專利名稱：自動分析裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實施方式涉及自動分析裝置。
背景技術(shù)：
自動分析裝置將生物化學檢查項目和免疫檢查項目等測定項目作為測定對象。自動分析裝置將試樣和與各測定項目對應(yīng)的試劑分注到反應(yīng)容器內(nèi)，并加以攪拌。當試樣與試劑被混合時，混合液進行化學反應(yīng)，色調(diào)和濁度等發(fā)生變化。自動分析裝置通過關(guān)于該色調(diào)和濁度等的變化測定光的透過量，從而測定試樣中的各種成分的濃度或酶的活性。測定后，廢棄混合液。并且，裝過混合液的反應(yīng)容器例如如專利文獻1和專利文獻2所公開那樣， 利用清洗噴嘴(nozzle)用洗液或水來清洗，用干燥噴嘴來干燥。被干燥后的反應(yīng)容器可以被再次用于測定。反應(yīng)容器的最佳清洗模式根據(jù)測定項目、即試樣或試劑而不同。另外，所謂清洗模式是指例如所使用的清洗水的種類和使用次數(shù)、使用順序等。然而，例如，如專利文獻1和專利文獻2所公開的那樣，各清洗噴嘴的分工被固定。即反應(yīng)容器與試樣或試劑的種類無關(guān)地在固定的清洗模式下被清洗。因此，大多數(shù)情況下無法在最適合于測定項目的清洗模式下清洗反應(yīng)容器，希望提高反應(yīng)容器的清洗精度、清洗效率。另外，存在以下的情況，S卩、在向反應(yīng)容器內(nèi)插入清洗噴嘴、或者從反應(yīng)容器提起清洗噴嘴時，清洗水和容納在反應(yīng)容器內(nèi)的混合液等將從清洗噴嘴飛散，并進入其他反應(yīng)容器內(nèi)。通過向這種反應(yīng)容器混入清洗水，反應(yīng)容器的清洗精度、清洗效率變得惡化。以往技術(shù)文獻專利文獻1日本特開平6-10228專利文獻2日本特開平6-160398

發(fā)明內(nèi)容
目的在于提供使反應(yīng)容器的清洗效率提高的自動分析裝置。本實施方式涉及的自動分析裝置包括反應(yīng)盤，能夠保持容納有試樣與試劑的反應(yīng)容器；清洗機構(gòu)，使用噴嘴清洗上述反應(yīng)容器；以及覆蓋物，被設(shè)置成能夠沿上述噴嘴的軸移動，用于覆蓋上述反應(yīng)容器的開口部。能夠提供使反應(yīng)容器的清洗效率提高的自動分析裝置。


圖1為表示第1實施方式涉及的自動分析裝置的結(jié)構(gòu)的圖。
圖2為表示圖1的分析機構(gòu)的構(gòu)造的立體圖。圖3為表示通過圖1的清洗模式設(shè)定部設(shè)定的清洗模式的一個例子的圖。圖4為表示通過圖1的清洗模式設(shè)定部針對每一反應(yīng)容器所設(shè)定的清洗模式的一個例子的圖。圖5為示意性地表示第1實施方式的第1實施例涉及的清洗機構(gòu)的構(gòu)造的圖。圖6為概略地表示圖5的清洗機構(gòu)的構(gòu)造的立體圖。圖7為第1實施例涉及的自動分析裝置的清洗系統(tǒng)的功能框圖。圖8為用于說明由圖7的清洗機構(gòu)控制部控制的清洗機構(gòu)的動作例子的圖，對每一旋轉(zhuǎn)周期表示配置在各清洗位置的反應(yīng)容器的圖。圖9為示意性地表示第1實施方式的變形例1涉及的清洗機構(gòu)的構(gòu)造的圖。圖10為第1實施例的變形例1涉及的由噴嘴與覆蓋物組成的組件的立體圖。圖11為示意性地表示第1實施例的變形例2涉及的清洗機構(gòu)的構(gòu)造的圖。圖12為示意性地表示第1實施方式的第2實施例涉及的清洗機構(gòu)的構(gòu)造的圖。圖13為與圖12的清洗機構(gòu)的正面方向有關(guān)的概略立體圖。圖14為與圖12的清洗機構(gòu)的側(cè)面方向有關(guān)的概略立體圖。圖15為第1實施方式的第2實施例涉及的自動分析裝置的清洗系統(tǒng)的功能框圖。圖16為表示通過第2實施方式的清洗模式設(shè)定部設(shè)定的清洗模式的一個例子的圖。圖17為表示通過第2實施方式的清洗模式設(shè)定部針對每一反應(yīng)容器設(shè)定的清洗模式的一個例子的圖。圖18為用于說明第2實施方式涉及的噴嘴與覆蓋物的構(gòu)造的立體圖。圖19為用于說明第2實施方式涉及的噴嘴與覆蓋物的構(gòu)造的其他立體圖。圖20為第2實施方式涉及的自動分析裝置的清洗系統(tǒng)的功能框圖。圖21為關(guān)于由圖20的清洗機構(gòu)控制部控制的噴嘴與覆蓋物的動作例子的說明， 表示待機時的噴嘴與覆蓋物與反應(yīng)容器之間的位置關(guān)系的圖。圖22為關(guān)于由圖20的清洗機構(gòu)控制部控制的噴嘴與覆蓋物的動作例子的說明， 表示清洗動作跳過(OFF)時的噴嘴與覆蓋物與反應(yīng)容器之間的位置關(guān)系的圖。圖23為關(guān)于由圖20的清洗機構(gòu)控制部控制的噴嘴與覆蓋物的動作例子的說明， 表示清洗動作時的噴嘴與覆蓋物與反應(yīng)容器之間的位置關(guān)系的圖。圖M為表示變形例1涉及的覆蓋物的構(gòu)造的截面圖。圖25為表示粘著在圖M的噴嘴上的覆蓋物的構(gòu)造的截面圖。圖沈為表示變形例2涉及的覆蓋物的構(gòu)造的平面圖。符號說明1...自動分析裝置、10...分析部、11...分析機構(gòu)、12...分析機構(gòu)控制部、 13...分析機構(gòu)驅(qū)動部、20...數(shù)據(jù)處理部、21...運算部、22...存儲部、30...輸出部、 31...印刷部、32...顯示部、40...操作部、50...清洗模式設(shè)定部、60...系統(tǒng)控制部、 72. · ·反應(yīng)容器、101. · ·純水箱(tank)、103. · ·堿性洗液箱、105. · ·酸性洗液箱、107. · ·純水管線、109...堿性洗液管線、111...酸性洗液管線、113...流路切換閥、115...噴嘴、 117...干燥芯片、119...供給管線、121...高濃度廢液管線、123...低濃度廢液管線、125...吸引管線
具體實施例方式本實施方式涉及的自動分析裝置具有反應(yīng)盤、清洗機構(gòu)以及覆蓋物。反應(yīng)盤被構(gòu)成為能夠保持容納有試樣與試劑的反應(yīng)容器。清洗機構(gòu)使用噴嘴清洗上述反應(yīng)容器。覆蓋物被設(shè)置為能夠沿上述噴嘴的軸移動，并構(gòu)成為覆蓋上述反應(yīng)容器的開口部。以下，參照附圖對本實施方式涉及的自動分析裝置進行說明。(第1實施方式)圖1為表示第1實施方式涉及的自動分析裝置1的結(jié)構(gòu)的圖。如圖1所示，自動分析裝置1具備分析部10、數(shù)據(jù)處理部20、輸出部30、操作部40、清洗模式設(shè)定部50以及系統(tǒng)控制部60。分析部10對每一測定項目使用試劑來測定血清和尿液等試樣，并生成與試樣有關(guān)的測定數(shù)據(jù)。分析部10具備分析機構(gòu)11、分析機構(gòu)控制部12以及分析機構(gòu)驅(qū)動部13。圖2為表示分析機構(gòu)11的構(gòu)造的立體圖。如圖2所示，分析機構(gòu)11具備反應(yīng)盤 71。反應(yīng)盤71將多個(m個)反應(yīng)容器72以可旋轉(zhuǎn)的方式進行保持，該多個反應(yīng)容器72在圓周上被等間隔地排列。反應(yīng)盤71交替重復(fù)進行既定角度的旋轉(zhuǎn)與固定期間的停止。在此，將由一次旋轉(zhuǎn)和隨之繼續(xù)的一次停止組成的一連串的動作單位稱為旋轉(zhuǎn)周期(cycle)。 旋轉(zhuǎn)角度例如根據(jù)反應(yīng)盤71的圍繞周期來規(guī)定。圍繞周期是用于使反應(yīng)容器72移動一個單元(cell)量的一連串的動作單位。例如，旋轉(zhuǎn)角度為1/3周程度。此時，反應(yīng)盤71當旋轉(zhuǎn)3次時，旋轉(zhuǎn)一個單元量而旋轉(zhuǎn)為一周。換而言之，反應(yīng)容器72在每一圍繞周期移動一個單元。并且，當重復(fù)了反應(yīng)盤71的單元數(shù)量的圍繞周期時，反應(yīng)容器72返回至原單元位置。例如，在對反應(yīng)盤71設(shè)置40個單元時，為了使反應(yīng)容器72返回至原單元位置，需要重復(fù)40次的圍繞周期。這樣，將用于使反應(yīng)容器72在開始旋轉(zhuǎn)后按照順序被配置在所有單元位置并返回至原單元位置的一連串的動作單位稱為分析周期。分析機構(gòu)11在反應(yīng)盤71的附近具有盤取樣器73。盤取樣器73以可旋轉(zhuǎn)的方式保持試樣容器74。試樣容器74容納標準試料和被檢試料等試樣。另外，分析機構(gòu)11在反應(yīng)盤71的附近具有第1試劑庫75。第1試劑庫75以可旋轉(zhuǎn)的方式保持第1試劑容器76。 第1試劑容器76容納對試樣中包含的各測定項目的成分起反應(yīng)的第1試劑。另外，分析機構(gòu)11在反應(yīng)盤71的內(nèi)周側(cè)具有第2試劑庫77。第2試劑庫77以可旋轉(zhuǎn)的方式保持第2 試劑容器78。第2試劑容器78容納與第1試劑對應(yīng)的第2試劑。分析機構(gòu)11在反應(yīng)盤71與盤取樣器73之間具備取樣臂81。取樣臂81以可旋轉(zhuǎn)以及可上下移動的方式支撐取樣探頭82。取樣探頭82從位于盤取樣器73上的試樣吸引位置的試樣容器74中吸引試樣，并將試樣吐出至位于反應(yīng)盤71上的試樣吐出位置的反應(yīng)容器72內(nèi)。分析機構(gòu)11在反應(yīng)盤71與第1試劑庫75之間具備第1試劑臂83。第1試劑臂83以可旋轉(zhuǎn)以及可上下移動的方式支撐第1試劑探頭84。第1試劑探頭84從位于第1 試劑庫75上的第1試劑吸引位置的第1試劑容器76中吸引第1試劑，并將第1試劑吐出至位于反應(yīng)盤71上的第1試劑吐出位置的反應(yīng)容器72內(nèi)。分析機構(gòu)11在反應(yīng)盤71的附近具備第2試劑臂85。第2試劑臂85以可旋轉(zhuǎn)以及可上下移動的方式支撐第2試劑探頭 86。第2試劑探頭86從位于第2試劑庫77上的第2試劑吸引位置的第2試劑容器78中吸引第2試劑，并將第2試劑吐出至位于反應(yīng)盤71上的第2試劑吐出位置的反應(yīng)容器72 內(nèi)。另外，分析機構(gòu)11具有攪拌機構(gòu)87、測光機構(gòu)88以及清洗機構(gòu)89。攪拌機構(gòu)87 使用攪拌子攪拌位于反應(yīng)盤71上的攪拌位置的反應(yīng)容器72內(nèi)的試樣以及第1試劑的混合液、或者試樣、第1試劑以及第2試劑的混合液。測光機構(gòu)88向通過反應(yīng)盤71旋轉(zhuǎn)的反應(yīng)容器72照射光(測光束)，并將透過含有試樣的混合液的光變換為吸光度從而生成測定數(shù)據(jù)。并且，測光機構(gòu)88將所生成的測定數(shù)據(jù)輸出至數(shù)據(jù)處理部20。清洗機構(gòu)89使用清洗用噴嘴清洗分別配置在反應(yīng)盤71上的多個清洗位置的多個反應(yīng)容器72。另外，清洗機構(gòu)89使用干燥用噴嘴干燥被清洗的反應(yīng)容器72。更詳細而言， 清洗機構(gòu)89按照與清洗對象的反應(yīng)容器72內(nèi)的試樣的測定項目對應(yīng)的清洗模式，清洗其清洗對象反應(yīng)的反應(yīng)容器72。清洗模式可對每一測定項目來設(shè)定。清洗模式可以按照用戶經(jīng)由操作部40的指示任意設(shè)定。分析機構(gòu)控制部12為了驅(qū)動各機構(gòu)而控制分析機構(gòu)驅(qū)動部13。具體而言，按照分析機構(gòu)控制部12的控制，分析機構(gòu)驅(qū)動部13分別旋轉(zhuǎn)反應(yīng)盤71、盤取樣器73、第1試劑庫 75以及第2試劑庫77。另外，分析機構(gòu)驅(qū)動部13按照分析機構(gòu)控制部12的控制，分別旋轉(zhuǎn)或上下移動取樣臂81、第1試劑臂83以及第2試劑臂85。另外，分析機構(gòu)驅(qū)動部13按照分析機構(gòu)控制部12的控制，控制清洗機構(gòu)89。另外，分析機構(gòu)驅(qū)動部13按照分析機構(gòu)控制部12的控制，驅(qū)動試樣分注泵，使取樣探頭82吸引或吐出試樣。另外，分析機構(gòu)驅(qū)動部13按照分析機構(gòu)控制部12的控制來驅(qū)動第1試劑分注泵，使第1試劑探頭84吸引或吐出第1試劑。另外，分析機構(gòu)驅(qū)動部13按照分析機構(gòu)控制部12的控制來驅(qū)動第2試劑分注泵，使第2試劑探頭86吸引或吐出第2試劑。分析機構(gòu)驅(qū)動部13按照分析機構(gòu)控制部12的控制來驅(qū)動清洗泵，使清洗機構(gòu)89的噴嘴吸引反應(yīng)容器72內(nèi)的混合液、或?qū)⑶逑匆和鲁鲋练磻?yīng)容器72內(nèi)、或吸引反應(yīng)容器72內(nèi)的清洗液。另外，分析機構(gòu)驅(qū)動部13按照分析機構(gòu)控制部12的控制驅(qū)動干燥泵，使清洗機構(gòu)89的干燥用噴嘴干燥反應(yīng)容器72內(nèi)。如上所述，反應(yīng)盤71在每一旋轉(zhuǎn)周期交替重復(fù)旋轉(zhuǎn)與停止。分析機構(gòu)控制部12 一邊重復(fù)這種旋轉(zhuǎn)與停止一邊執(zhí)行分注、攪拌、測光、清洗。例如，分析機構(gòu)控制部12在反應(yīng)盤71的停止期間執(zhí)行分注、清洗、攪拌，在反應(yīng)盤71的旋轉(zhuǎn)期間執(zhí)行測光。數(shù)據(jù)處理部20對通過分析部10生成的各種數(shù)據(jù)進行運算或存儲。數(shù)據(jù)處理部20 具有運算部21與存儲部22。運算部21基于通過測光機構(gòu)88生成的各測定項目的測定數(shù)據(jù)來作成校準曲線，并將所作成的校準曲線的數(shù)據(jù)存儲至存儲部22，并且供給至輸出部30。 另外，運算部21利用所作成的校準曲線的數(shù)據(jù)，根據(jù)測定數(shù)據(jù)而生成測定項目成分的濃度和活性值等分析數(shù)據(jù)，并將所生成的分析數(shù)據(jù)存儲至存儲部22，并且供給至輸出部30。存儲部22具備硬盤等存儲介質(zhì)。存儲部22對每一測定項目存儲通過運算部21生成的校準曲線的數(shù)據(jù)，或?qū)γ恳辉嚇颖４娓鳒y定項目的分析數(shù)據(jù)。輸出部30以各種方式輸出由數(shù)據(jù)處理部20所作成的校準曲線和所生成的分析數(shù)據(jù)等。具體情況是，輸出部30具備印刷部31與顯示部32。作為印刷部31可利用打印機等輸出設(shè)備。該打印機以規(guī)定的布局將從數(shù)據(jù)處理部20輸出的校準曲線和分析數(shù)據(jù)等印刷于打印用紙上。顯示部32顯示從數(shù)據(jù)處理部20輸出的校準曲線或分析數(shù)據(jù)，或者顯示與各測定項目有關(guān)的試樣的液量、第1試劑的液量、第2試劑的液量、用于設(shè)定測光束的波長等分析條件的分析條件設(shè)定畫面、用于設(shè)定被檢體ID和被檢體名等的被檢體信息設(shè)定畫面。另外，顯示部32顯示用于選擇每一試樣的測定項目的測定項目選擇畫面、用于對每一測定項目設(shè)定清洗模式的清洗模式設(shè)定畫面等。作為顯示部32可適當利用例如CRT (cathode-ray tube 陰極射線管)顯示器、液晶顯示器、有機EL (electro luminescence 電致發(fā)光)顯示器和等離子顯示器等顯示設(shè)備。操作部40進行各測定項目的分析條件的輸入和各種指令信號的輸入等。具體情況是，操作部40具備鍵盤、鼠標、各種按鈕、觸摸屏等輸入設(shè)備。操作部40按照來自用戶的指示經(jīng)由輸入設(shè)備，輸入對每一試樣測定的測定項目、各測定項目的分析條件、被檢體信息 (例如，被檢體ID和被檢體名等)、各測定項目的清洗模式等。清洗模式設(shè)定部50按照與用戶經(jīng)由操作部40輸入的清洗模式有關(guān)的指示來設(shè)定清洗模式。系統(tǒng)控制部60為了進行與測定項目有關(guān)的測定，綜合地控制自動分析裝置1具備的各部分。另外，作為本實施方式特征性的技術(shù)，系統(tǒng)控制部60按照針對每一測定項目所設(shè)定的清洗模式來控制各部分。其次，針對清洗模式設(shè)定部50執(zhí)行的清洗模式的設(shè)定處理進行說明。圖3為表示通過清洗模式設(shè)定部50設(shè)定的清洗模式的一個例子的圖。如圖3所示，清洗模式通過反應(yīng)盤71上的各清洗位置上的清洗動作來被規(guī)定。清洗動作例如高濃度廢液的排出、低濃度廢液的排出、利用純水進行清洗、利用堿性洗液進行清洗、利用酸性洗液進行清洗、吸引、干燥。在高濃度廢液或低濃度廢液的排出、利用純水進行清洗時，使用噴嘴將反應(yīng)容器72內(nèi)的廢液吸引、排出后，純水從噴嘴被吐出至反應(yīng)容器72。在利用堿性洗液進行清洗時，使用噴嘴將反應(yīng)容器72內(nèi)的廢液吸引、排出后，堿性洗液從噴嘴被吐出至反應(yīng)容器72。在利用酸性洗液進行清洗時，使用噴嘴將反應(yīng)容器72內(nèi)的廢液吸引、排出后，酸性洗液從噴嘴被吐出至反應(yīng)容器72。反應(yīng)容器72在每一圍繞周期從清洗位置a到清洗位置h按順序被配置，并在各清洗位置被清洗。即，清洗位置是指反應(yīng)容器72的清洗動作的順序。例如，在清洗模式A時， 首先在清洗位置a處，反應(yīng)容器72被注入純水，并且進行高濃度廢液的排出。其次，在清洗位置b處，反應(yīng)容器72使用堿性洗液來清洗。其次，在清洗位置c處，反應(yīng)容器72使用酸性洗液來清洗。其次，在清洗位置d處，反應(yīng)容器72使用純水來清洗。其次，在清洗位置e 處，反應(yīng)容器72使用純水來清洗。其次，在清洗位置f處，反應(yīng)容器72使用純水來清洗。其次，在清洗位置g處，反應(yīng)容器72吸引純水等溶液。然后，在清洗位置h處，反應(yīng)容器72被干燥。如圖3所示，由于對每一清洗位置規(guī)定清洗動作，因此，可以在多個清洗位置使用同類清洗水。例如，可以像清洗模式B那樣在清洗位置b與清洗位置c這兩位置處執(zhí)行利用堿性洗液的清洗。另外，可以像清洗模式E那樣在清洗位置b與清洗位置c這兩位置處執(zhí)行利用酸性洗液的清洗。清洗模式的設(shè)定例如可以在測定項目的設(shè)定后來執(zhí)行。在清洗模式的設(shè)定階段， 用戶經(jīng)由操作部40針對每一測定項目從多個規(guī)定的清洗模式中選擇出一種。清洗模式設(shè)定部50對設(shè)定對象的測定項目設(shè)定所選擇的清洗模式。測定項目與反應(yīng)容器72例如通過系統(tǒng)控制部60被對應(yīng)在一起。清洗模式設(shè)定部50對供測定設(shè)定對象的測定項目的反應(yīng)容器72設(shè)定所設(shè)定的清洗模式。因此，通過對測定項目設(shè)定清洗模式，從而供測定其測定項目的反應(yīng)容器72按照對其測定項目所設(shè)定的清洗模式來進行清洗。圖4為表示通過清洗模式設(shè)定部50對每一反應(yīng)容器72所設(shè)定的清洗模式的一個例子的圖。比較圖3與圖4可知，對各反應(yīng)容器72 (圖4的反應(yīng)容器A、反應(yīng)容器B、反應(yīng)容器C、反應(yīng)容器D、反應(yīng)容器E、反應(yīng)容器F、反應(yīng)容器G)分配既定的清洗模式中的某一種。例如，對反應(yīng)容器A設(shè)定圖3的清洗模式A。另外，在上述中，設(shè)清洗模式被預(yù)先規(guī)定。然而，本實施方式并不限定于此。例如， 清洗模式設(shè)定部50也可以按照經(jīng)由操作部40的來自用戶的指示，針對各測定項目對每一清洗位置設(shè)定清洗動作。另外，清洗模式設(shè)定部50也可以按照經(jīng)由操作部40的來自用戶的指示，變更清洗模式的各清洗動作。其次，針對用于實現(xiàn)這種清洗動作的構(gòu)成或動作在第1實施例與第2實施例中分開進行詳細說明。[第1實施例]圖5為示意性地表示第1實施方式的第1實施例涉及的清洗機構(gòu)89的構(gòu)造的圖。 如圖5所示，清洗機構(gòu)89具有純水箱101、堿性洗液箱103以及酸性洗液箱105等多個清洗水容器。純水箱101儲存作為清洗水之一的純水。純水箱101連接有作為純水的流路的純水管線107。純水管線107連接純水箱101與流路切換閥113。堿性洗液箱103儲存作為清洗水之一的堿性洗液。堿性洗液箱103連接作為堿性洗液的流路的堿性洗液管線109。堿性洗液管線109連接有堿性洗液箱103與流路切換閥113。酸性洗液箱105儲存作為清洗水之一的酸性洗液。酸性洗液箱105連接有作為酸性洗液的流路的酸性洗液管線111。酸性洗液管線111連接酸性洗液箱105與流路切換閥113。另外，在反應(yīng)盤71上的多個清洗位置a_h處分別設(shè)置多個噴嘴115。即，一個清洗位置處設(shè)置一個噴嘴115。多個噴嘴115以可通過未圖示的鉛直方向支撐機構(gòu)在鉛直方向獨立地移動的方式被支撐。清洗位置a-f的各噴嘴115為了使用清洗水進行清洗而被利用。清洗位置g的噴嘴115為了吸引而被利用。清洗位置h的噴嘴115為了吸引與基于干燥芯片117的干燥而被利用。多個噴嘴115分別連接有多個供給用流路(以下，稱為供給管線)119。多個供給管線119連接多個噴嘴115與流路切換閥113。供給管線119中在每一旋轉(zhuǎn)周期選擇性地流入用于吐出至反應(yīng)容器72的純水、堿性洗液、或酸性洗液。另外，多個噴嘴115連接有多個排出用流路(以下，稱為排出管線)。排出管線為高濃度廢液管線121、低濃度廢液管線123、或吸引管線125。高度廢液管線121為用于比較高濃度的廢液的流路。例如，高濃度廢液管線121被連接至配置在清洗位置a處的噴嘴 115。低濃度廢液管線123為用于比較低濃度的廢液的流路。例如，低濃度廢液管線123被連接至清洗位置b 清洗位置f處的各噴嘴115。吸引管線125為用于反應(yīng)容器72內(nèi)的水分(例如，基于純水)的流路。例如，吸引管線125被連接至配置在清洗位置h處的噴嘴 115。流路切換閥113為切換各噴嘴115(供給管線119)與各洗液管線(純水管線107、 堿性洗液管線109以及酸性洗液管線111)的之間的連接的機構(gòu)。流路切換閥113為了使依照清洗模式的清洗水流入各噴嘴115，切換各噴嘴115與各洗液管線之間的連接。流路切換閥113例如通過電磁閥被構(gòu)成。流路切換閥113接受來自后述的閥驅(qū)動部的驅(qū)動信號進行動作。流路切換閥113可以將1根清洗管線同時連接至多個噴嘴115(供給管線119)。例如，純水管線107可以同時連接至清洗位置c的供給管線119、清洗位置d的供給管線119 以及清洗位置e的供給管線119。其次，針對第1實施例涉及的清洗機構(gòu)89的構(gòu)造進行說明。圖6為概略地表示第 1實施例涉及的清洗機構(gòu)89的構(gòu)造的立體圖。如圖6所示，清洗機構(gòu)89具有可獨立上下移動多個噴嘴115的構(gòu)造。具體情況是，清洗機構(gòu)89具有多個導(dǎo)螺桿(lead screw) 1310導(dǎo)螺桿131典型地為表面形成有螺旋狀槽的圓柱形狀的構(gòu)造物。導(dǎo)螺桿131被固定為軸心大致沿鉛直方向。導(dǎo)螺桿131上安裝有臂133。臂133的一端形成貫通孔。貫通孔的里面形成嵌合在導(dǎo)螺桿131的表面槽的槽。臂133在該貫通孔內(nèi)與導(dǎo)螺桿131螺合。這樣導(dǎo)螺桿 131作為以可沿鉛直方向上下移動的方式支撐臂133的鉛直方向支撐機構(gòu)而發(fā)揮功能。臂 133的另一端安裝有噴嘴115。另外，導(dǎo)螺桿131的一端設(shè)有DC電動機(直流電動機)135。 DC電動機135作為鉛直方向驅(qū)動部而發(fā)揮功能。DC電動機135按照來自后述的清洗機構(gòu)控制部141的控制進行驅(qū)動，并通過使導(dǎo)螺桿131旋轉(zhuǎn)，從而使噴嘴115沿鉛直方向上下移動。導(dǎo)螺桿131的兩端安裝有光電傳感器(photo sensor) 137。光電傳感器137以光學方式檢測臂133到達導(dǎo)螺桿131的端部的情況。當通過光電傳感器137檢測出臂133到達了端部時，則DC電動機135停止。圖7為本實施方式的第1實施例涉及的自動分析裝置1的清洗系統(tǒng)的功能框圖。 如圖7所示，自動分析裝置1的清洗系統(tǒng)以系統(tǒng)控制部60為中樞，具備顯示部32、操作部 40、清洗模式設(shè)定部50、清洗機構(gòu)控制部141、鉛直方向驅(qū)動部(DC電動機)135以及閥驅(qū)動部143。另外，關(guān)于顯示部32、操作部40以及清洗模式設(shè)定部50，由于已在之前敘述，因此在此省略說明。清洗機構(gòu)控制部141為上述分析機構(gòu)控制部12的一部分。清洗機構(gòu)控制部141 按照由清洗模式設(shè)定部50設(shè)定的清洗模式控制閥驅(qū)動部143與鉛直方向驅(qū)動部135。閥驅(qū)動部143為上述分析機構(gòu)驅(qū)動部13的一部分。閥驅(qū)動部143按照清洗機構(gòu)控制部141的控制進行驅(qū)動，并使流路切換閥113動作，切換清洗管線與噴嘴115之間的連接。更詳細而言，清洗機構(gòu)控制部141使流路切換閥113動作，以使與對清洗對象的反應(yīng)容器72所設(shè)定的清洗動作相應(yīng)的清洗水流通于設(shè)置在清洗位置處的噴嘴115。鉛直方向驅(qū)動部135為上述分析機構(gòu)驅(qū)動部13的一部分。鉛直方向驅(qū)動部135按照清洗機構(gòu)控制部141的控制進行驅(qū)動，使鉛直方向支撐機構(gòu)(導(dǎo)螺桿)131動作，并上下移動噴嘴115。其次，針對由清洗機構(gòu)控制部141控制的清洗機構(gòu)89的動作例子進行具體說明。 圖8為針對每一旋轉(zhuǎn)周期表示配置在各清洗位置處的反應(yīng)容器72的圖。如圖8所示，圍繞周期由n(例如，3)次旋轉(zhuǎn)周期組成，分析周期由m(例如，40)次圍繞周期組成。反應(yīng)容器 72在每一旋轉(zhuǎn)周期一個單元地移動清洗位置。在反應(yīng)盤71的旋轉(zhuǎn)期間移動反應(yīng)容器72， 在反應(yīng)盤71的停止期間清洗反應(yīng)容器72。清洗機構(gòu)控制部141在每一旋轉(zhuǎn)周期，按照配置在各清洗位置處的反應(yīng)容器72 的清洗模式來控制閥驅(qū)動部143，并將與各清洗位置的反應(yīng)容器72相應(yīng)的清洗水供給噴嘴115。具體情況是，清洗機構(gòu)控制部141在每一旋轉(zhuǎn)周期識別配置在各清洗位置的反應(yīng)容器 72。配置在各清洗位置的反應(yīng)容器通過現(xiàn)有技術(shù)來識別。當識別出反應(yīng)容器72時，清洗機構(gòu)控制部141確定對被識別出的反應(yīng)容器所設(shè)定的清洗模式，并確定被確定的清洗模式中的被配置的清洗位置的清洗動作。并且，清洗機構(gòu)控制部141根據(jù)所確定的清洗動作控制閥驅(qū)動部143，使流路切換閥113動作。流路切換閥113例如在反應(yīng)盤71的旋轉(zhuǎn)期間或反應(yīng)盤的停止期間的初始階段通過閥驅(qū)動部143來進行動作。在所確定的清洗動作為高濃度廢液的排出或低濃度廢液的排出、水清洗的情況下，控制閥驅(qū)動部143，連接其清洗位置的噴嘴115與純水管線107。另外，清洗機構(gòu)控制部141在所確定的清洗動作為堿性洗液清洗時，控制閥驅(qū)動部143，連接其清洗位置的噴嘴115與堿性洗液管線109。另外，清洗機構(gòu)控制部141在所確定的清洗動作為酸性洗液清洗時，控制閥驅(qū)動部143，連接其清洗位置的噴嘴115與酸性洗液管線111。當噴嘴115與供給管線之間的連接結(jié)束時，清洗機構(gòu)控制部141控制鉛直方向驅(qū)動部135，使各清洗位置的噴嘴115下降。然后從噴嘴115中吐出與各清洗位置的反應(yīng)容器72相應(yīng)的清洗水。例如，在噴嘴115與純水管線107被連接時，從噴嘴115中吐出純水。 在噴嘴115與堿性洗液管線109被連接時，從噴嘴115中吐出堿性洗液。在噴嘴115與酸性洗液管線111被連接時，從噴嘴115中吐出酸性洗液。當清洗水被吐出時，清洗機構(gòu)控制部141控制鉛直方向驅(qū)動部135，使各清洗位置的噴嘴115上升。當噴嘴115上升時，反應(yīng)盤71旋轉(zhuǎn)了旋轉(zhuǎn)角度。并且，再次同樣重復(fù)流路切換閥113的動作與清洗水的吐出。這樣在清洗機構(gòu)控制部141的控制下，從各清洗位置的噴嘴115中吐出依照對各清洗位置的反應(yīng)容器72所設(shè)定的清洗模式的清洗水。例如，在旋轉(zhuǎn)周期Cl中，從清洗位置 a的噴嘴115中吐出與對反應(yīng)容器A所設(shè)定的清洗模式內(nèi)的清洗位置a(第1次清洗動作) 對應(yīng)的清洗水，從清洗位置b的噴嘴115中吐出與對反應(yīng)容器B所設(shè)定的清洗模式內(nèi)的清洗位置b (第2次清洗動作)對應(yīng)的清洗水，從清洗位置c的噴嘴115中吐出對反應(yīng)容器C 所設(shè)定的清洗模式內(nèi)的清洗位置c (第3次清洗動作)對應(yīng)的清洗水，從清洗位置d的噴嘴 115中吐出與對反應(yīng)容器D所設(shè)定的清洗模式內(nèi)的清洗位置d(第4次清洗動作)對應(yīng)的清洗水，從清洗位置e的噴嘴115中吐出與對反應(yīng)容器E所設(shè)定的清洗模式內(nèi)的清洗位置 e (第5次清洗動作)對應(yīng)的清洗水，從清洗位置f的噴嘴115中吐出與對反應(yīng)容器F所設(shè)定的清洗模式內(nèi)的清洗位置f (第6次清洗動作)對應(yīng)的清洗水，從清洗位置g的噴嘴115 中吐出與對反應(yīng)容器G所設(shè)定的清洗模式內(nèi)的清洗位置g (第7次清洗動作)對應(yīng)的清洗水，從清洗位置h的噴嘴115中吐出與對反應(yīng)容器H所設(shè)定的清洗模式內(nèi)的清洗位置h(第 8次清洗動作)對應(yīng)的清洗水。另外，根據(jù)所設(shè)定的清洗動作，也可以從噴嘴115中不吐出清洗水。另外，例如，存在在旋轉(zhuǎn)周期Cl堿性洗液流通而在旋轉(zhuǎn)周期C2酸性洗液流通時等在旋轉(zhuǎn)周期間1根供給管線119內(nèi)有不同種類的清洗水流通的情況。此時，存在在供給管線119內(nèi)不同種類的清洗水混合，清洗精度惡化或供給管線119劣化的危險。以下對這種清洗精度惡化或供給管線119劣化的預(yù)防策略進行說明。例如，清洗機構(gòu)控制部141為了清洗供給管線119內(nèi)，而與用于清洗動作的清洗水的供給不同地在每一旋轉(zhuǎn)周期將純水供給至供給管線119。被供給的純水也可以一直供給到殘留在供給管線 119內(nèi)的堿性洗液或酸性洗液從噴嘴115中被擠押出為止。另外，用于清洗供給管線119內(nèi)的純水的供給也可以從清洗水的供給結(jié)束后到反應(yīng)盤71開始旋轉(zhuǎn)的期間。另外，也可以在反應(yīng)盤71的旋轉(zhuǎn)中供給純水。此時，也可以為了防止從噴嘴115中被擠押出的溶液混入旋轉(zhuǎn)中的反應(yīng)容器內(nèi)，而例如使噴嘴115從清洗位置躲避開。噴嘴115的躲避場所例如可以是為了供給管線119的清洗而設(shè)置的清洗池(pool)等。另外，供給管線119的清洗中所使用的溶液并不只限定于純水。例如，也可以將在清洗對象的供給管線119中在下一旋轉(zhuǎn)周期內(nèi)使用的清洗水供給至供給管線119。另外，在各清洗位置清洗反應(yīng)容器72時，存在清洗水等反應(yīng)容器72內(nèi)的溶液飛散，并進入其他反應(yīng)容器72內(nèi)的情況。此時，存在使其他反應(yīng)容器72的清洗精度或測定精度惡化的危險。以下對這種用于防止溶液飛散的的預(yù)防策略進行說明。如圖5所示，鉛直方向支撐機構(gòu)131搭載用于覆蓋反應(yīng)容器72的開口部的覆蓋物127。覆蓋物127也可以與噴嘴 115 一體地上下移動地被設(shè)置，也可以與噴嘴115獨立地上下移動地被設(shè)置。以下，設(shè)覆蓋物127與噴嘴115被設(shè)置為一體。此時，通過使噴嘴115下降，利用覆蓋物127堵塞反應(yīng)容器72的開口部。即，覆蓋物127被粘著在當噴嘴115下降時可覆蓋反應(yīng)容器72的開口部的噴嘴115的位置。覆蓋物127具有可進入反應(yīng)容器72的開口部的頂端部。通過頂端部進入開口部，從而密閉反應(yīng)容器72。因此，可以在開口部被堵塞的狀態(tài)下清洗反應(yīng)容器72。 由此，可以防止清洗水等溶液向配置在其他清洗位置處的反應(yīng)容器72飛散。當經(jīng)過一個分析周期時，測定項目的測定結(jié)束。因此，當經(jīng)過一個分析周期時，對反應(yīng)容器72所設(shè)定的清洗模式通過清洗模式設(shè)定部50解除。然后，在下一分析周期中測定新的測定項目時，清洗模式設(shè)定部50對反應(yīng)容器72設(shè)定與該新的測定項目有關(guān)的清洗模式。然后，其反應(yīng)容器72 —邊通過反應(yīng)盤71旋轉(zhuǎn)，一邊供分注、測光、攪拌、清洗。如上所述，第1實施例涉及的自動分析裝置1可以對每一測定項目設(shè)定供其測定項目的測定的反應(yīng)容器72的清洗模式(清洗水的種類、清洗水的順序、清洗水的使用次數(shù))。另外，自動分析裝置1具備切換洗液管線(純水管線107、堿性洗液管線109、酸性洗液管線111)與噴嘴115之間的連接的流路切換閥113。自動分析裝置1為了在所設(shè)定的清洗模式下清洗反應(yīng)容器72而驅(qū)動流路切換閥113。通過這種結(jié)構(gòu)，第1實施例涉及的自動分析裝置1可以在每一旋轉(zhuǎn)周期變更每一清洗位置的清洗動作。因此，自動分析裝置1可以在適合于各個測定項目的清洗模式下清洗反應(yīng)容器72。這樣，第1實施例涉及的自動分析裝置1可以提高反應(yīng)容器72的清洗效率。第1實施例的變形例1 在上述實施方式中，設(shè)在一個清洗位置設(shè)置一個噴嘴。然而，第1實施例并不限定于此。例如，也可以在一個清洗位置設(shè)置與清洗水的種類相應(yīng)的數(shù)的噴嘴。以下針對具有這種構(gòu)造的第1實施例的變形例1涉及的清洗機構(gòu)89進行說明。另外，在以下說明中，對具有與第1實施例大致相同功能的構(gòu)成要素，添加同一符號，只在需要時進行重復(fù)說明。圖9為示意性地表示第1實施例的變形例涉及的清洗機構(gòu)89的構(gòu)造的圖。如圖9 所示，在各清洗位置設(shè)置3個噴嘴115(純水用噴嘴11 、堿性洗液用噴嘴11 以及酸性洗液用噴嘴115c)。3個噴嘴115例如被安裝在覆蓋物127上。這樣3個噴嘴115與覆蓋物 127被組件化。3個噴嘴通過未圖示的鉛直方向支撐機構(gòu)以可一體地上下移動的方式被支撐。純水管線107與純水用流路切換閥113a連接。流路切換閥113a與各清洗位置的噴嘴11 被連接到純水用供給管線119a。堿性洗液管線109與堿性洗液用流路切換閥11 連接。流路切換閥11 與各清洗位置的噴嘴11 被連接到堿性洗液用供給管線11%。酸性洗液管線111與酸性用流路切換閥113c連接。流路切換閥113c與各清洗位置的噴嘴115c 被連接到酸性洗液用供給管線119c。清洗機構(gòu)控制部141按照對配置在各清洗位置處的反應(yīng)容器72設(shè)定的清洗模式控制閥驅(qū)動部143，為了向各清洗位置處的反應(yīng)容器72內(nèi)流入依照清洗模式的清洗水，使各流路切換閥113a、113b、113c動作。當使流路切換閥113動作，流路被切換時，清洗機構(gòu)控制部141控制支撐機構(gòu)驅(qū)動部145，統(tǒng)一使噴嘴11 與噴嘴11 與噴嘴115c下降。不管清洗水的種類如何，該各清洗位置的3種噴嘴115a、lMb以及115c總是一起上下移動。圖10為第1實施例的變形例1涉及的由多個噴嘴115(純水用噴嘴115a、堿性洗液用噴嘴115b、酸性洗液用噴嘴115c、吸引用噴嘴115d)與覆蓋物127組成的組件的立體圖。如圖10所示，4個噴嘴115被粘著在覆蓋物127上。多個噴嘴115也可以以可統(tǒng)一地進入反應(yīng)容器72內(nèi)的方式互相貼緊地粘著在覆蓋物127上。第1實施例的變形例2:在上述實施方式中清洗機構(gòu)89設(shè)為配備可獨立地上下移動在多個清洗位置分別設(shè)置的多個噴嘴115的獨立驅(qū)動機構(gòu)。然而，本實施方式并不限定于此。例如，變形例2涉及的清洗機構(gòu)89可以配備能夠統(tǒng)一地上下移動多個噴嘴115的機構(gòu)。以下針對變形例2 涉及的自動分析裝置進行說明。另外，在以下說明中，對具有與第1實施方式大致相同功能的構(gòu)成要素，添加同一符號，只在需要時進行重復(fù)說明。圖11為示意性地表示變形例2涉及的清洗機構(gòu)89的構(gòu)造的圖。如圖11所示，變形例2涉及的清洗機構(gòu)89具有以可統(tǒng)一沿鉛直方向上下移動的方式支撐多個清洗位置的多個噴嘴115的鉛直方向支撐機構(gòu)129。多個噴嘴115通過鉛直方向驅(qū)動部135的驅(qū)動沿鉛直方向統(tǒng)一地上下移動。[第2實施例]如上所述，第1實施例中設(shè)按照清洗模式切換流路切換閥115。然而，本實施方式并不限定于此。第2實施例對一個清洗位置設(shè)置多個噴嘴，并按照清洗模式水平移動噴嘴， 機械地選擇所使用的噴嘴。以下，針對第2實施例涉及的自動分析裝置進行說明。圖12為示意性地表示本實施方式的第2實施例涉及的清洗機構(gòu)89的構(gòu)造的圖。 另外，圖12為了便于理解，只示出了與1個清洗位置有關(guān)的機構(gòu)。實際上，第2實施例涉及的清洗機構(gòu)89像第1實施例1那樣具備與多個清洗位置有關(guān)的機構(gòu)。如圖12所示，在各清洗位置按照功能設(shè)置有與清洗水的種類相應(yīng)的多個噴嘴 115(純水用噴嘴11 、堿性洗液用噴嘴11 以及酸性洗液用噴嘴115c)。純水用噴嘴11 連接有純水管線107。堿性洗液用噴嘴11 連接有堿性洗液管線109。酸性洗液用噴嘴 115c連接有酸性洗液管線111。另外，多個噴嘴115連接有例如低濃度廢液管線123等排出管線。多個噴嘴115以可通過圖12中未圖示的鉛直方向支撐機構(gòu)沿鉛直方向獨立移動的方式被支撐。另外，多個噴嘴115在以可基于圖12中未圖示的水平方向支撐機構(gòu)沿水平方向移動的方式被支撐。其次，針對第2實施例涉及的清洗機構(gòu)89的構(gòu)造進行說明。圖13為與第2實施例涉及的清洗機構(gòu)89的正面方向有關(guān)的概略立體圖。圖14為與第2實施例涉及的清洗機構(gòu)89的側(cè)面方向有關(guān)的概略立體圖。如圖13與圖14所示，第2實施例涉及的清洗機構(gòu)89 具有可水平移動配置在各清洗位置的多個噴嘴115的構(gòu)造。具體情況是，第2實施例涉及的清洗機構(gòu)89具備形成螺旋狀槽的導(dǎo)螺桿151。導(dǎo)螺桿151被固定為軸心沿大致鉛直方向。導(dǎo)螺桿151安裝有支撐板153。支撐板153的端部形成貫通孔。貫通孔的里面形成嵌合在導(dǎo)螺桿151的表面槽內(nèi)的槽。支撐板153在該貫通孔中與導(dǎo)螺桿151螺合。這樣導(dǎo)螺桿151以可沿大致鉛直方向上下移動的方式支撐支撐板153。另外，支撐板153安裝有多個噴嘴115。導(dǎo)螺桿151的一端設(shè)有鉛直移動用步進電動機155。步進電動機155作為鉛直方向驅(qū)動部發(fā)揮功能。步進電動機155按照來自后述的清洗機構(gòu)控制部的控制進行驅(qū)動， 并通過使導(dǎo)螺桿151旋轉(zhuǎn)，從而使噴嘴115沿鉛直方向上下移動。另外，在各清洗位置設(shè)有臂157。臂157安裝有設(shè)置在各清洗位置的多個噴嘴115。 臂157的一端設(shè)有水平移動用步進電動機159。步進電動機159作為水平方向驅(qū)動部發(fā)揮功能。步進電動機159按照來自后述的清洗機構(gòu)控制部161的控制進行驅(qū)動，并通過使臂 157沿水平方向橫向移動，從而使多個噴嘴115水平移動。圖15為第2實施例涉及的自動分析裝置1的清洗系統(tǒng)的功能框圖。如圖15所示， 第2實施例涉及的自動分析裝置1的清洗系統(tǒng)以系統(tǒng)控制部60為中樞，具有顯示部32、操作部40、清洗模式設(shè)定部50、鉛直方向驅(qū)動部155、水平方向驅(qū)動部159以及清洗機構(gòu)控制部161。另外，關(guān)于顯示部32、操作部40以及清洗模式設(shè)定部50，由于已經(jīng)在之前敘述過， 所以在此省略說明。清洗機構(gòu)控制部161為上述分析機構(gòu)控制部12的一部分。清洗機構(gòu)控制部161按照對配置在各清洗位置的反應(yīng)容器72設(shè)定的清洗模式控制水平方向驅(qū)動部(水平移動用步進電動機)159與鉛直方向驅(qū)動部(鉛直移動用步進電動機)155。水平方向驅(qū)動部159 按照清洗機構(gòu)控制部161的控制在水平方向橫向移動噴嘴115，并在清洗位置配置按照配置在清洗位置的反應(yīng)容器72的清洗模式的清洗水用噴嘴115。更詳細而言，清洗機構(gòu)控制部161在清洗位置配置設(shè)置在各清洗位置的多個噴嘴115中的、與對清洗對象的反應(yīng)容器 72設(shè)定的清洗動作相應(yīng)的清洗水用的噴嘴115。由此，可以機械地選擇與配置在各清洗位置的反應(yīng)容器72的清洗模式相應(yīng)的噴嘴115。鉛直方向驅(qū)動部155按照清洗機構(gòu)控制部 161的控制在鉛直方向上下移動噴嘴115。其次，針對由清洗機構(gòu)控制部161控制的清洗機構(gòu)89的動作例子進行說明。清洗機構(gòu)控制部161在每一旋轉(zhuǎn)周期，按照配置在各清洗位置的反應(yīng)容器的清洗模式控制水平方向驅(qū)動部159，并在清洗位置配置與各清洗位置相應(yīng)的清洗水用的噴嘴115。具體情況是，清洗機構(gòu)控制部161在每一旋轉(zhuǎn)周期識別配置在各清洗位置的反應(yīng)容器72。當識別反應(yīng)容器72時，清洗機構(gòu)控制部161確定對所識別的反應(yīng)容器72設(shè)定的清洗模式，并確定對所確定的清洗模式中的被配置的清洗位置的清洗動作。然后，清洗機構(gòu)控制部161按照所確定的清洗動作控制水平方向驅(qū)動部159，在水平方向上橫向移動多個噴嘴115，在清洗位置配置與所確定的清洗動作相應(yīng)的噴嘴115。例如，在所確定的清洗動作為高濃度廢液的排出或低濃度廢液的排出、水清洗時，控制水平方向驅(qū)動部159，在其清洗位置配置純水用的噴嘴life。另外，清洗機構(gòu)控制部161在所確定的清洗動作為堿性洗液清洗時，控制水平方向驅(qū)動部159，在其清洗位置配置堿性洗液用的噴嘴1Mb。另外，清洗機構(gòu)控制部161在所確定的清洗動作為酸性洗液清洗時，控制水平方向驅(qū)動部159，在其清洗位置配置酸性洗液用的噴嘴115c。噴嘴115例如在反應(yīng)盤71的旋轉(zhuǎn)期間或反應(yīng)盤的停止期間的初始階段，通過水平方向驅(qū)動部159橫向移動。當對各清洗位置的噴嘴115的配置結(jié)束時，清洗機構(gòu)控制部161控制鉛直方向驅(qū)動部155，使對各清洗位置配置的噴嘴115下降。然后，從噴嘴115中吐出與各清洗位置的反應(yīng)容器72相應(yīng)的清洗水。當清洗水被吐出時，清洗機構(gòu)控制部161控制鉛直方向驅(qū)動部 155，使各清洗位置的噴嘴115上升。當使噴嘴115上升時，反應(yīng)盤71只旋轉(zhuǎn)了旋轉(zhuǎn)角度。 然后，再次同樣重復(fù)執(zhí)行對清洗位置的噴嘴115的配置與清洗水的吐出。這樣，在清洗機構(gòu)控制部161的控制下，從各清洗位置的噴嘴115中吐出依照對各清洗位置的反應(yīng)容器72設(shè)定的清洗模式的清洗水。如上所述，第2實施例涉及的自動分析裝置1在每一清洗位置設(shè)置與清洗水的種類相應(yīng)的噴嘴(純水用噴嘴115a、堿性洗液用噴嘴115b、酸性洗液用噴嘴115c)。另外，自動分析裝置1具備用于水平移動這些噴嘴115的水平方向支撐機構(gòu)(臂157)。自動分析裝置1為了在所設(shè)定的清洗模式下清洗反應(yīng)容器72，使水平方向支撐機構(gòu)動作，并在清洗位置配置與清洗對象的反應(yīng)容器72對應(yīng)的噴嘴115。因此，第2實施例涉及的自動分析裝置1可以在與各測定項目相應(yīng)的清洗模式下清洗反應(yīng)容器。這樣，第2實施例涉及的自動分析裝置1能夠提高反應(yīng)容器的清洗效率。(第2實施方式)混合液的最佳反應(yīng)時間根據(jù)測定項目或試劑而不同。隨之存在希望使反應(yīng)時間延長得比通常反應(yīng)時間長的情況。作為反應(yīng)時間的延長方法，有降低反應(yīng)盤71的旋轉(zhuǎn)速度的方法。然而，在該方法中，處理速度(吞吐量)明顯下降。作為其他延長方法，考慮到對延長對象的反應(yīng)容器跳過清洗動作的方法。但是僅僅跳過清洗動作，仍然存在在延長對象的反應(yīng)容器內(nèi)混入其附近的反應(yīng)容器的清洗中使用的洗液或水的危險。第2實施方式涉及的自動分析裝置在抑制吞吐量下降，并進一步抑制試樣的測定結(jié)果惡化之上，實現(xiàn)各反應(yīng)容器的反應(yīng)時間的延長。以下針對第2實施方式涉及的自動分析裝置進行說明。另外，在以下說明中，對具有與第1實施方式大致相同功能的構(gòu)成要素，添加同一符號，只在需要時進行重復(fù)說明。首先針對第2實施方式涉及的清洗模式設(shè)定部50執(zhí)行的清洗模式的設(shè)定處理進行說明。圖16為表示通過第2實施方式涉及的清洗模式設(shè)定部50設(shè)定的清洗模式的一個例子的圖。如圖16所示，第2實施方式涉及的清洗模式至少包含一個無清洗動作(OFF)來作為清洗動作。換而言之，清洗模式設(shè)定部50可以對每一清洗位置設(shè)定清洗動作的有無。 例如，清洗模式F在清洗位置a跳過清洗動作(不進行清洗動作)。即，通過清洗模式F，可以使反應(yīng)時間延長1圍繞周期量。另外，清洗模式G在所有清洗位置跳過清洗動作。S卩，通過清洗模式G可以使反應(yīng)時間延長1個分析周期量。另外，在設(shè)定清洗模式G時，在其分析周期內(nèi)，反應(yīng)容器72未被清洗。因此，為了清洗其反應(yīng)容器72還需要對設(shè)定了清洗模式G 的分析周期的下一分析周期的清洗模式進行設(shè)定。另外，清洗動作OFF的清洗位置可以經(jīng)由操作部40任意進行設(shè)定。清洗模式設(shè)定部50按照用戶經(jīng)由操作部40的指示對設(shè)定對象的測定項目的清洗模式進行設(shè)定。并且，清洗模式設(shè)定部50對供設(shè)定對象的測定項目的測定的反應(yīng)容器72設(shè)定所設(shè)定的清洗模式。圖17為表示通過清洗模式設(shè)定部50對反應(yīng)容器72設(shè)定的清洗模式的一個例子的圖。如圖16與圖17所示，對反應(yīng)容器G設(shè)定圖16的清洗模式F。這樣對各反應(yīng)容器72設(shè)定各種清洗模式。其次，針對用于實現(xiàn)反應(yīng)時間的延長的噴嘴115與覆蓋物127的構(gòu)造進行說明。 圖18與圖19為用于說明噴嘴115與覆蓋物127的構(gòu)造的立體圖。如圖18與圖19所示， 覆蓋物127具有貫通孔171。貫通孔171的直徑被設(shè)計為噴嘴115可通過的大小。典型而言，貫通孔171的直徑被設(shè)計為與噴嘴115的直徑大致相同。噴嘴115與覆蓋物127以使彼此軸心173大致一致的方式并以可通過未圖示的支撐機構(gòu)獨立地沿軸心173上下移動的方式被支撐。噴嘴115與覆蓋物127被支撐為軸線173沿鉛直方向。圖20為第2實施方式涉及的自動分析裝置1的清洗系統(tǒng)的功能框圖。如圖20所示，第2實施方式涉及的自動分析裝置1以系統(tǒng)控制部60為中樞，具有顯示部32、操作部 40、清洗模式設(shè)定部50、清洗機構(gòu)控制部181、閥驅(qū)動部143、第1鉛直方向驅(qū)動部183以及第2鉛直方向驅(qū)動部185。另外，針對顯示部32、操作部40、清洗模式設(shè)定部50以及閥驅(qū)動部143，由于已在之前敘述過，因此在此省略說明。清洗機構(gòu)控制部181為分析機構(gòu)控制部12的一部分。清洗機構(gòu)控制部181按照通過清洗模式設(shè)定部50設(shè)定的清洗模式，控制閥驅(qū)動部143、第1鉛直方向驅(qū)動部183以及第2鉛直方向驅(qū)動部185。第1鉛直方向驅(qū)動部183為分析機構(gòu)驅(qū)動部13的一部分。第1 鉛直方向驅(qū)動部183按照清洗機構(gòu)控制部181的控制進行驅(qū)動，與覆蓋物127獨立地沿鉛直方向(軸心17 上下移動噴嘴115。第2鉛直方向驅(qū)動部185為分析機構(gòu)驅(qū)動部13的一部分。第2鉛直方向驅(qū)動部185按照清洗機構(gòu)控制部181的控制進行驅(qū)動，與噴嘴115 獨立地沿鉛直方向(軸心17 上下移動覆蓋物127。其次，針對由清洗機構(gòu)控制部181控制的噴嘴115與覆蓋物127的動作例子進行說明。圖21與圖22與圖23為表示噴嘴115與覆蓋物127的動作例子的圖。圖21示出了待機時的噴嘴115與覆蓋物127與反應(yīng)容器72之間的位置關(guān)系。圖22示出了清洗動作跳過(OFF)時的噴嘴115與覆蓋物127與反應(yīng)容器72之間的位置關(guān)系。圖23為示出了清洗動作時的噴嘴115與覆蓋物127與反應(yīng)容器72之間的位置關(guān)系。如圖21所示，在待機時，噴嘴115與覆蓋物127被配置在初始位置。初始位置為噴嘴115與覆蓋物127兩者在下降前采取的配置。例如，在初始位置處噴嘴115被插入覆蓋物127的貫通孔171的狀態(tài)下通過未圖示的支撐機構(gòu)被支撐。清洗機構(gòu)控制部181確定配置在清洗位置的反應(yīng)容器72的清洗動作。然后，在確定出跳過清洗動作時(清洗動作跳過時)，清洗機構(gòu)控制部181如圖22所示，控制第2鉛直方向驅(qū)動部185，直到通過覆蓋物127堵塞反應(yīng)容器72的開口部為止，使覆蓋物127沿鉛直方向173下降。在清洗動作跳過時，噴嘴115保持不下降而配置在初始位置的狀態(tài)。這樣在清洗動作跳過時，通過覆蓋物127堵塞反應(yīng)時間的延長對象的反應(yīng)容器72的開口部。然后，經(jīng)過一定時間后(例如，反應(yīng)盤71的停止期間結(jié)束時。換而言之，其他清洗位置的清洗動作結(jié)束時)，清洗機構(gòu)控制部181控制第2鉛直方向驅(qū)動部185，使覆蓋物127沿鉛直方向173上升，并使覆蓋物127配置在初始位置。因此，降低清洗水等溶液進入延長對象的反應(yīng)容器72的可能性。另一方面，在確定進行清洗動作時(清洗動作時)，清洗機構(gòu)控制部181如圖23所示，控制第1鉛直方向驅(qū)動部183與第2鉛直方向驅(qū)動部185，使噴嘴115與覆蓋物127沿鉛直方向173下降。具體情況是，與清洗動作跳過時一樣覆蓋物127被下降到堵塞反應(yīng)容器72的開口部為止。噴嘴115被下降到進入反應(yīng)容器72內(nèi)為止。噴嘴115與覆蓋物127 也可以被同時下降，也可以按照各自的定時下降。然后，經(jīng)過一定時間后(例如，反應(yīng)盤71 的停止期間結(jié)束時。換而言之，清洗動作結(jié)束時)，清洗機構(gòu)控制部181控制第1鉛直方向驅(qū)動部183與第2鉛直方向驅(qū)動部185，使噴嘴115與覆蓋物127沿鉛直方向173上升，將噴嘴115與覆蓋物127配置在初始位置。通過上述構(gòu)成，第2實施方式涉及的自動分析裝置1配備可上下移動的覆蓋物 127。自動分析裝置1使用覆蓋物127堵塞反應(yīng)時間的延長對象的反應(yīng)容器72的開口部。 由此，可以明顯降低清洗水等溶液進入反應(yīng)時間的延長對象的反應(yīng)容器72內(nèi)的可能性。另外，自動分析裝置1可通過獨立驅(qū)動機構(gòu)對每一清洗位置單獨設(shè)定清洗動作。因此，無需對配置在多個清洗位置的所有反應(yīng)容器延長反應(yīng)時間，就可對所有反應(yīng)容器中的延長對象的反應(yīng)容器72延長反應(yīng)時間。另外，無需像以往那樣為了延長反應(yīng)時間而降低反應(yīng)盤71的旋轉(zhuǎn)速度，就可在保持旋轉(zhuǎn)速度的狀態(tài)下延長反應(yīng)時間。因此，自動分析裝置1可以在抑制伴隨反應(yīng)時間延長的吞吐量的降低之上，延長各個反應(yīng)容器72的反應(yīng)時間。這樣，第2實施方式涉及的自動分析裝置1可以提高反應(yīng)容器72的清洗效率。另外，在上述第2實施方式中，設(shè)清洗機構(gòu)89具有可通過流路切換閥113切換清洗水的構(gòu)成。然而，第2實施方式并不限定于此。例如，將第2實施方式涉及的清洗機構(gòu)89 如圖13或圖14所示，設(shè)為可通過水平方向支撐機構(gòu)(臂157)切換清洗水的構(gòu)成。另外，第1實施方式與第2實施方式可適當?shù)亟M合。即，在1個旋轉(zhuǎn)周期，可以在某清洗位置進行清洗動作，也可以在某清洗位置跳過清洗動作。(變形例1)在第1以及第2實施方式中，設(shè)覆蓋物127完全堵塞反應(yīng)容器72的開口部。具體情況是，例如，如圖22以及圖23所示，覆蓋物127具有可進入反應(yīng)容器72的開口部的頂端部。通過該頂端部進入開口部來密閉反應(yīng)容器72。多個反應(yīng)容器72被輪換的覆蓋物127 堵塞。在某一反應(yīng)容器72的開口部被污染時，存在經(jīng)由覆蓋物127的頂端部，其他反應(yīng)容器72被污染的情況。以下，針對變形例1涉及的覆蓋物進行說明。另外，在以下說明中，對具有與第1以及第2實施方式大致相同功能的構(gòu)成要素，添加同一符號，只在需要時進行重復(fù)說明。圖M為表示變形例1涉及的覆蓋物201的構(gòu)造的截面圖。如圖M所示，變形例1 涉及的覆蓋物201具有無需進入反應(yīng)容器72內(nèi)就可覆蓋開口部的形狀。例如，覆蓋物201 具有斗笠形狀。覆蓋物201具有用于噴嘴115的貫通孔。覆蓋物201與噴嘴115以使軸心 173相互地大致一致的方式，并以可通過未圖示的支撐機構(gòu)獨立地沿軸心173上下移動的方式被支撐。另外，覆蓋物201如圖25所示，也可以粘著在可在噴嘴115下降時覆蓋反應(yīng)容器 72的開口部的噴嘴115的位置。如上述構(gòu)造那樣，覆蓋物201不具有可進入反應(yīng)容器72的開口部的部分。因此，覆蓋物201與第1以及第2實施方式涉及的覆蓋物127相比，難以污染反應(yīng)容器72。(變形例2)
設(shè)第1以及第2實施方式涉及的覆蓋物具有噴嘴可通過的貫通孔。變形例2涉及的覆蓋物具有噴嘴可通過的間隙來代替貫通孔。以下，針對變形例2涉及的覆蓋物進行說明。另外，在以下說明中，對具有與第1以及第2實施方式大致相同功能的構(gòu)成要素，添加同一符號，只在需要時進行重復(fù)說明。圖沈為表示變形例2涉及的覆蓋物203的構(gòu)造的平面圖。另外，在圖沈中，設(shè)噴嘴115從紙面的靠近自己側(cè)向里側(cè)、或從里側(cè)向靠近自己側(cè)移動。如圖沈所示，覆蓋物203 包含多個覆蓋部分205。例如，覆蓋物203包含兩個覆蓋部分205。多個覆蓋部分205具有噴嘴115可通過多個覆蓋部分205之間的大小的間隙206。覆蓋部分205的數(shù)量也可以是 3個以上。雖然已經(jīng)描述了某些實施例，但是這些實施例只是以示例的方式呈現(xiàn)，并不意圖限制本發(fā)明的范圍，實際上，這里描述的新穎的方法和系統(tǒng)可以以各種其他形式實施；此外，可以在偏離本發(fā)明的精神的情況下，進行這里描述的方法和系統(tǒng)的形式方面的各種省略、替換和改變。所附的權(quán)利要求及其等同物旨在覆蓋這些形式和改變，只要這些形式或改變落在本發(fā)明的范圍和精神之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種自動分析裝置，包括反應(yīng)盤，能夠保持容納有試樣與試劑的反應(yīng)容器； 清洗機構(gòu)，使用噴嘴清洗上述反應(yīng)容器；以及覆蓋物，被設(shè)置成能夠沿上述噴嘴的軸移動，用于覆蓋上述反應(yīng)容器的開口部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自動分析裝置，其特征在于上述覆蓋物在能夠在上述噴嘴下降時覆蓋上述反應(yīng)容器的開口部的位置被粘著在上述噴嘴上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自動分析裝置，其特征在于上述覆蓋物被設(shè)置成能夠與上述噴嘴獨立地沿上述軸移動。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的自動分析裝置，其特征在于，還包括 設(shè)定部，設(shè)定是否使上述反應(yīng)容器延長反應(yīng)時間；以及控制部，在通過上述設(shè)定部設(shè)定為延長時，為了通過上述覆蓋物堵塞上述開口部而使上述覆蓋物沿上述軸下降，在通過上述設(shè)定部設(shè)定為不延長時，為了通過上述覆蓋物堵塞上述開口部且使上述噴嘴的包含頂端的一部分進入上述反應(yīng)容器內(nèi)，而使上述覆蓋物與上述噴嘴沿上述軸下降。
5.一種自動分析裝置，包括反應(yīng)盤，保持容納有試樣與試劑的多個反應(yīng)容器； 清洗機構(gòu)，使用多個噴嘴清洗上述多個反應(yīng)容器；設(shè)定部，針對上述試樣的多個測定項目的各個，對上述多個反應(yīng)容器中的供上述測定項目的測定的特定的反應(yīng)容器設(shè)定清洗模式，該清洗模式至少包含清洗水的種類、使用順序以及使用次數(shù)中的一個；以及控制部，為了按照上述設(shè)定的清洗模式清洗上述特定的反應(yīng)容器，控制上述清洗機構(gòu)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的自動分析裝置，其特征在于 上述清洗機構(gòu)包括第1噴嘴支撐機構(gòu)，以能夠鉛直移動的方式支撐設(shè)置在上述反應(yīng)盤上的清洗位置的上述多個噴嘴；以及第2噴嘴支撐機構(gòu)，以能夠水平移動的方式支撐上述多個噴嘴， 上述控制部按照上述設(shè)定的清洗模式，使上述第1噴嘴支撐機構(gòu)與上述第2噴嘴支撐機構(gòu)動作。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的自動分析裝置，其特征在于 上述清洗機構(gòu)還包括多個清洗水容器，儲存用于清洗上述多個反應(yīng)容器的多種清洗水；以及多個流路，分別連接上述多個噴嘴與上述多個清洗水容器，上述控制部使上述第2噴嘴支撐機構(gòu)動作，以使得在上述清洗位置配置上述多個噴嘴中的上述設(shè)定的種類的清洗水用的噴嘴。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的自動分析裝置，其特征在于 上述多種清洗水為水、堿性洗液、酸性洗液。
全文摘要
本發(fā)明提供一種自動分析裝置。提高反應(yīng)容器的清洗效率。本實施方式涉及的自動分析裝置具有反應(yīng)盤、清洗機構(gòu)以及覆蓋物。反應(yīng)盤被構(gòu)成為能夠保持容納有試樣與試劑的反應(yīng)容器。清洗機構(gòu)使用噴嘴清洗上述反應(yīng)容器。覆蓋物設(shè)置成能沿上述噴嘴的軸移動，并構(gòu)成為覆蓋上述反應(yīng)容器的開口部。
文檔編號G01N35/00GK102236024SQ20111008212
公開日2011年11月9日 申請日期2011年4月1日 優(yōu)先權(quán)日2010年4月1日
發(fā)明者金山省一 申請人:東芝醫(yī)療系統(tǒng)株式會社, 株式會社東芝