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絕對(duì)法電導(dǎo)率測(cè)量用電導(dǎo)池定位支架的制作方法

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專(zhuān)利名稱(chēng):絕對(duì)法電導(dǎo)率測(cè)量用電導(dǎo)池定位支架的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
絕對(duì)法電導(dǎo)率測(cè)量用電導(dǎo)池定位支架一、技術(shù)領(lǐng)域[0001]本實(shí)用新型屬于測(cè)量應(yīng)用技術(shù)領(lǐng)域,涉及電導(dǎo)率測(cè)量技術(shù),特別涉及絕對(duì)法電導(dǎo)率標(biāo)準(zhǔn)測(cè)量技術(shù)。二、背景技術(shù)[0002]絕對(duì)法電導(dǎo)率測(cè)量作為溶液電導(dǎo)率定值最高標(biāo)準(zhǔn),采用基于精確測(cè)量電導(dǎo)池幾何參數(shù)的絕對(duì)測(cè)量方法,采用中間管段可拆裝的JONES型電導(dǎo)池,該電導(dǎo)池為對(duì)稱(chēng)的分體式U 型結(jié)構(gòu)。傳統(tǒng)固定方式為外置固定裝置支撐,通過(guò)兩個(gè)萬(wàn)能夾分別固定電極腔瓶頸,測(cè)試時(shí)兩個(gè)電極腔及中間管段需浸入恒溫水(油)浴中。由于兩電極腔的平衡性和復(fù)利的共同作用,再者恒溫水(油)浴中的溶液為動(dòng)態(tài)的,整個(gè)電導(dǎo)池裝置在水(油)浴中的位置極不穩(wěn)定, 造成測(cè)量過(guò)程中引入的系統(tǒng)誤差增大;同時(shí),還會(huì)加大操作難度,操作過(guò)程對(duì)操作人員的要求變高,一旦操作不慎,甚至?xí)蛩閮x器,從而無(wú)法進(jìn)行測(cè)量。三、發(fā)明內(nèi)容[0003]本實(shí)用新型旨在為解決絕對(duì)法電導(dǎo)率測(cè)量過(guò)程中電導(dǎo)池的穩(wěn)定固定問(wèn)題和實(shí)現(xiàn)安全操作,提供一種U型定位支架,用于絕對(duì)法電導(dǎo)率測(cè)量過(guò)程中電導(dǎo)池的穩(wěn)定固定。[0004]本實(shí)用新型的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的,采用U型框架作為支架主體,U型框架為滑道式可調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu),以適應(yīng)不同型號(hào)電導(dǎo)池的使用山型框架的立板上設(shè)有固定裝置,便于對(duì)電導(dǎo)池的固定;采用高密度材料作為支架用材,保證支架連同固定于支架上的電導(dǎo)池穩(wěn)定沉入水(油)浴中。為使電導(dǎo)池的固定更為穩(wěn)定,在底座和支架上開(kāi)有與電導(dǎo)池匹配的弧形槽。本實(shí)用新型涉及的絕對(duì)法電導(dǎo)率測(cè)量用電導(dǎo)池U型定位支架,由底板I和兩個(gè)平行的立板3組成,其特征在于底板I中間開(kāi)有矩形開(kāi)口,沿矩形開(kāi)口長(zhǎng)邊設(shè)置平行滑槽2, 立板安裝在與底板滑槽匹配的滑塊4上,立板3上有卡扣5,立板上的滑塊嵌入底板的平行滑槽,滑塊4居中設(shè)置弧形支撐槽,結(jié)構(gòu)如附圖I所示。[0006]本實(shí)用新型涉及的絕對(duì)法電導(dǎo)率測(cè)量用電導(dǎo)池U型定位支架,由底板I和兩個(gè)平行的立板3組成,其特征在于立板上設(shè)置與底板上的支撐槽對(duì)應(yīng)的弧形定位槽7,結(jié)構(gòu)如附圖2所示。[0007]本實(shí)用新型涉及的U型定位支架,由底板I和兩個(gè)平行的立板3組成,其特征在于立板與滑塊為一體結(jié)構(gòu)。[0008]本實(shí)用新型涉及的絕對(duì)法電導(dǎo)率測(cè)量用電導(dǎo)池U型定位支架,由底板I和兩個(gè)平行的立板3組成,其特征在于底板為鏤空結(jié)構(gòu)。[0009]本實(shí)用新型涉及的絕對(duì)法電導(dǎo)率測(cè)量用電導(dǎo)池U型定位支架,采用整體定位方式,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,固定穩(wěn)定,調(diào)節(jié)和使用操作方便;使用滑道結(jié)構(gòu),可以根據(jù)電導(dǎo)池尺寸調(diào)整, 適用于不同規(guī)格的電導(dǎo)池固定,特別適用于絕對(duì)法標(biāo)準(zhǔn)電導(dǎo)池的固定。[0010]本實(shí)用新型涉及的絕對(duì)法電導(dǎo)率測(cè)量用電導(dǎo)池U型定位支架,采用鏤空底板,使溫場(chǎng)均勻性更好,有效保證測(cè)量的準(zhǔn)確性。

[0011]附圖I本實(shí)用新型涉及的電導(dǎo)池支架結(jié)構(gòu)示意圖[0012]附圖2本實(shí)用新型涉及的電導(dǎo)池支架立板結(jié)構(gòu)示意圖[0013]其中1_底板;2-滑道;3-立板;4-滑塊;5-卡扣;6_矩形開(kāi)口 ;7-弧形定位槽五具體實(shí)施方式
[0014]下面結(jié)合實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型提出的技術(shù)方案進(jìn)行進(jìn)一步說(shuō)明,但不作為對(duì)實(shí)用新型提出的技術(shù)方案的限制。[0015]下面以一種絕對(duì)法電導(dǎo)池定位支架為例對(duì)本實(shí)用新型提出的技術(shù)方案進(jìn)行進(jìn)一步說(shuō)明。[0016]本定位支架采用聚四氟乙烯作加工而成。底板尺寸為600mm*400mm*10mm, 居中開(kāi)50mm*450mm矩形孔,其余部分均布Φ8πιπι小孔,孔中心距為12mm ;沿矩形孔長(zhǎng)邊設(shè)置10mm*10mm*600mm工字型滑槽;滑塊120mm*50mm*25mm,滑塊面上橫向居中設(shè)置180 ° Φ35ι πι弧形定位槽,下端有120mm*10mm*IOmm外沿與滑槽配合;立板 10mm*40mm*300mm,底部對(duì)稱(chēng)設(shè)置與 底板上工字型滑槽匹配的滑槽,立板面上縱向居中設(shè)置 120° Φ IOmm的弧形定位槽7,在弧形定位槽7邊上設(shè)置搭接式固定卡扣。兩塊立板的滑塊放入滑槽中,弧形定位槽7相對(duì)得到本實(shí)用新型設(shè)計(jì)的U型定位支架。[0017]以支撐絕對(duì)法電導(dǎo)池(電導(dǎo)池的結(jié)構(gòu)如附圖I所示)為例說(shuō)明該支架的使用特點(diǎn), 將電導(dǎo)池的電極腔放在弧形支撐槽上,移動(dòng)立板至電極引線正好嵌入弧形定位槽7,用卡扣固定電極即完成電導(dǎo)池固定,測(cè)試時(shí)只需將整套裝置放入恒溫槽中即可。
權(quán)利要求1.一種絕對(duì)法電導(dǎo)率測(cè)量用電導(dǎo)池定位支架,由底板(I)和兩個(gè)平行的立板(3)組成, 其特征在于底板(I)中間開(kāi)有矩形開(kāi)口,沿矩形開(kāi)口長(zhǎng)邊設(shè)置平行滑槽(2),立板安裝在與底板滑槽匹配的滑塊(4)上,立板(3)上有卡扣(5),立板上的滑塊嵌入底板的平行滑槽, 滑塊(4 )居中設(shè)置弧形支撐槽。
2.權(quán)利要求I涉及的絕對(duì)法電導(dǎo)率測(cè)量用電導(dǎo)池定位支架,其特征在于立板上設(shè)置與底板上的支撐槽對(duì)應(yīng)的弧形定位槽(7)。
3.權(quán)利要求I涉及的絕對(duì)法電導(dǎo)率測(cè)量用電導(dǎo)池定位支架,其特征在于立板與滑塊為一體結(jié)構(gòu)。
4.權(quán)利要求I涉及的絕對(duì)法電導(dǎo)率測(cè)量用電導(dǎo)池定位支架,其特征在于底板為鏤空結(jié)構(gòu)。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型屬于測(cè)量應(yīng)用技術(shù)領(lǐng)域,采用U型框架作為支架主體,U型框架為滑道式可調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu),以適應(yīng)不同型號(hào)電導(dǎo)池的使用。該絕對(duì)法電導(dǎo)率測(cè)量用電導(dǎo)池定位支架,由底板(1)和兩個(gè)平行的立板(3)組成,底板(1)中間開(kāi)有矩形開(kāi)口,沿矩形開(kāi)口長(zhǎng)邊設(shè)置平行滑槽(2),立板安裝在與底板滑槽匹配的滑塊(4)上,立板(3)上有卡扣(5),立板上的滑塊嵌入底板的平行滑槽,滑塊(4)居中設(shè)置弧形支撐槽。該定位支架,采用整體定位方式,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,固定穩(wěn)定,調(diào)節(jié)和使用操作方便;使用滑道結(jié)構(gòu),可以根據(jù)電導(dǎo)池尺寸調(diào)整,適用于不同規(guī)格的電導(dǎo)池固定,特別適用于絕對(duì)法標(biāo)準(zhǔn)電導(dǎo)池的固定。
文檔編號(hào)G01R1/04GK202676739SQ201120405940
公開(kāi)日2013年1月16日 申請(qǐng)日期2011年10月21日 優(yōu)先權(quán)日2011年10月21日
發(fā)明者胡國(guó)星, 徐大剛, 陳方汀, 王曙光, 拓銳, 武文順 申請(qǐng)人:中國(guó)兵器工業(yè)集團(tuán)第五三研究所
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