以上技術(shù)特征任意組合所組成的技術(shù)方案。以上所述是本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式
，應(yīng)當(dāng)指出，對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實(shí)用新型原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和潤飾，這些改進(jìn)和潤飾也視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1.一種圖像檢測對中工具，其特征在于它包括校準(zhǔn)板、水平儀和刻線組，所述的水平儀設(shè)置在校準(zhǔn)板的上表面的中央，所述的刻線組設(shè)置在校準(zhǔn)板的上表面的右上角。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種圖像檢測對中工具，其特征在于所述的刻線組包括刻線I、刻線II和刻線III，所述的刻線I和刻線II互相垂直，所述的刻線III和刻線I之間的夾角為45度。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種圖像檢測對中工具，其特征在于所述的刻線I為水平設(shè)置。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種圖像檢測對中工具，包括校準(zhǔn)板、水平儀和刻線組，水平儀設(shè)置在校準(zhǔn)板的上表面的中央，刻線組設(shè)置在校準(zhǔn)板的上表面的右上角，刻線組包括刻線Ⅰ、刻線Ⅱ和刻線Ⅲ，刻線Ⅰ和刻線Ⅱ互相垂直刻線Ⅲ和刻線Ⅰ之間的夾角為45度，刻線Ⅰ為水平設(shè)置。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡單，生產(chǎn)容易，使用中減少了傳統(tǒng)圖像檢測中的調(diào)校工序和時間，具有廣闊的市場前景。
文檔編號G01N23/04GK202649143SQ20122028320
公開日2013年1月2日 申請日期2012年6月15日 優(yōu)先權(quán)日2012年6月15日
發(fā)明者唐納德 申請人:偉杰科技(蘇州)有限公司