專利名稱：控制涂施設(shè)備的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種控制涂施設(shè)備(coating apparatus)的方法，且更明確地說(shuō)，涉 及一種控制用于涂施密封劑的密封分配器(seal dispenser)的噴嘴(nozzle)與傳感器 (sensor)之間的距離的方法。
背景技術(shù)：
迄今通常使用陰極射線管(cathode ray tube,CRT)作為顯示裝置。然而，由于其 缺點(diǎn)(例如體積大且重量重)，針對(duì)包含液晶顯示器(liquid crystal display, LCD)、等 離子體顯示面板(plasma display panel, PDP)、有機(jī)發(fā)光裝置(organic light emitting device, 0LED)等在內(nèi)的平板顯示器(flat panel display)的市場(chǎng)正在增長(zhǎng)。上文所描述的平板顯示器通常是通過(guò)連結(jié)一對(duì)平坦襯底來(lái)制造的。舉例來(lái)說(shuō)，就 液晶顯示面板(liquid crystal display panel)而論，首先制造上面形成有多個(gè)薄膜晶體 管(thin film transistor)和像素電極(pixel electrode)的下部襯底以及上面形成有 彩色濾光片(color filter)和共用電極(common electrode)的上部襯底。接著，將液晶 滴落在下部襯底上，且在下部襯底的邊緣區(qū)中涂施密封劑。此后，將下部襯底的上面形成有 像素電極的表面與上部襯底的上面形成有共用電極的表面定位成面向彼此、附接在一起且 密封，以便制造液晶顯示面板。在制造過(guò)程期間，使用涂施設(shè)備來(lái)涂施密封劑，且需要所述設(shè)備使用精確地控制 密封劑注射噴嘴(sealant injection nozzle)與襯底之間的間隙的技術(shù)。舉例來(lái)說(shuō)，當(dāng)襯 底與噴嘴之間的間隙非常小時(shí)，所涂施的密封劑的圖案的寬度變寬，且圖案的高度變低。然 而，當(dāng)襯底與噴嘴之間的間隙過(guò)大時(shí)，襯底上的涂施材料圖案的寬度變窄，且有時(shí)涂施材料 圖案可能具有不連貫的區(qū)段。在將密封劑涂施在襯底上以形成涂施材料圖案的情況下，當(dāng)襯底的表面不平或襯 底的表面上的一部分中形成額外膜層時(shí)，可能會(huì)無(wú)意地改變噴嘴與襯底之間的間隙。因此，新近涂施設(shè)備中的一些設(shè)備經(jīng)配置以包含用于測(cè)量噴嘴與襯底之間的間隙 的傳感器。在密封劑的涂施期間，使用傳感器來(lái)周期性地測(cè)量噴嘴與襯底之間的間隙，使得 襯底與噴嘴之間的間隙可保持恒定。由此，可抑制在涂施材料圖案中產(chǎn)生缺陷。然而，因?yàn)閲娮炫c傳感器組合并安裝到涂施設(shè)備，所以噴嘴與傳感器之間的實(shí)際 距離變得不同于原始既定的距離。所述距離可能在例如更換噴嘴等任何操作期間改變。由于噴嘴與間隙傳感器之間的距 離的差異，傳感器的測(cè)量點(diǎn)可能改變。在此情況 下，從傳感器發(fā)射的光可能到達(dá)非既定襯底區(qū)，這導(dǎo)致涂施材料圖案的變化。舉例來(lái)說(shuō)，由 于噴嘴與傳感器之間的距離的差異，傳感器可能測(cè)量襯底與噴嘴之間對(duì)應(yīng)于上面涂施有膜 層的襯底區(qū)的間隙，而不是測(cè)量襯底與噴嘴之間對(duì)應(yīng)于襯底的密封劑涂施區(qū)的間隙。因此， 需要精確地測(cè)量噴嘴與傳感器之間的距離。為了測(cè)量噴嘴與傳感器之間的距離，通常已使用例如視覺相機(jī)(vision camera) 等額外裝置。然而，在此情況下，應(yīng)另外提供用于測(cè)量噴嘴與傳感器之間的距離的視覺相機(jī)，這伴有用于制造分配器的成本增加或設(shè)備的體積增加的缺點(diǎn)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種控制涂施設(shè)備的方法，所述方法能夠通過(guò)使用測(cè)量襯底與涂施 構(gòu)件之間的距離的傳感器測(cè)量光點(diǎn)(optical spot)與涂施材料圖案(coating material pattern)之間的距離來(lái)增強(qiáng)測(cè)量所述距離的準(zhǔn)確性。根據(jù)示范性實(shí)施例，一種控制包含用于將涂施材料涂施在襯底上的涂施構(gòu)件以及 具有用于測(cè)量襯底與涂施構(gòu)件之間的距離的傳感器的分配器的涂施設(shè)備的方法可包含使 用涂施構(gòu)件在襯底上形成涂施材料圖案；通過(guò)使用傳感器將光照射到襯底來(lái)獲得光點(diǎn)與涂 施材料圖案之間的距離相對(duì)于涂施構(gòu)件的垂直位置的變化率；基于所獲得的光點(diǎn)與涂施材 料圖案之間的距離相對(duì)于涂施構(gòu)件的垂直位置的變化率，計(jì)算相對(duì)于既定在實(shí)際過(guò)程中使 用的涂施構(gòu)件的垂直位置的光點(diǎn)與涂施材料圖案之間的距離；將所計(jì)算的光點(diǎn)與涂施材料 圖案之間的距離與預(yù)設(shè)距離值進(jìn)行比較；以及基于比較結(jié)果，通過(guò)控制傳感器與涂施構(gòu)件 之間的距離來(lái)控制光點(diǎn)與涂施材料圖案之間的距離。從傳感器照射的光相對(duì)于襯底可具有在50度到70度的范圍內(nèi)的恒定傾角。使用涂施構(gòu)件在襯底上形成涂施材料圖案可包含控制涂施構(gòu)件的垂直位置，使 其與既定在實(shí)際過(guò)程中使用的涂施構(gòu)件的垂直位置相同；以及形成涂施材料圖案。獲得光點(diǎn)與涂施材料圖案之間的距離相對(duì)于涂施構(gòu)件的垂直位置的變化率可包 含升高或降低涂施構(gòu)件，以使涂施構(gòu)件相對(duì)于襯底定位在兩個(gè)或兩個(gè)以上不同位置處； 以及測(cè)量相對(duì)于涂施構(gòu)件的相應(yīng)垂直位置的光點(diǎn)與涂施材料圖案之間的距離，以便獲得光 點(diǎn)與涂施材料圖案之間的距離相對(duì)于涂施構(gòu)件的垂直位置的變化率。使用涂施構(gòu)件的兩個(gè)或兩個(gè)以上不同垂直位置處的光點(diǎn)與涂施材料圖案之間的 距離來(lái)計(jì)算相對(duì)于既定在實(shí)際過(guò)程中使用的涂施構(gòu)件的垂直位置的光點(diǎn)與涂施材料圖案 之間的距離。假定將涂施構(gòu)件的垂直位置表示為H，將相對(duì)于涂施構(gòu)件的垂直位置的光點(diǎn)與涂 施材料圖案之間的距離表示為X，那么可將垂直位置表達(dá)為等式H = AX+B。使用所述等式 來(lái)計(jì)算相對(duì)于既定在實(shí)際過(guò)程中使用的涂施構(gòu)件的垂直位置的光點(diǎn)與涂施材料圖案之間 的距離。測(cè)量相對(duì)于涂施構(gòu)件的相應(yīng)垂直位置的光點(diǎn)與涂施材料圖案之間的距離可包含 控制涂施構(gòu)件的垂直位置；使用傳感器將光照射到襯底上；將從傳感器照射到襯底上的光 所形成的光點(diǎn)位于其上的第一點(diǎn)設(shè)置為虛擬坐標(biāo)系上的參考坐標(biāo)；通過(guò)在連續(xù)照射光的同 時(shí)移動(dòng)分配器且使用所述光來(lái)檢測(cè)涂施材料圖案的中心點(diǎn)，且在虛擬坐標(biāo)系上標(biāo)記所述中 心點(diǎn)；以及計(jì)算設(shè)置在虛擬坐標(biāo)系上的參考坐標(biāo)與標(biāo)記在虛擬坐標(biāo)系上的涂施材料圖案的 中心點(diǎn)的坐標(biāo)之間的差異。檢測(cè)涂施材料圖案的中心點(diǎn)可包含水平移動(dòng)分配器，且使用分配器的傳感器連 續(xù)地照射光，以檢測(cè)涂施材料圖案的具有最大厚度的位置；以及將具有最大厚度的位置的 中心設(shè)置為中心點(diǎn)?；蛘撸瑱z測(cè)涂施材料圖案的中心點(diǎn)可包含使用傳感器來(lái)測(cè)量涂施材料圖案的線 寬；以及將所測(cè)量的涂施材料圖案的線寬的中心設(shè)置為中心點(diǎn)。
在控制涂施構(gòu)件的垂直位置期間，控制涂施構(gòu)件的垂直位置使其高于既定在實(shí)際 過(guò)程中使用的涂施構(gòu)件的垂直位置。


可從結(jié)合附圖進(jìn)行的以下描述更詳細(xì)地理解示范性實(shí)施例，在附圖中圖1是說(shuō)明根據(jù)示范性實(shí)施例的涂施設(shè)備的示意性概念圖。圖2是說(shuō)明根據(jù)示范性實(shí)施例的分配器的截面圖。圖3是示出根據(jù)示范性實(shí)施例的控制分配器的涂施構(gòu)件以及傳感器的方法的流 程圖。圖4是說(shuō)明根據(jù)示范性實(shí)施例使用分配器的涂施構(gòu)件在測(cè)試襯底上形成涂施材 料圖案的圖。圖5和圖6是循序地說(shuō)明在假定涂施構(gòu)件的垂直位置為Hl的情況下測(cè)量涂施材 料圖案與光點(diǎn)之間的距離的圖。圖7是示出當(dāng)涂施構(gòu)件的垂直位置為Hl時(shí)涂施材料圖案和光點(diǎn)的坐標(biāo)的圖。圖8和圖9是循序地說(shuō)明在假定涂施構(gòu)件的垂直位置為H2的情況下測(cè)量涂施材 料圖案與光點(diǎn)之間的距離的圖。圖10是示出當(dāng)涂施構(gòu)件的垂直位置為H2時(shí)涂施材料圖案和光點(diǎn)的坐標(biāo)的圖。
具體實(shí)施例方式在下文中，將參看附圖詳細(xì)描述示范性實(shí)施例。然而，本發(fā)明可以許多不同形式體 現(xiàn)，且不應(yīng)被解釋為限于本文所陳述的示范性實(shí)施例。相反，提供這些示范性實(shí)施例是為了 使本揭示內(nèi)容將為全面且完整的，且將把本發(fā)明的概念完全傳達(dá)給所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員。圖1是說(shuō)明根據(jù)示范性實(shí)施例的涂施設(shè)備的示意性概念圖。圖2是說(shuō)明根據(jù)示范 性實(shí)施例的分配器的截面圖。參看圖1和圖2，根據(jù)示范性實(shí)施例的涂施設(shè)備包含臺(tái)(stage) 100，襯底10安 放于所述臺(tái)100上；分配器(dispenser)200，其用于將涂施材料涂施在安放于臺(tái)上的襯 底上；驅(qū)動(dòng)單元(driving unit) 500，其用于升高和降低分配器200 ；傳送單元(transfer unit) 300，其用于水平傳送臺(tái)100和分配器200 ；以及控制單元(controlling unit) 400，其 用于控制傳送單元300、臺(tái)100和分配器200。盡管在示范性實(shí)施例中將密封劑用作涂施材 料，但不限于此，且可將各種材料用作涂施材料。臺(tái)100可在χ和y方向上移動(dòng)，以沿襯底10的邊緣區(qū)的周長(zhǎng)形成涂施材料圖案。 或者，分配器200可在χ和y方向上移動(dòng)，以將涂施材料涂施在襯底10上，或臺(tái)100和分配 器200兩者均可在χ和y方向上移動(dòng)以涂施涂施材料，或臺(tái)100可在一個(gè)方向上移動(dòng)，而分 配器200在另一方向上移動(dòng)，以涂施涂施材料。傳送單元300使用電動(dòng)機(jī)或軌道來(lái)移動(dòng)臺(tái) 100和分配器200?？墒褂昧硪桓鞣N構(gòu)件來(lái)移動(dòng)臺(tái)100和分配器200。分配器200包含涂施構(gòu)件210、傳感器220和支撐部件(supporting member) 230。 涂施構(gòu)件210包含注射器(syringe) 212，其中儲(chǔ)存涂施材料(例如，密封劑)；主體部分 (body part) 213，注射器212安裝并固定在其中；以及噴嘴211，其安置在主體部分213下 方，且將儲(chǔ)存在注射器212中的涂施材料涂施到襯底10上。傳感器220檢測(cè)涂施構(gòu)件210的噴嘴211與襯底10之間的距離。支撐部件230安置在涂施構(gòu)件210與傳感器220之間， 使得傳感器220可安裝并固定到支撐部件230。涂施構(gòu)件210的噴嘴211和注射器212可附接到主體部分213且可從主體部分213 拆卸，以實(shí)現(xiàn)噴嘴211和注射器212的更換。另外，傳感器220可附接到支撐部件230且可 從支撐部件230拆卸，且支撐部件230可附接到分配器210的主體部分213且可從分配器 210的主體部分213拆卸。傳感器安裝并固定到其上的支撐部件230與分配器210的主體 部分213可使用耦合部件(coupling member)(未圖示)(例如螺絲)彼此連接。由此，可 通過(guò)控制耦合部件(未圖示)來(lái)控制安裝到支撐部件230的傳感器220與噴嘴211之間的 距離。分配器200隨著其在χ和y方向上移動(dòng)而經(jīng)由噴嘴211將注射器212中的涂施材 料涂施到襯底10上。同時(shí)，傳感器220測(cè)量襯底10與噴嘴211之間的距離，且基于測(cè)量結(jié) 果，使用驅(qū)動(dòng)單元在向上和向下方向上移動(dòng)分配器200，以使襯底10與噴嘴211之間的距離 保持恒定。以此方式，可使沿襯底的邊緣的周長(zhǎng)形成的涂施材料圖案維持為均一線性形狀。根據(jù)示范性實(shí)施例的傳感器使用(例如)利用激光的距離測(cè)量傳感器(distance measuring sensor)。盡管未圖示，但此類型的傳感器包含發(fā)光部分(light emitting part)(未圖示)，其用于朝襯底10發(fā)射距離測(cè)量光(distance measuring light)；以及光 接收部分(light receiving part)(未圖示)，其用于接收從發(fā)光部分(未圖示)發(fā)射的 光。發(fā)光部分(未圖示)和光接收部分(未圖示)可一體式形成，且彼此間隔開預(yù)定距離。如前面所提到，當(dāng)從傳感器220照射到襯底10的亮點(diǎn)(light spot)與涂施材料 圖案之間的距離變得超出預(yù)設(shè)距離值時(shí)，可能產(chǎn)生涂施材料圖案的缺陷。出于所述原因，根據(jù)示范性實(shí)施例，在襯底10上實(shí)際上形成涂施材料圖案之前， 獲得從傳感器220照射的光點(diǎn)203與涂施材料圖案202之間的距離。圖3是示出根據(jù)示范性實(shí)施例的控制分配器的涂施構(gòu)件以及傳感器的方法的流 程圖。圖4是說(shuō)明根據(jù)示范性實(shí)施例使用分配器的涂施構(gòu)件在測(cè)試襯底上形成涂施材料圖 案的圖。圖5和圖6是循序地說(shuō)明在假定涂施構(gòu)件的垂直位置為Hl的情況下測(cè)量涂施材 料圖案與光點(diǎn)之間的距離的圖。圖7是示出當(dāng)涂施構(gòu)件的垂直位置為Hl時(shí)涂施材料圖案 和光點(diǎn)的坐標(biāo)的圖。圖8和圖9是循序地說(shuō)明在假定涂施構(gòu)件的垂直位置為H2的情況下 測(cè)量涂施材料圖案與光點(diǎn)之間的距離的圖。圖10是示出當(dāng)涂施構(gòu)件的垂直位置為H2時(shí)涂 施材料圖案和光點(diǎn)的坐標(biāo)的圖。 在下文中，將參看圖3到圖10來(lái)闡釋控制涂施構(gòu)件210與傳感器220之間的距離。
根據(jù)示范性實(shí)施例，控制涂施構(gòu)件210與傳感器220之間的距離包含將測(cè)試襯底 201定位在臺(tái)100上。可使用與實(shí)際過(guò)程中使用的襯底10相同類型的襯底作為測(cè)試襯底 201。如圖3和圖4中所說(shuō)明，在測(cè)試襯底201上形成涂施材料圖案202(S100)。將涂施構(gòu) 件210的垂直位置設(shè)置為Ht，且從涂施構(gòu)件210釋放密封劑以形成涂施材料圖案202，用于 測(cè)量測(cè)試襯底201上的距離。如前面所提到，根據(jù)示范性實(shí)施例，涂施 構(gòu)件210的用于釋放 涂施材料的噴嘴211安裝在主體部分213下方，且涂施材料202使用噴嘴211形成于襯底 201上。因此，可能優(yōu)選的是涂施構(gòu)件210的噴嘴211相對(duì)于襯底201的垂直位置為Ht。 Ht與如圖1中所說(shuō)明的當(dāng)在實(shí)際過(guò)程期間在襯底上形成涂施材料圖案202時(shí)所使用的噴 嘴211的垂直位置相同，這允許涂施材料圖案202在與實(shí)際過(guò)程相同的條件下形成于測(cè)試襯底201上。Ht可在20微米到70微米的范圍內(nèi)。根據(jù)示范性實(shí)施例，涂施材料圖案202 形成為圓形形狀，且如圖4中所說(shuō)明測(cè)量涂施材料圖案202與光點(diǎn)203之間的距離。然而， 本發(fā)明不限于此，且涂施材料圖案202可以預(yù)定桿(或條)形狀形成于測(cè)試襯底201上。
此后，使用傳感器220獲得光點(diǎn)203與涂施材料圖案202之間的距離相對(duì)于噴嘴 211的垂直位置的變化率(S120)。為此，如圖5和圖8中所說(shuō)明，將噴嘴211的垂直位置設(shè) 置于兩個(gè)不同位置Hl和H2，且計(jì)算相對(duì)于噴嘴211的垂直位置Hl和H2的光點(diǎn)203與涂施 材料圖案202之間的距離Xl和X2。用等式H = AX+B來(lái)獲得光點(diǎn)203與涂施材料圖案202 之間的距離相對(duì)于噴嘴211的垂直位置的變化率。H表示噴嘴211的垂直位置，且X表示光 點(diǎn)203與涂施材料圖案202之間的距離。A和B是表征涂施材料圖案202與光點(diǎn)203之間 的距離相對(duì)于噴嘴211的垂直位置的變化率的系數(shù)。為了獲得A和B的值，根據(jù)示范性實(shí) 施例，測(cè)量相對(duì)于噴嘴211的垂直位置Hl和H2的光點(diǎn)203與涂施材料圖案202之間的距 離Xl和X2。將所測(cè)量的值應(yīng)用于等式H = AX+B,以將所述等式表達(dá)為Hl = AX1+B和H2 = AX2+B?？赏ㄟ^(guò)求解以上聯(lián)立等式來(lái)獲得系數(shù)A和B。以此方式，可獲得光點(diǎn)203與涂施 材料圖案202之間的距離相對(duì)于噴嘴211的垂直位置的變化率。下文中將給出更詳細(xì)的闡釋。如圖5中所說(shuō)明，使用驅(qū)動(dòng)單元500來(lái)升高和降低分配器200，以將噴嘴211定位 于相對(duì)于測(cè)試襯底201的垂直位置Hl處。換句話說(shuō)，將測(cè)試襯底201與噴嘴211之間的距 離設(shè)置為HI。可能優(yōu)選的是Hl大于上文所述的Ht。當(dāng)噴嘴211的垂直位置等于或低于Ht 時(shí)，可能難以測(cè)量光點(diǎn)203與涂施材料圖案202之間的距離。也就是說(shuō)，噴嘴211可能在測(cè) 量光點(diǎn)203與涂施材料圖案之間的距離的過(guò)程期間刮傷測(cè)試襯底201，或涂施在測(cè)試襯底 201上的涂施材料圖案202可能污染噴嘴211的末端。此后，使用傳感器220將光(例如，激光)照射到測(cè)試襯底201上。從傳感器220 照射的光相對(duì)于測(cè)試襯底201的傾角可在50度到70度的范圍內(nèi)，且優(yōu)選為60度。根據(jù)示 范性實(shí)施例，如圖7中所說(shuō)明，將從傳感器220照射的光最初入射到的襯底201的點(diǎn)設(shè)置為 零點(diǎn)(0，0)?？赡軆?yōu)選的是將最初照射到測(cè)試襯底201的光點(diǎn)203的中心點(diǎn)設(shè)置為零點(diǎn)(0， 0)。此后，搜索涂施材料圖案202的中心點(diǎn)。為此，如圖6中所說(shuō)明，使用傳送單元300 和控制單元400來(lái)水平傳送分配器200，同時(shí)使用傳感器220連續(xù)地將光照射到測(cè)試襯底 201。可通過(guò)測(cè)量涂施材料圖案202的厚度以找出最高點(diǎn)來(lái)搜索涂施材料圖案202的中心 點(diǎn)。為此，如前面所提到那樣傳送分配器200，以找出傳感器220顯示最低輸出的區(qū)。將傳 感器220顯示最低輸出的區(qū)設(shè)置為涂施材料圖案202的中心點(diǎn)。盡管圖中未示出，但可通過(guò)測(cè)量涂施材料圖案202的線寬來(lái)找出涂施材料圖案 202的中心點(diǎn)。因?yàn)橥渴┰跍y(cè)試襯底201上的涂施材料圖案202經(jīng)形成為具有實(shí)質(zhì)上恒定 的寬度，所以可通過(guò)使用傳感器220測(cè)量涂施材料圖案202的線寬且將所測(cè)量的涂施材料 圖案202的線寬的中心設(shè)置為中心點(diǎn)來(lái)找出涂施材料圖案202的中心點(diǎn)。接著，如圖7中所說(shuō)明，將使用傳感器220找出的涂施材料圖案202的中心點(diǎn)(Xx， Yy)標(biāo)記在虛擬坐標(biāo)系上。在虛擬坐標(biāo)系上，還標(biāo)記最初照射到測(cè)試襯底201的光點(diǎn)203的 中心點(diǎn)，即零點(diǎn)(0，0)。因此，可通過(guò)檢測(cè)光點(diǎn)203的中心所位于的零點(diǎn)(0，0)以及涂施材 料圖案202的中心點(diǎn)(Xx，Yy)來(lái)計(jì)算光點(diǎn)203與涂施材料圖案202之間的距離值XI。光點(diǎn)203與涂施材料圖案202之間的距離值Xl對(duì)應(yīng)于噴嘴211的垂直位置HI。
接著，將噴嘴211的垂直位置改變?yōu)榕c以上描述的Hl不同的位置，且計(jì)算相對(duì)于 改變的垂直位置的光點(diǎn)203與涂施材料圖案202之間的距離值。具體地說(shuō)，使用傳送單元500來(lái)升高或降低分配器200，直到噴嘴211的垂直位置 變?yōu)镠2為止，如圖8中所說(shuō)明。H2可大于以上描述的Ht，且不同于HI。在示范性實(shí)施例 中，將H2設(shè)置為大于HI。接著，使用傳感器220將光照射到測(cè)試襯底201。如圖10中所說(shuō) 明，將從傳感器220照射的光最初入射到的測(cè)試襯底201的點(diǎn)設(shè)置為零點(diǎn)(0，0)?？赡軆?yōu)選 的是將最初照射到測(cè)試襯底201的光點(diǎn)203的中心點(diǎn)設(shè)置為零點(diǎn)(0，0)。此后，搜索涂施材料圖案202的中心點(diǎn)。為此，如圖9中所說(shuō)明，使用傳送單元300 和控制單元400來(lái)水平傳送分配器200，同時(shí)使用傳感器220連續(xù)地將光照射到測(cè)試襯底 201?？赏ㄟ^(guò)測(cè)量涂施材料圖案202的厚度以找出最高點(diǎn)來(lái)搜索涂施材料圖案202的中心 點(diǎn)。為此，如前面所提到那樣傳送分配器200，以找出傳感器220顯示最低輸出的區(qū)。將傳 感器220顯示最低輸出的區(qū)設(shè)置為涂施材料圖案202的中心點(diǎn)。接著，如圖10中所說(shuō)明，將使用傳感器220找出的涂施材料圖案202的中心點(diǎn) (Xx，Yy)標(biāo)記在虛擬坐標(biāo)系上。在虛擬坐標(biāo)系上，還標(biāo)記最初照射到測(cè)試襯底201的光點(diǎn) 203的中心，即零點(diǎn)(0,0)o因此，可通過(guò)檢測(cè)光點(diǎn)203的中心所位于的零點(diǎn)(0,0)以及涂 施材料圖案202的中心點(diǎn)(Xx，Yy)來(lái)計(jì)算光點(diǎn)203與涂施材料圖案202之間的距離值X2。 光點(diǎn)203與涂施材料圖案202之間的距離值X2對(duì)應(yīng)于噴嘴211的垂直位置H2。根據(jù)示范性實(shí)施例，將噴嘴211的垂直位置設(shè)置于不同位置Hl和H2，以測(cè)量相對(duì) 于相應(yīng)位置Hl和H2的光點(diǎn)203與涂施材料圖案202之間的距離值Xl和X2。然而，本發(fā)明 不限于此，且可將噴嘴211控制為處于兩個(gè)或兩個(gè)以上不同垂直位置，以便計(jì)算相對(duì)于噴 嘴211的垂直位置的光點(diǎn)203與涂施材料圖案202之間的距離值。一旦相對(duì)于噴嘴211的垂直位置Hl和H2測(cè)量了光點(diǎn)203與涂施材料圖案202之 間的距離值，便可基于所測(cè)量的值獲得光點(diǎn)203與涂施材料圖案202之間的距離值相對(duì)于 噴嘴211的垂直位置的變化率。這可表達(dá)為等式H = AX+B，其中H表示噴嘴的垂直位置， 且X為光點(diǎn)203與涂施材料圖案202之間的距離。A和B是表征涂施材料圖案202與光點(diǎn) 203之間的距離相對(duì)于噴嘴211的垂直位置的變化率的系數(shù)。為了獲得A和B的值，如前面 所提到，測(cè)量相對(duì)于噴嘴211的垂直位置Hl和H2的光點(diǎn)203與涂施材料圖案202之間的 距離Xl和X2。將所測(cè)量的值應(yīng)用于等式H = AX+B,以將所述等式表達(dá)為Hl = AX1+B和H2 = AX2+B?？赏ㄟ^(guò)求解以上聯(lián)立等式來(lái)獲得系數(shù)A和B。以此方式，可獲得光點(diǎn)203與涂施 材料圖案202之間的距離相對(duì)于噴嘴211的垂直位置的變化率。舉例來(lái)說(shuō)，當(dāng)Hl為500um，Xl為1. 5mm, H2為700um，且X2為1. 7mm時(shí)，所述等式 可表達(dá)為500um = 1. 5Amm+B和700um = 1. 7Amm+B。通過(guò)求解聯(lián)立等式，A經(jīng)計(jì)算為1000， 且B經(jīng)計(jì)算為-1000。因此，相對(duì)于H的光點(diǎn)203與涂施材料圖案202之間的距離X可表達(dá) 為等式H = 1000X-1000。A和B的值可根據(jù)噴嘴211與傳感器220之間的距離而改變。另外，用既定在實(shí)際過(guò)程中使用的噴嘴211的垂直位置Ht代替等式(H = 1000X-1000)中的H，以計(jì)算照射到襯底10上的光點(diǎn)203與涂施材料圖案202之間的距離 Xt(S120)。舉例來(lái)說(shuō)，當(dāng)噴嘴211的垂直位置Ht在實(shí)際過(guò)程中為30um時(shí)，根據(jù)以上等式， 光點(diǎn)203與涂施材料圖案202之間的距離Xt經(jīng)計(jì)算為1. 03mm。
在計(jì)算相對(duì)于既定在實(shí)際過(guò)程中使用的噴嘴211的垂直位置的光點(diǎn)203與涂施材 料圖案202之間的距離之后，將所計(jì)算的值與預(yù)設(shè)距離值進(jìn)行比較(S130)。如果兩個(gè)值相 同，那么完成對(duì)光點(diǎn)203與涂施材料圖案202之間的距離的調(diào)整。如果兩個(gè)值不同，那么控 制傳感器與涂施構(gòu)件之間的距離，以調(diào)整光點(diǎn)203與涂施材料圖案202之間的距離(S140)。可通過(guò)精細(xì)地控制連接傳感器220安裝到其上的支撐部件230與涂施構(gòu)件210的 耦合部件(未圖示)來(lái)調(diào)整光點(diǎn)203與涂施材料圖案202之間的距離。連接支撐部件230 與涂施構(gòu)件210的耦合部件(未圖示)可包含呈螺紋形狀的χ軸和y軸主體，所述主體與支 撐部件230和涂施構(gòu)件210組合以精細(xì)地控制所述距離。也就是說(shuō)，通過(guò)旋轉(zhuǎn)所述主體，傳 感器安裝到其上的支撐部件230可移動(dòng)。用于精細(xì)地控制所述距離的構(gòu)件不限于此，且可 使用各種構(gòu)件?？赏ㄟ^(guò)僅移動(dòng)噴嘴211來(lái)控制噴嘴211與傳感器220之間的距離?；蛘?， 噴嘴211和傳感器220兩者均可移動(dòng)。當(dāng)調(diào)整噴嘴211與傳感器220之間的距離時(shí)，重復(fù)圖4到圖10中所說(shuō)明的前述過(guò) 程。也就是說(shuō)，以噴嘴211與傳感器220之間經(jīng)調(diào)整的距離來(lái)測(cè)量涂施材料圖案202與光 點(diǎn)203之間的距離。如前面在示范性實(shí)施例中提到，使用傳感器220來(lái)獲得光點(diǎn)203與涂施材料圖案 202之間的距離，且根據(jù)所測(cè)量的值來(lái)控制傳感器220與涂施構(gòu)件210之間的距離。因此， 可在無(wú)額外儀器的情況下測(cè)量光點(diǎn)203與涂施材料圖案202之間的距離，且可改進(jìn)測(cè)量所 述距離的準(zhǔn)確性。針對(duì)控制用于涂施密封劑的涂施設(shè)備的方法闡釋了示范性實(shí)施例。但所述方法不 限于此， 且可應(yīng)用于各種類型的涂施設(shè)備。如上文所陳述，根據(jù)先前實(shí)施例，使用用于測(cè)量襯底與涂施構(gòu)件之間的距離的傳 感器來(lái)測(cè)量光點(diǎn)與涂施材料圖案之間的距離?？苫谒鶞y(cè)量的值來(lái)控制傳感器與涂施構(gòu)件 之間的距離。以此方式，可在無(wú)額外儀器的情況下測(cè)量光點(diǎn)與涂施材料圖案之間的距離，且 可改進(jìn)測(cè)量所述距離的準(zhǔn)確性。因此，可使襯底與涂施構(gòu)件之間的距離在涂施材料的涂施 期間保持恒定，且可避免涂施材料圖案中的缺陷。另外，在無(wú)額外儀器的情況下使用傳感器來(lái)測(cè)量從傳感器照射到襯底上的光點(diǎn)與 噴嘴之間的距離，可降低制造分配器的成本。
權(quán)利要求
一種控制涂施設(shè)備的方法，所述涂施設(shè)備包括用于將涂施材料涂施在襯底上的涂施構(gòu)件以及包含用于測(cè)量所述襯底與所述涂施構(gòu)件之間的距離的傳感器的分配器，所述方法包括使用所述涂施構(gòu)件在所述襯底上形成涂施材料圖案；通過(guò)使用所述傳感器將光照射到所述襯底上來(lái)獲得光點(diǎn)與所述涂施材料圖案之間的距離相對(duì)于所述涂施構(gòu)件的垂直位置的變化率；基于所述所獲得的所述光點(diǎn)與所述涂施材料圖案之間的所述距離相對(duì)于所述涂施構(gòu)件的所述垂直位置的變化率，計(jì)算相對(duì)于既定在實(shí)際過(guò)程中使用的所述涂施構(gòu)件的垂直位置的所述光點(diǎn)與所述涂施材料圖案之間的距離值；將所述所計(jì)算的所述光點(diǎn)與所述涂施材料圖案之間的距離值與預(yù)設(shè)距離值進(jìn)行比較；以及基于比較結(jié)果，通過(guò)控制所述傳感器與所述涂施構(gòu)件之間的距離來(lái)控制所述光點(diǎn)與所述涂施材料圖案之間的所述距離。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于從所述傳感器照射的所述光相對(duì)于所述襯 底具有在50度到70度的范圍內(nèi)的恒定傾角。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于使用所述涂施構(gòu)件在所述襯底上形成所述 涂施材料圖案包括控制所述涂施構(gòu)件的所述垂直位置，使其與既定在實(shí)際過(guò)程中使用的 所述涂施構(gòu)件的所述垂直位置相同；以及在所述襯底上形成所述涂施材料圖案。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于獲得所述光點(diǎn)與所述涂施材料圖案之間的 所述距離相對(duì)于所述涂施構(gòu)件的所述垂直位置的所述變化率包括升高或降低所述涂施構(gòu)件，以使所述涂施構(gòu)件相對(duì)于所述襯底定位在兩個(gè)或兩個(gè)以上 不同位置處；以及測(cè)量相對(duì)于所述涂施構(gòu)件的相應(yīng)垂直位置的所述光點(diǎn)與所述涂施材料圖案之間的所 述距離，以便獲得所述光點(diǎn)與所述涂施材料圖案之間的所述距離相對(duì)于所述涂施構(gòu)件的所 述垂直位置的所述變化率。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于使用所述涂施構(gòu)件的所述兩個(gè)或兩個(gè)以上 不同垂直位置處的所述光點(diǎn)與所述涂施材料圖案之間的距離值來(lái)計(jì)算相對(duì)于既定在實(shí)際 過(guò)程中使用的所述涂施構(gòu)件的所述垂直位置的所述光點(diǎn)與所述涂施材料圖案之間的所述 距離值。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于假定將所述涂施構(gòu)件的所述垂直位置表示 為H，將相對(duì)于所述涂施構(gòu)件的所述垂直位置的所述光點(diǎn)與所述涂施材料圖案之間的所述 距離值表示為X，那么可將所述垂直位置表達(dá)為等式H = AX+B,且使用所述等式來(lái)計(jì)算相對(duì) 于既定在實(shí)際過(guò)程中使用的所述涂施構(gòu)件的所述垂直位置的所述光點(diǎn)與所述涂施材料圖 案之間的所述距離值。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于測(cè)量相對(duì)于所述涂施構(gòu)件的所述相應(yīng)垂直 位置的所述光點(diǎn)與所述涂施材料圖案之間的所述距離包括控制所述涂施構(gòu)件的所述垂直位置；使用所述傳感器將光照射到所述襯底上； 將從所述傳感器照射到所述襯底上的所述光所形成的所述光點(diǎn)最初位于所述襯底上的點(diǎn)設(shè)置為虛擬坐標(biāo)系上的參考坐標(biāo)；通過(guò)在連續(xù)照射所述光的同時(shí)移動(dòng)所述分配器且使用所述光來(lái)檢測(cè)所述涂施材料圖 案的中心點(diǎn)，且在所述虛擬坐標(biāo)系上標(biāo)記所述中心點(diǎn)；以及計(jì)算設(shè)置在所述虛擬坐標(biāo)系上的所述參考坐標(biāo)與標(biāo)記在所述虛擬坐標(biāo)系上的所述涂 施材料圖案的所述中心點(diǎn)的坐標(biāo)之間的差異。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于檢測(cè)所述涂施材料圖案的所述中心點(diǎn)包括水平移動(dòng)所述分配器，且使用所述分配器的所述傳感器連續(xù)地照射光，以檢測(cè)所述涂 施材料圖案的具有最大厚度的位置；以及將具有所述最大厚度的所述位置的中心設(shè)置為所述中心點(diǎn)。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于檢測(cè)所述涂施材料圖案的所述中心點(diǎn)包括使用所述傳感器來(lái)測(cè)量所述涂施材料圖案的線寬；以及將所述所測(cè)量的所述涂施材料圖案的線寬的中心設(shè)置為所述中心點(diǎn)。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于在控制所述涂施構(gòu)件的所述垂直位置期 間，控制所述涂施構(gòu)件的所述垂直位置使其高于既定在實(shí)際過(guò)程中使用的所述涂施構(gòu)件的 所述垂直位置。
全文摘要
本發(fā)明提供一種控制涂施設(shè)備的方法，所述方法包含使用涂施構(gòu)件在襯底上形成涂施材料圖案；通過(guò)使用傳感器將光照射到襯底來(lái)獲得光點(diǎn)與涂施材料圖案之間的距離相對(duì)于涂施構(gòu)件的垂直位置的變化率；基于所獲得的光點(diǎn)與涂施材料圖案之間的距離相對(duì)于涂施構(gòu)件的垂直位置的變化率，計(jì)算相對(duì)于既定在實(shí)際過(guò)程中使用的涂施構(gòu)件的垂直位置的光點(diǎn)與涂施材料圖案之間的距離值；將所計(jì)算的光點(diǎn)與涂施材料圖案之間的距離值與預(yù)設(shè)距離值進(jìn)行比較；以及基于比較結(jié)果，通過(guò)控制傳感器與涂施構(gòu)件之間的距離來(lái)控制光點(diǎn)與涂施材料圖案之間的距離?？稍跓o(wú)額外儀器的情況下測(cè)量光點(diǎn)與涂施材料圖案之間的距離，且可改進(jìn)測(cè)量所述距離的準(zhǔn)確性。
文檔編號(hào)G01B11/02GK101987317SQ201010240769
公開日2011年3月23日 申請(qǐng)日期2010年7月28日 優(yōu)先權(quán)日2009年7月29日
發(fā)明者吳昇勛, 成元珉, 申慶澈, 金光賢 申請(qǐng)人:Ap系統(tǒng)股份有限公司