專利名稱：形狀測量裝置及形狀測量方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及像MOCVD裝置等那樣的在將放置于進(jìn)行旋轉(zhuǎn)或行星旋轉(zhuǎn)的移動(dòng)平臺上的基板等被測定物放置于移動(dòng)平臺的狀態(tài)下、對被測定物的形狀進(jìn)行測量的裝置、以及方法。
背景技術(shù)：
對于半導(dǎo)體激光元件、LED(發(fā)光二極管Light Emitting Diode)元件等化合物半導(dǎo)體的晶體成長，一般使用MOCVD裝置(有機(jī)金屬化學(xué)氣相沉積法Metal Organic Chemical Vapor D印osition)。由于MOCVD裝置的生產(chǎn)效率高、易于維護(hù)，因此，適用于對元件進(jìn)行工業(yè)性量產(chǎn)的情況。圖10表示MOCVD裝置的一個(gè)例子。在該MOCVD裝置100中，在反應(yīng)室2的內(nèi)部， 設(shè)置于旋轉(zhuǎn)臺4的上表面的多個(gè)放置盤5上載放有多塊(本例子中為6塊)基板3。圖11示出了表示MOCVD裝置100的托架與基板之間的關(guān)系的俯視圖。旋轉(zhuǎn)臺4 被支承于轉(zhuǎn)軸6的上端，利用電動(dòng)機(jī)7使轉(zhuǎn)軸6進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。另外，設(shè)置于旋轉(zhuǎn)臺4的上表面的多個(gè)放置盤5具有能分別進(jìn)行自轉(zhuǎn)的結(jié)構(gòu)。在晶體成長的過程中，利用這些結(jié)構(gòu)使基板 3進(jìn)行自轉(zhuǎn)和公轉(zhuǎn)，從而能提高進(jìn)行成長的膜的均勻性。此外，利用設(shè)置于旋轉(zhuǎn)臺4的下方的加熱器8對基板3進(jìn)行加熱。在旋轉(zhuǎn)臺4的上方，設(shè)置有對反應(yīng)室2內(nèi)部的空間進(jìn)行分隔的、大致水平(平行)的隔斷墻10。在反應(yīng)室 2的上部，連接有導(dǎo)管9，該導(dǎo)管9的前端配置于旋轉(zhuǎn)臺4與隔斷墻10之間，形成為氣體噴出口 11。由此，從旋轉(zhuǎn)臺4的轉(zhuǎn)軸的上方沿旋轉(zhuǎn)臺4表面呈輻射狀地提供原料氣體12，以作為結(jié)晶膜的原料。導(dǎo)管9的另一端與氣體提供器13相連接。該原料氣體12通過載放于放置盤5上且被加熱器8所加熱的基板3的上方之后，經(jīng)由設(shè)置于旋轉(zhuǎn)臺4外圍的排氣路徑14而被排放。其結(jié)果是，在基板3的上方的附近發(fā)生所期望的化學(xué)反應(yīng)，從而能在基板 3上進(jìn)行所期望的晶體成長。然而，在加熱基板3或使基板3的表面長出結(jié)晶膜時(shí)，有時(shí)基板3會(huì)因其各種條件而發(fā)生彎曲。特別是對于以GaN類化合物半導(dǎo)體為中心的第3族氮化物的成膜，基板3尤其容易發(fā)生彎曲。圖12是對MOCVD裝置100中的晶體成長中所發(fā)生的基板3的彎曲的發(fā)生機(jī)理進(jìn)行說明的圖?？芍嬖谝韵虑闆r(專利文獻(xiàn)1)即，如圖12的“a”所示，由于來自加熱器8的熱能15的傳導(dǎo)，基板3的加熱器8 一側(cè)的面與接觸原料氣體12的面之間的溫度差會(huì)導(dǎo)致基板3如圖12的“b”所示那樣發(fā)生彎曲。因而，如何減小基板3的彎曲成為重要的問題。因此，需要迅速獲知成膜中的基板3的狀態(tài)。作為基板3的彎曲的測定方法，已知一般有利用激光位移計(jì)的三角測量。然而，在圖10所示的MOCVD裝置100那樣的成膜裝置內(nèi)，在使用利用激光位移計(jì)的三角測量的情況下，受到由基板溫度所產(chǎn)生的輻射的影響，難以分離激光和輻射光。因此，有時(shí)會(huì)無法測定基板3的彎曲。另外，在使用了激光光線的三角測量中，由于激光光線的前進(jìn)光路與回光路不同，因此，需要在反應(yīng)室2上設(shè)置使兩者都能通過的較大的窗口。而且，在具有隔斷墻10的MOCVD裝置100的情況下，需要在隔斷墻10上設(shè)置使前進(jìn)光路和回光路的激光光線都能通過的較大的孔。其結(jié)果是，由于會(huì)擾亂原料氣體15的氣流，因此，無法在MOCVD裝置100
中使用三角測量。另外，作為測量晶體成長中所產(chǎn)生的基板彎曲的其他有效的方法，還有使用激光多普勒速度計(jì)的方法。該速度計(jì)對基板照射激光光線，利用多普勒效應(yīng)來測量速度，并通過對速度進(jìn)行積分來計(jì)算出位移量。作為該方法的優(yōu)點(diǎn)如下由于測量用激光光線的前進(jìn)光路與回光路基本相同，因此，能減小設(shè)置于反應(yīng)室2的窗口的大??；另外，由于以頻率偏移而非光強(qiáng)度來作為測量對象，因此，不容易受到由基板溫度所產(chǎn)生的輻射的影響。然而，在使用激光多普勒速度計(jì)的方法中，激光輸出和激光受光部等會(huì)隨著使用環(huán)境的變化和時(shí)間的經(jīng)過而發(fā)生變化。因此，即使在對靜止的被測定物進(jìn)行測定的情況下， 速度也不會(huì)變?yōu)?。圖13是利用激光多普勒速度計(jì)對靜止物體進(jìn)行100秒的測定后所獲得的圖表，縱軸為速度。由圖13所示可知，隨著時(shí)間的經(jīng)過，偏移值發(fā)生變化。若像這樣對偏移值不為0的值進(jìn)行速度積分，則存在加上偏移值部分后無法測定基板的彎曲的情況。通常，為了將該偏移值設(shè)為0而設(shè)定高通濾波器，但在被測定物的移動(dòng)速度和工作頻率極低的情況下，設(shè)定高通濾波器會(huì)導(dǎo)致連要測定的速度也被去除的情況。 在MOCVD裝置100的情況下，為了去除溫度不均勻而使基板3旋轉(zhuǎn)，但由于該轉(zhuǎn)速一般較低，而且基板的彎曲變化(彎曲量)為幾μπι 幾十μ m，因此，難以設(shè)定高通濾波器。另外，在專利文獻(xiàn)2中，記載有提高測定物的測定精度的方法。在該方法中，假設(shè)旋轉(zhuǎn)體旋轉(zhuǎn)了一周時(shí)的轉(zhuǎn)軸和光軸的位置偏移所引起的速度變化恒定，從某個(gè)測定點(diǎn)上旋轉(zhuǎn)一周的過程中所產(chǎn)生的位移的變化量中減去因轉(zhuǎn)軸和光軸的位置偏移而單調(diào)增加的位移量，從而求出測定物的真正的位移。然而，在MOCVD裝置內(nèi)，基板的位移會(huì)因膜的堆積而隨著時(shí)間的經(jīng)過、即轉(zhuǎn)速的增加而變大。另外，基板彎曲的位移量和方向會(huì)因成膜溫度和材料的不同而不同。因此，在這種情況下，基板在旋轉(zhuǎn)了一周時(shí)的真正的位移的積分值不為0。 在專利文獻(xiàn)2所記載的技術(shù)中，在以基板旋轉(zhuǎn)了一周時(shí)的位移的積分值成為0為前提的基礎(chǔ)上，可以將從某個(gè)時(shí)刻的位移中減去一個(gè)旋轉(zhuǎn)周期前的位移而得的值看成是表示由轉(zhuǎn)軸的偏移和散射光所引起的外觀上的位移。因此，即使在測定MOCVD裝置內(nèi)的基板的彎曲時(shí)應(yīng)用專利文獻(xiàn)2的方法，也無法只分離出實(shí)際的基板彎曲所引起的速度變化，從而精度有可能會(huì)變差。另外，在因移動(dòng)平臺的傾斜和振動(dòng)而產(chǎn)生的位移量比因作為被測定物的基板的彎曲而獲得的位移量要大的情況下，測定的是移動(dòng)平臺的傾斜，而無法對基板的彎曲進(jìn)行測定。專利文獻(xiàn)1 日本公開專利公報(bào)“特開2005-72561號公報(bào)(2005年3月17日公開)”專利文獻(xiàn)2 日本公開專利公報(bào)“特開2005-69916號公報(bào)(2005年3月17日公開)”

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的問題在于，在對MOCVD裝置的基板等放置于移動(dòng)平臺上的被測定物的形狀進(jìn)行測定的情況下因在速度測量裝置的使用狀態(tài)下不同的偏移值的影響而導(dǎo)致測定精度下降；因?qū)⒍鄠€(gè)被測定物配置于旋轉(zhuǎn)臺的裝置而導(dǎo)致測定精度下降；以及因旋
5轉(zhuǎn)臺的振動(dòng)和轉(zhuǎn)軸的傾斜等而導(dǎo)致測定精度下降。本發(fā)明是鑒于上述問題而完成的，其目的在于，提供一種測定精度較高的形狀測量裝置及形狀測量方法。為了解決上述問題，本發(fā)明的形狀測量裝置包括利用多普勒效應(yīng)的速度測量單元、檢測被測定物的位置的被測定物檢測單元、以及對被測定物的形狀進(jìn)行運(yùn)算的運(yùn)算處理單元，其特征在于，所述運(yùn)算處理單元包括被測定物速度提取單元，該被測定物速度提取單元對從所述速度測量單元和所述被測定物檢測單元輸出的信號進(jìn)行算術(shù)處理，從而計(jì)算出被測定物的速度；速度平均計(jì)算單元，該速度平均計(jì)算單元利用所述被測定物速度提取單元所輸出的至少一部分信號，來計(jì)算出被測定物的速度平均值；減法單元，該減法單元從所述被測定物速度提取單元所計(jì)算出的速度中減去所述速度平均值；以及積分單元，該積分單元對所述減法單元所獲得的速度進(jìn)行時(shí)間積分。利用該特征，根據(jù)本發(fā)明的形狀測量裝置，由于被測定物檢測單元對被測定物位于速度測量單元的激光照射位置的情況進(jìn)行檢測，因此，能正確地檢測被測定物的位置，并且在運(yùn)算處理單元內(nèi)，被測定物速度提取單元能只計(jì)算出被測定物的速度。由此，由于在根據(jù)被測定物的至少一部分的速度數(shù)據(jù)來計(jì)算出速度平均值、并從被測定物的速度數(shù)據(jù)中去除速度平均值部分之后，再對速度進(jìn)行時(shí)間積分以計(jì)算出位移，因此，能去除被測定物的傾斜和速度測量單元的偏移值的影響，從而提高測定精度。另外，為了解決上述問題，本發(fā)明的其他形狀測量裝置包括· 利用多普勒效應(yīng)的速度測量單元、檢測被測定物的位置的被測定物檢測單元、以及對被測定物的形狀進(jìn)行運(yùn)算的運(yùn)算處理單元，其特征在于，所述運(yùn)算處理單元包括被測定物速度提取單元，該被測定物速度提取單元對從所述速度測量單元和所述被測定物檢測單元輸出的信號進(jìn)行算術(shù)處理，從而計(jì)算出被測定物的速度；微分運(yùn)算單元，該微分運(yùn)算單元對由所述被測定物速度提取單元所獲得的數(shù)據(jù)進(jìn)行時(shí)間微分；以及累計(jì)單元，該累計(jì)單元對從所述微分運(yùn)算單元所獲得的數(shù)據(jù)進(jìn)行兩次時(shí)間積分。由于利用該特征，能去除被測定物的傾斜和速度測量單元的偏移值的影響，能在獲得速度數(shù)據(jù)的時(shí)刻立即計(jì)算出位移量，因此，能實(shí)時(shí)地獲得測量精度優(yōu)良的數(shù)據(jù)。另外，為了解決上述問題，本發(fā)明的形狀測量方法是具有利用多普勒效應(yīng)的速度的測量處理、檢測被測定物的位置的被測定物的檢測處理、以及對被測定物的形狀進(jìn)行運(yùn)算的運(yùn)算處理的形狀測量方法，其特征在于，所述運(yùn)算處理包括被測定物速度的提取處理，該被測定物速度的提取處理對由所述速度的測量處理和所述被測定物的檢測處理所輸出的信號進(jìn)行算術(shù)處理，從而計(jì)算出被測定物的速度；速度平均的計(jì)算處理，該速度平均的計(jì)算處理利用由所述被測定物速度的提取處理所輸出的信號的至少一部分，來計(jì)算出被測定物的速度平均值；減法處理，該減法處理從由所述被測定物速度的提取處理所計(jì)算出的速度中減去作為所述速度平均的計(jì)算處理的輸出的速度平均值；以及積分處理，該積分處理對由所述減法處理所獲得的速度進(jìn)行時(shí)間積分。利用該特征，由于在根據(jù)被測定物的速度數(shù)據(jù)來計(jì)算出速度平均值、并從被測定物的速度數(shù)據(jù)中去除速度平均值部分之后，再對速度進(jìn)行積分，因此，能去除被測定物的傾斜和速度測量時(shí)的偏移值的影響，從而提高測定精度。另外，本發(fā)明的形狀測量方法是具有利用多普勒效應(yīng)的速度的測量處理、檢測所述被測定物的位置的被測定物的檢測處理、以及對被測定物的形狀進(jìn)行運(yùn)算的運(yùn)算處理的形狀測定方法，其特征在于，所述運(yùn)算處理包括被測定物速度的提取處理，該被測定物速度的提取處理對由所述速度的測量處理和所述被測定物的檢測處理所輸出的信號進(jìn)行算術(shù)處理，從而提取出被測定物的速度；微分運(yùn)算處理，該微分運(yùn)算處理對由所述被測定物速度的提取處理所獲得的數(shù)據(jù)進(jìn)行時(shí)間微分；以及累計(jì)處理，該累計(jì)處理對從所述微分運(yùn)算處理所獲得的數(shù)據(jù)進(jìn)行兩次時(shí)間積分。利用該特征，由于運(yùn)算處理單元根據(jù)利用提取出被測定物的速度的被測定物速度的提取而獲得的速度數(shù)據(jù)，利用微分運(yùn)算來計(jì)算出被測定物的加速度，并對其進(jìn)行二次積分，因此，能去除被測定物的傾斜和速度測量時(shí)的偏移值的影響，能在可獲得速度數(shù)據(jù)的時(shí)刻立即計(jì)算出位移量，因而，能實(shí)時(shí)地獲得測定精度優(yōu)良的數(shù)據(jù)。根據(jù)本發(fā)明的形狀測量裝置，由于被測定物檢測單元對被測定物位于速度測量單元的激光照射位置的情況進(jìn)行檢測，因此，能正確地檢測被測定物的位置，并且在運(yùn)算處理單元內(nèi)，被測定物速度提取單元能只計(jì)算出被測定物的速度。由此，由于在根據(jù)被測定物的至少一部分的速度數(shù)據(jù)來計(jì)算出速度平均值、并從被測定物的速度數(shù)據(jù)中去除速度平均值部分之后，再對速度進(jìn)行時(shí)間積分以計(jì)算出位移，因此，能去除被測定物的傾斜和速度測量單元的偏移值的影響，從而起到提高測定精度的效果。另外，根據(jù)本發(fā)明的其他形狀測量裝置，由于在根據(jù)被測定物的速度數(shù)據(jù)來計(jì)算出速度平均值、并從被測定物的速度數(shù)據(jù)中去除速度平均值部分之后，再對速度進(jìn)行積分， 因此，能去除被測定物的傾斜和速度測量時(shí)的偏移值的影響，從而起到提高測定精度的效^ ο本發(fā)明的其他目的、特征及優(yōu)點(diǎn)根據(jù)如下所示的記載應(yīng)該可以充分了解。此外，本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)從參照附圖的以下說明中應(yīng)該可以明白。


圖1是實(shí)施方式1所涉及的MOCVD裝置(形狀測量裝置)的概念圖。圖2是表示實(shí)施方式1所涉及的MOCVD裝置所使用的放置盤(托架)與基板之間的關(guān)系的俯視圖。圖3是對實(shí)施方式1所涉及的MOCVD裝置的數(shù)據(jù)處理的流程進(jìn)行說明的圖。圖4是表示在旋轉(zhuǎn)臺(移動(dòng)平臺)的轉(zhuǎn)軸存在傾斜和偏移的情況下的速度測定結(jié)果、以及對該速度進(jìn)行積分時(shí)的位移的圖表。圖5是對實(shí)施方式2所涉及的MOCVD裝置(形狀測量裝置)的數(shù)據(jù)處理的流程進(jìn)行說明的圖。圖6是表示在旋轉(zhuǎn)臺(移動(dòng)平臺)的轉(zhuǎn)軸存在傾斜和偏移的情況下的速度測定結(jié)果、以及對該速度進(jìn)行微分時(shí)的加速度的圖表。圖7是對實(shí)施方式3所涉及的MOCVD裝置(形狀測量裝置)的數(shù)據(jù)處理的流程進(jìn)行說明的圖。圖8是表示旋轉(zhuǎn)臺(移動(dòng)平臺)存在振動(dòng)的情況下的位移測定結(jié)果、以及經(jīng)平滑化處理后的結(jié)果的圖表。圖9是對在旋轉(zhuǎn)臺(移動(dòng)平臺)存在振動(dòng)的情況下、根據(jù)基板的位移測定結(jié)果來求出彎曲量的情況進(jìn)行說明的圖表。圖10是基于現(xiàn)有技術(shù)的MOCVD裝置的例子的概念圖。圖11是對在基于現(xiàn)有技術(shù)的MOCVD裝置的例子中的旋轉(zhuǎn)臺上設(shè)置有基板的狀態(tài)進(jìn)行說明的圖。圖12是對基于現(xiàn)有技術(shù)的MOCVD裝置中的晶體成長中所發(fā)生的基板的彎曲的發(fā)生機(jī)理進(jìn)行說明的圖。圖13是在不使用高通濾波器而對靜止物體進(jìn)行測定的情況下激光多普勒速度計(jì)的速度輸出結(jié)果的例子。
具體實(shí)施例方式(實(shí)施方式1)參照圖1 圖2，對作為本發(fā)明的形狀測量裝置而應(yīng)用于設(shè)置有被測定物檢測單元和速度測量單元的MOCVD裝置的情況的實(shí)施方式1進(jìn)行說明，所述被測定物檢測單元裝有旋轉(zhuǎn)角度測量器，所述速度測量單元使用了由激光光線所產(chǎn)生的多普勒效應(yīng)的原理。圖1 是表示實(shí)施方式1所涉及的MOCVD裝置(形狀測量裝置)1的結(jié)構(gòu)的概念圖。圖2是表示 MOCVD裝置1所使用的放置盤5 (托架)與基板3(被測定物)之間的關(guān)系的俯視圖。如圖1所示，該MOCVD裝置1具有圓筒形的反應(yīng)室2，反應(yīng)室2的內(nèi)部具備旋轉(zhuǎn)臺 4。在旋轉(zhuǎn)臺4的上側(cè)，在特定的半徑位置上以一定間隔配置有多個(gè)放置盤5。在放置盤5 的上面，設(shè)置有作為被處理基板的基板3。根據(jù)裝置的不同，也存在不將基板3直接放置于放置盤5的上面，而使用石英或氮化硼等制成的基板托架的情況。作為基板3，例如由GaAs、 InP、GaN、或青玉所形成。旋轉(zhuǎn)臺4的下側(cè)配置有作為加熱單元的加熱器8。旋轉(zhuǎn)臺4的下側(cè)連通與旋轉(zhuǎn)臺4相連接的轉(zhuǎn)軸6。轉(zhuǎn)軸6的下端設(shè)置有電動(dòng)機(jī)7。即，旋轉(zhuǎn)臺4被與旋轉(zhuǎn)臺4的下面的中央部相連接的轉(zhuǎn)軸6所支承。由此，轉(zhuǎn)軸6因電動(dòng)機(jī)7而進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，從而旋轉(zhuǎn)臺4也進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。即，旋轉(zhuǎn)臺4以轉(zhuǎn)軸6為中心進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。此外，各放置盤5具有可自轉(zhuǎn)的結(jié)構(gòu)。由此，在晶體成長中，基板3因旋轉(zhuǎn)臺4的旋轉(zhuǎn)和放置盤5的自轉(zhuǎn)而發(fā)生自轉(zhuǎn)和公轉(zhuǎn)。因而，能提高進(jìn)行成長的膜(結(jié)晶成長膜)的均勻性。在電動(dòng)機(jī)7上，配置有裝有旋轉(zhuǎn)角度測量器的被測定物檢測單元25。在旋轉(zhuǎn)臺4 的上方，設(shè)置有透氣性較低的、對反應(yīng)室2內(nèi)部的空間進(jìn)行分隔的、大致水平(平行)的隔斷墻10。在反應(yīng)室2的上部，連接有導(dǎo)管9，該導(dǎo)管9的前端配置于旋轉(zhuǎn)臺4與隔斷墻10 之間，形成為氣體噴出口 11。由此，從旋轉(zhuǎn)臺4的轉(zhuǎn)軸上方沿旋轉(zhuǎn)臺4表面呈輻射狀地提供原料氣體12，以作為結(jié)晶膜的原料。導(dǎo)管9的另一端與氣體提供器13相連接。該原料氣體 12通過載放于放置盤5上且被加熱器8所加熱的基板3上之后，經(jīng)由設(shè)置于旋轉(zhuǎn)臺4外圍的排氣路徑14而被排放。其結(jié)果是，在基板3上方附近發(fā)生所期望的化學(xué)反應(yīng)，從而能在基板3上進(jìn)行所期望的晶體成長。反應(yīng)室2的外部安裝有使用了由激光光線所產(chǎn)生的多普勒效應(yīng)的原理的速度測量單元21。配置速度測量單元21，使得速度測量單元21所照射的測量用激光光線17能到達(dá)反應(yīng)室2內(nèi)部的基板3，且回光22能返回速度測量單元21。因此，在反應(yīng)室2上，設(shè)有使測量用激光光線17及其回光22都能通過的窗口 18。另外，在隔斷墻10上，也同樣設(shè)有使測量用激光光線17及其回光22都能通過的孔19。
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圖2表示對旋轉(zhuǎn)臺4進(jìn)行俯視所看到的部位。如圖2所示，在旋轉(zhuǎn)臺4上，分別夾著放置盤5之間的間隙Sp而在一定的圓周上排列有多塊基板3。若使放置有該多塊基板3 的旋轉(zhuǎn)臺4旋轉(zhuǎn)，則該基板3的中心23會(huì)沿軌跡Lp前進(jìn)。將速度測量單元21的測量用激光光線17配置成照射于軌跡Lp上的一點(diǎn)。其結(jié)果是，若使旋轉(zhuǎn)臺4旋轉(zhuǎn)，則測量用激光光線17沿軌跡Lp依次對多塊基板3 進(jìn)行照射，從而能利用速度測量單元21來依次測量多塊基板3的與各自的面垂直的方向上的速度。將所測得的數(shù)據(jù)輸出至運(yùn)算處理單元對。接著，基于圖3，對數(shù)據(jù)處理的方法進(jìn)行說明。圖3是對MOCVD裝置的數(shù)據(jù)處理的流程進(jìn)行說明的圖，是表示運(yùn)算處理單元M內(nèi)部的處理的圖。被測定物檢測單元25在初始設(shè)定時(shí)將旋轉(zhuǎn)角度測量器的旋轉(zhuǎn)角度設(shè)定為0，記錄下基板3的位置及來自速度測量單元21的激光的照射位置，將旋轉(zhuǎn)角度信息和旋轉(zhuǎn)角度為0時(shí)的基板的位置輸出至運(yùn)算處理單元M，并基于速度測量單元21的激光照射位置，將一塊基板(被測定物)位于激光照射位置的情況輸出至運(yùn)算處理單元24。運(yùn)算處理單元M由被測定物速度提取單元Ma、速度平均計(jì)算單元Mb、減法單元 24c,以及累計(jì)單元24d構(gòu)成。在將速度測量單元21的輸出值和被測定物檢測單元25的輸出值送至運(yùn)算處理單元M之后，在運(yùn)算處理單元M中，被測定物速度提取單元2 從被測定物檢測單元25的輸出值中提取出基板3的速度，并將速度數(shù)據(jù)送至減法單元2 和速度平均計(jì)算單元Mb。速度平均計(jì)算單元24b計(jì)算出一塊基板3通過激光照射位置時(shí)的速度平均值。減法單元2 從被測定物(基板幻的各個(gè)速度值中減去速度平均計(jì)算單元Mb 所計(jì)算出的速度平均值，并將其輸出至累計(jì)單元Md。這里，利用圖4，對從基板3的各個(gè)速度的值中減去速度平均值、從而能只提取出因基板的彎曲而引起的速度變化的理由進(jìn)行說明。圖4是表示旋轉(zhuǎn)臺4(移動(dòng)平臺)的轉(zhuǎn)軸6存在傾斜和偏移的情況下的速度測定結(jié)果的圖表(圖4-A的圖表)、以及表示對該速度進(jìn)行積分時(shí)的位移的圖表(圖4-B的圖表)。圖4-A的圖表表示用速度測量單元21來測定一塊基板3時(shí)的輸出值的時(shí)間變化。若將與基板3的面(成膜面)垂直的向上的方向設(shè)為正，則在基板3例如向下凸出的情況下，因基板3的彎曲而產(chǎn)生的速度作為從“負(fù)”通過作為向下凸出的底部的“零”，而如圖所示那樣向“正”變化。圖4-A的圖表中的縱軸為速度輸出值，橫軸為時(shí)間。若將輸出值設(shè)為V，將例如在彎曲為向下凸出的情況下、從作為被測定物的基板3的彎曲的底部到基板的端部為止的速度變化設(shè)為Vk，將速度測量單元21的偏移值設(shè)為Vo，將因旋轉(zhuǎn)臺4的轉(zhuǎn)軸6的傾斜而引起的速度變化設(shè)為Vs，則從速度測量單元21輸出的數(shù)據(jù)如圖4-A的圖表那樣，可用以下的式子來表示。V = Vk+Vo+Vs如圖13所示，若用激光多普勒速度計(jì)來測定靜止物體，則偏移值會(huì)隨時(shí)間而變化。在這種情況下，若對偏移值不為0的值進(jìn)行速度積分，則會(huì)加上偏移值部分。然而，即使偏移值隨時(shí)間而變化，但在一塊基板3通過激光的較短的期間內(nèi)，可以看成偏移值不發(fā)生變化而為恒定。在圖13的例子中，雖然是測定了 100秒的例子，但在本實(shí)施方式的情況下，基板3通過激光的時(shí)間是0. 6秒左右。因此，根據(jù)圖13可以確認(rèn)，在0. 6秒內(nèi)，偏移值是恒定的。另外，由于旋轉(zhuǎn)臺4的大小是基板3的幾倍，因此，在基板3通過激光的較短的期間內(nèi)，因轉(zhuǎn)軸6的傾斜而產(chǎn)生的速度也可以看成是恒定的。若直接對該速度數(shù)據(jù)V進(jìn)行積分，則呈圖4-B的圖表中的L-I那樣的右側(cè)抬起的曲線。這通常是由于因轉(zhuǎn)軸6的傾斜等而產(chǎn)生的位移比因基板3的彎曲而產(chǎn)生的位移要大，因此，若將通過對彎曲所引起的速度變化進(jìn)行積分而獲得的位移L-2、與通過對轉(zhuǎn)軸6的傾斜等所引起的速度變化進(jìn)行積分而獲得的位移進(jìn)行組合，則會(huì)填入L-2而成為L-I那樣的曲線，從而無法測定實(shí)際的基板的彎曲。然而，若將V的平均值設(shè)為Vave，則Vave = Vo+Vs從而能用Vk = V-Vave來進(jìn)行計(jì)算。這里“= ”表示“約等于(—)”。由此，求出基板3通過激光照射位置時(shí)的速度數(shù)據(jù)V的平均值，從各速度值中減去平均值，從而能只提取出由基板3的彎曲所引起的速度變化。如上所述那樣只提取出因基板3的彎曲而產(chǎn)生的速度分量，以獲得速度，累計(jì)單元Md基于所獲得的速度，對其進(jìn)行時(shí)間積分，并將其輸出至記錄單元。將記錄于記錄單元的時(shí)間積分值作為位置信息，從而能掌握基板3的形狀。然而，在上述說明中，對被測定物檢測單元25使用旋轉(zhuǎn)角度測量器，但并不局限于此。例如，也可以使用對基板3做標(biāo)記并測量該標(biāo)記的方法、或提取出基板3的圖像的方法等其他方法。(實(shí)施方式2)接著，基于圖5，對實(shí)施方式2進(jìn)行說明。圖5是對實(shí)施方式2所涉及的MOCVD裝置(形狀測量裝置)的數(shù)據(jù)處理的流程進(jìn)行說明的圖，是表示運(yùn)算處理單元24A內(nèi)部的處理的圖。在實(shí)施方式2中，運(yùn)算處理單元24A由被測定物速度提取單元Ma、微分運(yùn)算單元 Me、累計(jì)單元(速度計(jì)算)24f、以及累計(jì)單元(位移計(jì)算)24g構(gòu)成。與實(shí)施方式1相同，將速度測量單元21的輸出值和被測定物檢測單元25的輸出值送至運(yùn)算處理單元24A。在運(yùn)算處理單元24A中，被測定物速度提取單元2 從速度測量單元21和被測定物檢測單元25的輸出值提取出基板3的速度。然后，微分運(yùn)算單元Me 對被測定物速度提取單元2 所提取出的所述速度數(shù)據(jù)進(jìn)行微分，以計(jì)算出基板3的加速度。微分運(yùn)算單元2 將所獲得的基板3的加速度輸出至累計(jì)單元Mf。累計(jì)單元24f對所輸出的基板3的加速度進(jìn)行時(shí)間積分以計(jì)算出速度(基板速度)，并將其輸出至累計(jì)單元 24go累計(jì)單元24g對所計(jì)算出的基板速度進(jìn)行時(shí)間積分，以計(jì)算出位移。利用圖6，對以下情況進(jìn)行說明即，對被測定物速度提取單元2 所提取出的速度數(shù)據(jù)進(jìn)行微分，從而能只提取出因基板3的彎曲而產(chǎn)生的速度變化。圖6是表示旋轉(zhuǎn)臺 4(移動(dòng)平臺)的轉(zhuǎn)軸6存在傾斜和偏移的情況下的速度測定結(jié)果的圖表(圖4-A的圖表)、 以及表示對該速度進(jìn)行微分時(shí)的加速度的圖表(圖4-B的圖表)。在圖6-A的圖表中，雖然使用與圖4-A的圖表相同的圖，但如與圖4-A的圖表相關(guān)的說明所述那樣，將因偏移值和轉(zhuǎn)軸6的傾斜而產(chǎn)生的速度看成是恒定的。因此，若對圖6-A的圖表進(jìn)行微分，則如圖6-B的圖表中的L-4那樣，偏移值和轉(zhuǎn)軸6的傾斜程度的加速度成為0。S卩，如圖6-B的圖表中的 L-3那樣，由于只有由具有速度變化的基板3的彎曲所引起的變化作為加速度而殘留下來， 因此，能只提取出由基板3的彎曲所引起的速度變化。
像這樣利用微分運(yùn)算單元Me，累計(jì)單元Mf基于只提取出基板3的彎曲程度而獲得的加速度數(shù)據(jù)，來對其進(jìn)行時(shí)間積分，以將其轉(zhuǎn)換成速度(基板速度)。此外，用累計(jì)單元24g對基板速度進(jìn)行時(shí)間積分，以將其轉(zhuǎn)換成位移，并將其輸出至記錄單元。由此，將記錄于記錄單元的位移作為位置信息，從而能掌握基板3的形狀。(實(shí)施方式3)接著，利用圖7 9，對實(shí)施方式3進(jìn)行說明。圖7是對實(shí)施方式3所涉及的MOCVD 裝置(形狀測量裝置)的數(shù)據(jù)處理的流程進(jìn)行說明的圖。本實(shí)施方式的MOCVD裝置包括實(shí)施方式1或2所記載的運(yùn)算處理單元M或24A、 以及第二運(yùn)算處理單元26。第二運(yùn)算處理單元沈包括平滑化處理單元^a、坐標(biāo)提取單元 ^b、線性公式轉(zhuǎn)換單元^c、位移計(jì)算單元^cU以及彎曲計(jì)算單元^e。若用與實(shí)施方式1、2相同的運(yùn)算處理單元M或24A獲取位移值，則本實(shí)施方式的MOCVD裝置暫時(shí)將該位移值輸出至記錄單元。第二運(yùn)算處理單元沈的平滑化處理單元 26a根據(jù)暫時(shí)記錄于記錄單元的位移值與時(shí)間之間的關(guān)系，利用最小2乘法，將一塊基板程度的位移變化轉(zhuǎn)換成經(jīng)平滑化后的數(shù)據(jù)。圖8是表示旋轉(zhuǎn)臺4(移動(dòng)平臺)存在振動(dòng)的情況下的位移測定結(jié)果(位移值)的曲線(L-5的曲線)、以及將表示該位移值進(jìn)行平滑化處理而得的結(jié)果的曲線(L-6的曲線)。例如，若使從記錄單元讀取的數(shù)據(jù)成為圖8的L-5那樣的狀態(tài)，則在假設(shè)基板面(基板3的成膜面)光滑的情況下，無法設(shè)想如圖8的L-5那樣進(jìn)行變形。因此，設(shè)L-5的振幅為旋轉(zhuǎn)臺4的振動(dòng)的振幅，并對L-5進(jìn)行平滑化處理，以將其轉(zhuǎn)換成像L-6那樣經(jīng)平滑化后的數(shù)據(jù)。這樣，利用平滑化處理，從速度測量單元21所獲得的數(shù)據(jù)中去除旋轉(zhuǎn)臺4的振動(dòng)部分。將經(jīng)平滑化后的數(shù)據(jù)再次記錄于記錄單元，或?qū)⑵漭敵鲋磷鴺?biāo)提取單元^b。坐標(biāo)提取單元26b從記錄單元或平滑化處理單元26a提取出經(jīng)平滑化后的數(shù)據(jù)的基板起點(diǎn)和基板終點(diǎn)的時(shí)間和位移的數(shù)據(jù)、以及位移的數(shù)據(jù)成為峰值的時(shí)間和峰值，并將它們輸出至線性公式轉(zhuǎn)換單元沈(3。也將峰值輸出至彎曲計(jì)算單元沈 圖9是對在旋轉(zhuǎn)臺4(移動(dòng)平臺)存在振動(dòng)的情況下，根據(jù)基板3的位移測定結(jié)果來求出彎曲量的情況進(jìn)行說明的圖表。如圖9所示，坐標(biāo)提取單元26b提取出基板測定的起點(diǎn)S和基板測定的終點(diǎn) E的坐標(biāo)。線性公式轉(zhuǎn)換單元26c根據(jù)從坐標(biāo)提取單元26b提取出的起點(diǎn)S和終點(diǎn)E的坐標(biāo)數(shù)據(jù)，來生成線性公式L-7。然后，將該線性公式L-7輸出至位移計(jì)算單元沈(1。位移計(jì)算單元26d將成為位移峰值即P的時(shí)間T輸入線性公式L-7，以計(jì)算出該時(shí)間T時(shí)的位移 Q，并將其輸出至彎曲計(jì)算單元26e。彎曲計(jì)算單元26e計(jì)算出峰值P與位移計(jì)算單元26d 所計(jì)算出的位移Q之間的差分，并將其作為彎曲量R來進(jìn)行輸出。另外，根據(jù)彎曲量R的正負(fù)來判定基板3的彎曲形狀是向上凸出還是向下凸出，并將其記錄于記錄單元(未圖示)。 例如，在圖9的情況下，由于位移P > Q，因此，判斷為向上凸出。這樣，在本發(fā)明所涉及的形狀測定裝置(M0CVD裝置)中，優(yōu)選為具有對位移的值進(jìn)行平滑化的平滑化處理單元26a。利用該特征，能獲得可去除旋轉(zhuǎn)臺4 (移動(dòng)平臺)的振動(dòng)分量的效果。此外，在本發(fā)明所涉及的形狀測定裝置(M0CVD裝置)中，優(yōu)選為具有坐標(biāo)提取單元，該坐標(biāo)提取單元26b提取出所述被測定物的測定開始位置的時(shí)間和位移、測定結(jié)束位置的時(shí)間和位移、及峰值的時(shí)間和位移；線性公式轉(zhuǎn)換單元^c，該線性公式轉(zhuǎn)換單元26c將坐標(biāo)提取單元所提取出的所述被測定物的測定開始位置的時(shí)間和位移、測定結(jié)束位置的時(shí)間和位移的坐標(biāo)轉(zhuǎn)換成以時(shí)間為變量的線性公式；位移計(jì)算單元沈山該位移計(jì)算單元26d利用所述線性公式轉(zhuǎn)換單元26c來計(jì)算出與峰值相同時(shí)刻的位移；以及彎曲計(jì)算單元^e，該彎曲計(jì)算單元^^根據(jù)由所述位移計(jì)算單元所求出的位移與峰值之間的差來計(jì)算出彎曲。利用該特征，由于彎曲計(jì)算單元^e能根據(jù)所計(jì)算出的位移和峰值來計(jì)算出彎曲，因此，能簡單地確認(rèn)彎曲量。本發(fā)明的形狀測定裝置包括利用多普勒效應(yīng)的速度測量單元、檢測被測定物的位置的被測定物檢測單元、以及運(yùn)算處理單元，該形狀測量裝置也可以采用以下結(jié)構(gòu)，即，所述運(yùn)算處理單元包括被測定物速度提取單元，該被測定物速度提取單元對從所述速度測量單元和所述被測定物檢測單元輸出的信號進(jìn)行算術(shù)處理，從而計(jì)算出被測定物的速度； 速度平均計(jì)算單元，該速度平均計(jì)算單元利用所述被測定物速度提取單元所輸出的信號， 來計(jì)算出被測定物的速度平均值；減法單元，該減法單元從所述被測定物速度提取單元所計(jì)算出的速度中減去所述速度平均值；以及積分單元，該積分單元對所述減法單元所獲得的速度進(jìn)行時(shí)間積分。本發(fā)明的形狀測定裝置包括利用多普勒效應(yīng)的速度測量單元、檢測被測定物的位置的被測定物檢測單元、以及運(yùn)算處理單元，該形狀測量裝置也可以采用以下結(jié)構(gòu)，即，所述運(yùn)算處理單元包括被測定物速度提取單元，該被測定物速度提取單元對從所述速度測量單元和所述被測定物檢測單元輸出的信號進(jìn)行算術(shù)處理，從而計(jì)算出被測定物的速度； 微分運(yùn)算單元，該微分運(yùn)算單元對由所述被測定物速度提取單元所獲得的數(shù)據(jù)進(jìn)行時(shí)間微分；以及累計(jì)單元，該累計(jì)單元對從所述微分運(yùn)算單元所獲得的數(shù)據(jù)進(jìn)行兩次時(shí)間積分。在本發(fā)明的形狀測量裝置中，優(yōu)選為具有平滑化處理單元，該平滑化處理單元對位移的值進(jìn)行平滑化。在本發(fā)明的形狀測量裝置中，優(yōu)選為具有坐標(biāo)提取單元，該坐標(biāo)提取單元提取出所述被測定物的測定開始位置的時(shí)間和位移、測定結(jié)束位置的時(shí)間和位移、及峰值的時(shí)間和位移；線性公式轉(zhuǎn)換單元，該線性公式轉(zhuǎn)換單元將坐標(biāo)提取單元所提取出的所述被測定物的測定開始位置的時(shí)間和位移、測定結(jié)束位置的時(shí)間和位移轉(zhuǎn)換成以時(shí)間為變量的線性公式；位移計(jì)算單元，該位移計(jì)算單元利用所述線性公式轉(zhuǎn)換單元來計(jì)算出與峰值相同時(shí)刻的位移；以及彎曲計(jì)算單元，該彎曲計(jì)算單元根據(jù)由所述位移計(jì)算單元所求出的位移與峰值之間的差來計(jì)算出彎曲。本發(fā)明的形狀測量方法是具有利用多普勒效應(yīng)的速度的測量、檢測被測定物的位置的被測定物的檢測、以及利用運(yùn)算處理對被測定物的形狀進(jìn)行測定的工藝的形狀測量方法，該形狀測量方法也可以是以下方法，即，所述運(yùn)算處理包括被測定物速度的提取，該被測定物速度的提取對由所述速度的測量和所述被測定物的檢測所輸出的信號進(jìn)行算術(shù)處理，從而計(jì)算出被測定物的速度；速度平均的計(jì)算，該速度平均的計(jì)算利用由所述被測定物速度的提取所輸出的信號的至少一部分，來計(jì)算出被測定物的速度平均值；減法，該減法從由所述被測定物速度的提取所計(jì)算出的速度中減去作為所述速度平均的計(jì)算的輸出的速度平均值；以及由所述減法所獲得的速度的時(shí)間積分。本發(fā)明的形狀測量方法是具有利用多普勒效應(yīng)的速度的測量、檢測所述被測定物的位置的被測定物的檢測、以及利用運(yùn)算處理對被測定物的形狀進(jìn)行測定的工藝的形狀測定方法，該形狀測量方法也可以是以下方法，即，所述運(yùn)算處理包括被測定物速度的提取， 該被測定物速度的提取對由所述速度的測量和所述被測定物的檢測所輸出的信號進(jìn)行算術(shù)處理，從而提取出被測定物的速度；由所述被測定物速度的提取所獲得的數(shù)據(jù)的微分運(yùn)算；以及從所述微分運(yùn)算所獲得的數(shù)據(jù)的兩次時(shí)間積分。如上所述，在現(xiàn)有的MOCVD裝置中，在對放置于移動(dòng)平臺上的基板等被測定物的形狀進(jìn)行測定的情況下，因在速度測量裝置的使用狀態(tài)下不同的偏移值的影響而導(dǎo)致測定精度下降，因?qū)⒍鄠€(gè)被測定物配置于旋轉(zhuǎn)臺的裝置而導(dǎo)致測定精度下降，因旋轉(zhuǎn)臺的振動(dòng)和轉(zhuǎn)軸的傾斜等而導(dǎo)致測定精度下降，因此，無法高精度地進(jìn)行測定。與此不同的是，本發(fā)明的形狀測定裝置利用使被測定物移動(dòng)的移動(dòng)平臺(旋轉(zhuǎn)臺 4)、利用由激光光線所產(chǎn)生的多普勒效應(yīng)的速度測量單元、被測定物檢測單元、運(yùn)算處理單元、以及記錄單元，來測定被測定物的形狀。所述運(yùn)算處理單元設(shè)置有提取出所述被測定物的速度的被測定物速度提取單元、根據(jù)速度數(shù)據(jù)來計(jì)算出速度平均值的速度平均計(jì)算單元、從速度數(shù)據(jù)中減去速度平均值的減法單元、以及對速度進(jìn)行積分的累計(jì)單元。由此，由于在根據(jù)被測定物的至少一部分的速度數(shù)據(jù)來計(jì)算出速度平均值、并從被測定物的速度數(shù)據(jù)中去除速度平均值部分之后，再對速度進(jìn)行時(shí)間積分以計(jì)算出位移，因此，能去除被測定物的傾斜和速度測量單元的偏移值的影響，從而提高測定精度。本發(fā)明不限于上述各實(shí)施方式，可在權(quán)利要求書所示的范圍內(nèi)進(jìn)行各種變更，對于適當(dāng)組合不同實(shí)施方式中分別揭示的技術(shù)手段而得到的實(shí)施方式，也包含在本發(fā)明的技術(shù)范圍內(nèi)。發(fā)明的詳細(xì)說明內(nèi)容中敘述的具體實(shí)施方式
或?qū)嵤├贾皇顷U明本發(fā)明的技術(shù)內(nèi)容，但不能夠狹義地理解為只限于這樣的具體例子，在本發(fā)明的精神和后文記載的權(quán)利要求書的范圍內(nèi)，可以進(jìn)行各種變更而實(shí)施。工業(yè)上的實(shí)用性由于能確定進(jìn)行往復(fù)運(yùn)動(dòng)和旋轉(zhuǎn)的被測定物的位置，從而能測定出與被測定物的移動(dòng)方向垂直的方向的速度和位移量，因此，可適用于伴隨著以下被測定物自身的旋轉(zhuǎn)而對所述被測定物進(jìn)行測定的用途即，位于旋轉(zhuǎn)的框體的一部分上的被測定物；向一個(gè)方向移動(dòng)的被測定物；或位于向一個(gè)方向移動(dòng)的框體或旋轉(zhuǎn)的框體的一部分上的被測定物。 例如，也可以用于使材料進(jìn)行行星旋轉(zhuǎn)的攪拌裝置內(nèi)的試料的液面高度的測定或離子鍍裝置的膜測定等。標(biāo)號說明
1MOCVD裝置(形狀測量裝置)
2反應(yīng)室
3基板(被測定物)
4旋轉(zhuǎn)臺
5放置盤
6轉(zhuǎn)軸
7電動(dòng)機(jī)
8加熱器
9導(dǎo)管
10隔斷墻
11氣體噴出口
12原料氣體
13氣體提供器
14排氣路徑
15熱能
17測量用激光光線
18窗口
19孔
21速度測量單元
22回光
23中心
24.24A 運(yùn)算處理單元
24a被測定物速度提取單元
24b速度平均計(jì)算單元
24c減法單元
24d累計(jì)單元(積分單元)
24e微分運(yùn)算單元
24f累計(jì)單元
24g累計(jì)單元
25被測定物檢測單元
26第二運(yùn)算處理單元
26a平滑化處理單元
26b坐標(biāo)提取單元
26c線性公式轉(zhuǎn)換單元
26d位移計(jì)算單元
26e彎曲計(jì)算單元
權(quán)利要求
1.一種形狀測量裝置，包括 利用多普勒效應(yīng)的速度測量單元；對被測定物的位置進(jìn)行檢測的被測定物檢測單元；以及對被測定物的形狀進(jìn)行運(yùn)算的運(yùn)算處理單元， 該形狀測量裝置的特征在于， 所述運(yùn)算處理單元包括被測定物速度提取單元，該被測定物速度提取單元對從所述速度測量單元和所述被測定物檢測單元輸出的信號進(jìn)行算術(shù)處理，從而計(jì)算出被測定物的速度；速度平均計(jì)算單元，該速度平均計(jì)算單元利用所述被測定物速度提取單元所輸出的至少一部分信號，來計(jì)算出被測定物的速度平均值；減法單元，該減法單元從所述被測定物速度提取單元所計(jì)算出的速度中減去所述速度平均值；以及積分單元，該積分單元對所述減法單元所獲得的速度進(jìn)行時(shí)間積分。
2.一種形狀測量裝置，包括 利用多普勒效應(yīng)的速度測量單元；對被測定物的位置進(jìn)行檢測的被測定物檢測單元；以及對被測定物的形狀進(jìn)行運(yùn)算的運(yùn)算處理單元， 該形狀測量裝置的特征在于， 所述運(yùn)算處理單元包括被測定物速度提取單元，該被測定物速度提取單元對從所述速度測量單元和所述被測定物檢測單元輸出的信號進(jìn)行算術(shù)處理，從而計(jì)算出被測定物的速度；微分運(yùn)算單元，該微分運(yùn)算單元對由所述被測定物速度提取單元所獲得的數(shù)據(jù)進(jìn)行時(shí)間微分；以及累計(jì)單元，該累計(jì)單元對從所述微分運(yùn)算單元所獲得的數(shù)據(jù)進(jìn)行兩次時(shí)間積分。
3.如權(quán)利要求1或2所述的形狀測量裝置，其特征在于，還包括第二運(yùn)算處理單元，該第二運(yùn)算處理單元具有平滑化處理單元，所述平滑化處理單元對由所述運(yùn)算處理單元所求出的被測定物的位移的值進(jìn)行平滑化。
4.如權(quán)利要求3所述的形狀測量裝置，其特征在于， 所述第二運(yùn)算處理單元包括坐標(biāo)提取單元，該坐標(biāo)提取單元提取所述被測定物的測定開始位置的時(shí)間和位移、測定結(jié)束位置的時(shí)間和位移、及峰值的時(shí)間和位移；線性公式轉(zhuǎn)換單元，該線性公式轉(zhuǎn)換單元將所述坐標(biāo)提取單元所提取出的所述被測定物的測定開始位置的時(shí)間和位移、及測定結(jié)束位置的時(shí)間和位移的坐標(biāo)轉(zhuǎn)換成以時(shí)間為變量的線性公式；位移計(jì)算單元，該位移計(jì)算單元利用所述線性公式轉(zhuǎn)換單元來計(jì)算出與所述峰值相同時(shí)刻的位移；以及彎曲計(jì)算單元，該彎曲計(jì)算單元根據(jù)由所述位移計(jì)算單元所求出的位移與峰值之間的差來計(jì)算出彎曲。
5.一種形狀測量方法，具有利用多普勒效應(yīng)的速度的測量處理；被測定物的位置進(jìn)行檢測的被測定物的檢測處理；以及對被測定物的形狀進(jìn)行運(yùn)算的運(yùn)算處理，該形狀測量方法的特征在于，所述運(yùn)算處理包括被測定物速度的提取處理，該被測定物速度的提取處理對由所述速度的測量處理和所述被測定物的檢測處理所輸出的信號進(jìn)行算術(shù)處理，從而計(jì)算出被測定物的速度；速度平均的計(jì)算處理，該速度平均的計(jì)算處理利用由所述被測定物速度的提取處理所輸出的信號的至少一部分，來計(jì)算出被測定物的速度平均值；減法處理，該減法處理從由所述被測定物速度的提取處理所計(jì)算出的速度中減去作為所述速度平均的計(jì)算處理的輸出的速度平均值；以及積分處理，該積分處理對由所述減法處理所獲得的速度進(jìn)行時(shí)間積分。
6. 一種形狀測量方法，具有 利用多普勒效應(yīng)的速度的測量處理；對所述被測定物的位置進(jìn)行檢測的被測定物的檢測處理；以及對被測定物的形狀進(jìn)行運(yùn)算的運(yùn)算處理， 該形狀測量方法的特征在于， 所述運(yùn)算處理包括被測定物速度的提取處理，該被測定物速度的提取處理對由所述速度的測量處理和所述被測定物的檢測處理所輸出的信號進(jìn)行算術(shù)處理，從而提取出被測定物的速度；微分運(yùn)算處理，該微分運(yùn)算處理對由所述被測定物速度的提取處理所獲得的數(shù)據(jù)進(jìn)行時(shí)間微分；以及累計(jì)處理，該累計(jì)處理對從所述微分運(yùn)算處理所獲得的數(shù)據(jù)進(jìn)行兩次時(shí)間積分。
全文摘要
本發(fā)明的MOCVD裝置(形狀測量裝置)利用使作為被測定物的基板移動(dòng)的移動(dòng)平臺(旋轉(zhuǎn)臺)、利用由激光光線所產(chǎn)生的多普勒效應(yīng)的速度測量單元(21)、被測定物檢測單元(25)、運(yùn)算處理單元(24)、以及記錄單元，來測定被測定物的形狀。運(yùn)算處理單元(24)包括提取出被測定物的速度的被測定物速度提取單元(24a)；根據(jù)速度數(shù)據(jù)來計(jì)算出速度平均值的速度平均計(jì)算單元(24b)；從速度數(shù)據(jù)中減去速度平均值的減法單元(24c)；以及對速度進(jìn)行積分的累計(jì)單元(24d)。
文檔編號G01B11/24GK102597691SQ201080049318
公開日2012年7月18日 申請日期2010年12月3日 優(yōu)先權(quán)日2009年12月4日
發(fā)明者井尻良 申請人:夏普株式會(huì)社