專利名稱：耐壓探測(cè)器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于監(jiān)視加壓的過程的探測(cè)器，以及用于監(jiān)視在其中產(chǎn)生一種或多種 有害物質(zhì)的過程的方法。
背景技術(shù)：
當(dāng)了解生產(chǎn)過程的各個(gè)階段中的起始物質(zhì)、反應(yīng)混合物或產(chǎn)物的瞬時(shí)成分及質(zhì)量 時(shí)，可有效地控制化學(xué)生產(chǎn)過程。在線光譜測(cè)量方法允許直接持續(xù)地監(jiān)視運(yùn)行的過程。由 于通過光學(xué)探測(cè)器的分析在直接樣本接觸中非侵入地發(fā)生，并且無需精心取樣或準(zhǔn)備要分 析的物質(zhì)混合物即可操作，因而在此處，光學(xué)探測(cè)器具有特別的重要性。對(duì)于光學(xué)探測(cè)器的可用性，接近被檢測(cè)的物質(zhì)或物質(zhì)混合物是至關(guān)緊要的。按照 慣例在密閉的反應(yīng)容器和/或管道中進(jìn)行化學(xué)過程。對(duì)用來分析的波長(zhǎng)范圍而言，這些反 應(yīng)容器和/或管道通常是不透明的。因而為了使得能夠追蹤在反應(yīng)器空間或連接的管道中的過程，有必要提供對(duì)使用 的波長(zhǎng)范圍而言透明的窗。由于過程中要分析物質(zhì)的可能毒性，給這些窗賦予了關(guān)于不漏性的嚴(yán)格要求，特 別是對(duì)于在高壓下操作的過程。為了在反應(yīng)器中輸入和輸出電磁輻射，通常使用所謂的耦合線(coupling line)。 這些線是柔軟的線，其使得能夠無需沿著某路徑精確定位光學(xué)元件即可越過該路徑傳遞電 磁輻射。首先，已知來自電信領(lǐng)域的玻璃光纖纜線。在過程監(jiān)視或在線分析中，所謂的波導(dǎo) 耦合件或?qū)Ｓ玫柠u化銀或氟化銀玻璃光導(dǎo)被用于中紅外光譜范圍GOOIOOOcnT1)中的應(yīng) 用。在近紅外光譜范圍(NIR :4000-14000cm_1)和紫外線/可見區(qū)(UV/Vis :200-700nm)的 應(yīng)用中，優(yōu)選使用石英光導(dǎo)，其在此光譜范圍中可提供低衰減。出版物DE10230857A1描述了用于用壓力監(jiān)視進(jìn)行在線分析的過程窗。在管道的 兩個(gè)相對(duì)的位置處形成兩個(gè)窗，可穿過窗將電磁輻射輸入管道并再次輸出。各個(gè)窗設(shè)置在 帶螺紋的插入件中。帶螺紋的插入件和管道之間以及窗和帶螺紋的插入件之間的兩個(gè)密封 件分別確保將管道內(nèi)部與外界隔離。帶螺紋的插入件被擰進(jìn)支持件中(測(cè)量單元主體)， 支持件連接在管道上。帶螺紋的插入件和窗之間與帶螺紋的插入件和支持件之間都有第一 和第二密封件之間的腔，這些腔通過孔彼此連接。通過帶螺紋的插入件和支持件之間的密 封件將腔與外界隔離。存在通過過程窗的管道內(nèi)部與外界的雙重密封。除了該雙重保障之 外，該裝置使得能夠監(jiān)視泄漏。如果與管道內(nèi)部接觸的其中一個(gè)密封件失去了它的效果，則 物質(zhì)從加壓的管道進(jìn)入腔中。上升的壓力可通過連接到腔上的壓力傳感器記錄。光學(xué)探測(cè)器的尺寸和幾何形狀以及包含在光學(xué)探測(cè)器中的光學(xué)元件并不允許分 別窗上的雙重密封，該窗呈DE10230857A1中公開的過程窗形式。此外通常已知光導(dǎo)和波導(dǎo) 機(jī)械上可承載的強(qiáng)度比例如在根據(jù)DE10230857A1的過程窗中使用的石英玻璃或藍(lán)寶石窗 小得多。因此，光導(dǎo)或波導(dǎo)的耐壓密封也是更需要和/或更精心設(shè)計(jì)的。
在當(dāng)前可商業(yè)獲得的探測(cè)器中，光導(dǎo)或波導(dǎo)本身因此并不與過程空間隔離，但替 代的是，從源將光輸入，光經(jīng)由第一耦合線穿過窗進(jìn)入過程空間并且又穿過另一個(gè)窗或同 一個(gè)窗輸出，以便經(jīng)由第二耦合線到達(dá)檢測(cè)器，通過在窗和過程空間之間的密封件實(shí)現(xiàn)將 過程空間與外界(耦合線位于外界中)的隔離。這例如在專利說明書DE4414975C2中進(jìn)行了公開。在所述專利說明書的圖2中， 通過密封件將耐壓窗與外殼隔離。在該外殼中布置了光導(dǎo)，光導(dǎo)輸入和輸出穿過窗進(jìn)入反 應(yīng)空間的光。作為在圖2中的裝置中的具體特征，通過粘結(jié)劑將光導(dǎo)附加地連接到外殼上。 這些粘結(jié)結(jié)合旨在形成耐壓屏障。然而，由于許多物質(zhì)(例如溶劑或強(qiáng)氧化劑)溶解粘結(jié) 劑或與粘結(jié)劑反應(yīng)使得此屏障被破壞，因此此類附加的壓力屏障通常并不可用。另外，粘結(jié) 結(jié)合并不是確保關(guān)于壓力密閉性、熱穩(wěn)定性和化學(xué)穩(wěn)定性的過程相容密封的限定的連接。在現(xiàn)有技術(shù)中描述的其它探測(cè)器包括了簡(jiǎn)易密封件，通過簡(jiǎn)易密封件過程空間 通過窗與探測(cè)器光學(xué)器件隔離(例如見US-A-5185834、US-A-5170056、US-A-4835389、 US-A4988195、US-A5051551、DE-A4038354)。在發(fā)生在壓力下的過程中，存在窗破裂或在密 封件處泄漏的風(fēng)險(xiǎn)，從而來自過程的物質(zhì)可到達(dá)外界。除了損壞光學(xué)探測(cè)器的風(fēng)險(xiǎn)外，特別 是在毒性物質(zhì)的情況下，還存在危害人和環(huán)境的風(fēng)險(xiǎn)。因而在所述現(xiàn)有技術(shù)的基礎(chǔ)上，存在一種目標(biāo)，以提供允許在線監(jiān)視加壓的過程 并且具有安全預(yù)防(如果設(shè)置成與過程空間接觸的密封件失效，其將有效地防止物質(zhì)從過 程空間進(jìn)入環(huán)境中)的探測(cè)器。

發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本發(fā)明，通過一種探測(cè)器實(shí)現(xiàn)該目標(biāo)，該探測(cè)器至少包括外殼，其具有第一窗和第二窗，可使得第一窗與過程空間形成接觸，而第二窗與第 一窗以及外殼一起包圍腔；密封機(jī)構(gòu)，其將該腔與過程隔離并與外界隔離；至少一條耦合線，其布置在第一窗和第二窗之間，使得穿過兩個(gè)窗當(dāng)中的一個(gè)進(jìn) 入的電磁輻射可經(jīng)由耦合線被引導(dǎo)穿過另一個(gè)相應(yīng)的窗。外殼用于保持第一窗和第二窗。外殼意在指主體，窗可以被壓力密閉地引入該主 體。外殼可構(gòu)造成單件式或多件式。如果構(gòu)造成多件式，則可壓力密閉地連接外殼的各個(gè) 構(gòu)件以形成連續(xù)主體。外殼優(yōu)選地構(gòu)造成中空的圓柱體。當(dāng)將根據(jù)本發(fā)明的探測(cè)器用于過程監(jiān)視時(shí)，第一窗接觸過程空間。此處，窗意在指 探測(cè)器的構(gòu)件，該構(gòu)件對(duì)于電磁輻射而言至少部分地透明。對(duì)于在從200到700nm(UV/可 見)的波長(zhǎng)范圍中和/或在從400到4000cm-1 (IR)和/或4000到14000cm"1 (NIR)的波長(zhǎng) 范圍中的電磁輻射而言，窗優(yōu)選地至少部分地透明。部分透明度意在指至少50%的透明度， 即至少50%的入射輻射穿過該窗。外殼具有允許在外殼和包圍過程空間的容器(管道、反應(yīng)器)之間的耐壓連接的 機(jī)構(gòu)。另外提供密封機(jī)構(gòu)，其將在外殼中的過程側(cè)上的窗隔離。密封機(jī)構(gòu)意在指本領(lǐng)域技 術(shù)人員已知的用于窗的耐壓密封的機(jī)構(gòu)，例如0形環(huán)密封件。外殼具有至少一個(gè)另外的窗，在此處稱其為第二窗。外殼、第一窗和第二窗包圍腔。第二窗上的密封機(jī)構(gòu)將該腔與外界隔離。至少一條耦合線布置在該腔中，位于第一窗 和第二窗之間，使得電磁輻射可被引導(dǎo)穿過一個(gè)窗，經(jīng)由耦合線穿過另一個(gè)窗。耦合線意在指優(yōu)選地柔軟的物體，其可越過路徑傳遞輻射。耦合線優(yōu)選具有低衰 減。優(yōu)選的耦合線是用于傳遞在NIR或UV/可見范圍中的電磁輻射的光導(dǎo)，或者是用于傳 遞在IR范圍中的電磁輻射的波導(dǎo)或光導(dǎo)。耦合線為電磁輻射在窗之間提供了連接。窗、外殼、密封機(jī)構(gòu)和耦合線的布置構(gòu)造 成以便穿過窗的光學(xué)連接還代表雙重壓力屏障，其防止來自過程的物質(zhì)進(jìn)入外界。如果設(shè)置成與過程空間接觸的第一窗破裂，或者其密封件失效，來自過程空間的 物質(zhì)因而可進(jìn)入由窗和外殼形成的腔。第二窗的另外的密封件有效地防止來自過程空間的 物質(zhì)穿過腔進(jìn)入外界。在一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例中，第一窗的密封機(jī)構(gòu)是可更換的(例如0形 環(huán)密封件)，但第二窗優(yōu)選地不可釋放地連接到外殼上(例如通過焊接頭的方式)。也可想 象將可更換的密封件用于兩個(gè)窗。根據(jù)本發(fā)明的探測(cè)器優(yōu)選地具有允許腔被監(jiān)視的機(jī)構(gòu)。在一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例中， 在外殼上提供了使得能夠沖洗腔的連接件。如果發(fā)生泄漏，則進(jìn)入腔的物質(zhì)將通過沖洗氣 體抽出并且可被檢測(cè)到。在另一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例中，提供監(jiān)視在腔中的壓力的壓力傳感器。 可設(shè)想對(duì)于監(jiān)視腔的另外的可能性。根據(jù)本發(fā)明的探測(cè)器特別適合于加壓的過程的光學(xué)監(jiān)視。監(jiān)視意在指追蹤作為時(shí) 間的函數(shù)的一個(gè)或多個(gè)過程參數(shù)，參數(shù)提供關(guān)于過程的信息。監(jiān)視涉及記錄一個(gè)或多個(gè)參 數(shù)并且評(píng)估測(cè)得的參數(shù)值。該評(píng)估可例如為將測(cè)得的參數(shù)值和給定值比較。質(zhì)量特征和過程參數(shù)的優(yōu)選結(jié)合在過程中的檢查用于監(jiān)視正確的操作、不規(guī)則狀 態(tài)和過程的早期檢測(cè)、以及故障影響的伴隨限制。過程監(jiān)視從而可作為警告系統(tǒng)使用，以避免昂貴的過程中斷和系統(tǒng)停機(jī)時(shí)間。實(shí) 時(shí)的設(shè)定值和實(shí)際值的比較(通過結(jié)合在過程中的監(jiān)視是可能的)還可用來通過改變控制 變量(過程調(diào)節(jié))而故意地影響過程。光學(xué)監(jiān)視意在指將存在于過程中的物質(zhì)與電磁輻射的相互作用用于記錄過程 參數(shù)。例如，過程中的物質(zhì)濃度可通過測(cè)量入射電磁輻射的吸收而被追蹤(參見例如 EP1512960B1)。根據(jù)本發(fā)明的探測(cè)器特別適合于監(jiān)視在其中出現(xiàn)一種或多種有害物質(zhì)的過程。有 害物質(zhì)意在指可能對(duì)人類、動(dòng)物和/或環(huán)境有害的物質(zhì)。有害物質(zhì)可例如是有毒的、腐蝕性 的和/或致癌的。有害物質(zhì)的一個(gè)示例是光氣。有害物質(zhì)可例如在被監(jiān)視的過程中作為離析物使用、作為中間產(chǎn)物出現(xiàn)或作為最 終產(chǎn)物形成。根據(jù)本發(fā)明的探測(cè)器使得能夠監(jiān)視在其中出現(xiàn)有害物質(zhì)的過程，以便保證過 程正確地發(fā)生。如果過程側(cè)上的窗破裂或者過程側(cè)的窗上的密封件失效，過程側(cè)上與外界 隔開的窗的雙重密封將保證有害物質(zhì)不會(huì)到達(dá)外界。如果在過程側(cè)上的窗破裂，有害物質(zhì) 會(huì)進(jìn)入腔，可不斷地監(jiān)視腔以立即檢測(cè)泄漏。本發(fā)明因而還涉及將根據(jù)本發(fā)明的探測(cè)器用于監(jiān)視過程，特別是在其中出現(xiàn)一種 或多種有害物質(zhì)的加壓的過程。在一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例中，根據(jù)本發(fā)明的探測(cè)器被用于監(jiān)視 在其中出現(xiàn)光氣的過程。本發(fā)明另外涉及用于監(jiān)視在其中出現(xiàn)一種或多種有害物質(zhì)的過程的方法，其特征在于，穿過壓力密閉的窗將電磁輻射輸入耦合線，并且通過耦合線使該電磁輻射穿過在過 程側(cè)上的另外的壓力密閉窗而被輸入過程空間。壓力密閉的窗包圍腔，該腔與過程空間以及外界隔離。在窗之間的至少一條耦合 線光學(xué)地將它們彼此連接，使得電磁輻射可穿過一個(gè)窗，經(jīng)由耦合線到達(dá)另一個(gè)窗，并且穿 過該另一個(gè)窗。在根據(jù)本發(fā)明的方法的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例中，關(guān)于從過程空間進(jìn)入腔的物質(zhì)而監(jiān) 視腔。例如通過壓力測(cè)量、利用光譜方法、通過質(zhì)譜測(cè)量或通過氣相色譜分析實(shí)現(xiàn)該監(jiān)視。在一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例中，已經(jīng)按所述方式輸入過程空間的電磁輻射又從過程空間 穿過在過程側(cè)上的另外的窗(另外的窗與過程側(cè)上的窗相對(duì)放置)輸出，并且電磁輻射輸 入耦合線且被引導(dǎo)穿過壓力密閉的窗到達(dá)分光計(jì)，以便為至少一個(gè)波長(zhǎng)的變更的強(qiáng)度而檢 查該電磁輻射。優(yōu)選地，在從過程空間輸出后，電磁輻射被引導(dǎo)穿過用于輸入過程空間的至少一 個(gè)窗而到達(dá)分光計(jì)。優(yōu)選地使用IR (400-4000cm_1)、NIR (4000-14000cm_1)和 / 或 UV/ 可見(200_700nm)
輻射作為電磁輻射。在一個(gè)根據(jù)本發(fā)明的方法的優(yōu)選實(shí)施例中，監(jiān)視在其中光氣作為有害物質(zhì)出現(xiàn)的 過程。借助具體示例性實(shí)施例(但不將本發(fā)明限于此)，以下將更詳細(xì)地解釋本發(fā)明。


圖1顯示了用于監(jiān)視過程的在管道中的兩個(gè)過程窗的布置的示意性表示。 圖2顯示了根據(jù)本發(fā)明的呈可浸入的探測(cè)器形式的探測(cè)器的示意性表示。 部件列表 2外殼
10至過程空間的窗 15窗 17窗框架 20腔
30密封機(jī)構(gòu) 40光導(dǎo) 50透鏡 55鏡子 60窗框架 61連接件 62連接件 80管道 85螺旋接頭
具體實(shí)施例方式在一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例中，根據(jù)本發(fā)明的探測(cè)器構(gòu)造成過程窗。為了監(jiān)視在反應(yīng)器 或管道中的過程，在反應(yīng)器或管道的相對(duì)位置處布置兩個(gè)過程窗，使得在窗之間存在具有 限定寬度的間隙。電磁輻射可穿過一個(gè)過程窗而被輸入過程空間。對(duì)于光譜分析，電磁輻 射的吸收發(fā)生在兩個(gè)相對(duì)的過程窗之間的層內(nèi)。傳遞的輻射穿過第二過程窗從過程空間輸 出。圖1用橫截面的示意性表示顯示了兩個(gè)過程窗的此類布置。它們通過螺旋接頭(85) 凸緣連接在管道(80)上。右側(cè)的過程窗顯示了根據(jù)本發(fā)明的探測(cè)器的全部基本構(gòu)件。外 殼⑵用來容納第一窗(10)，第一窗(10)與過程空間接觸。第二窗(15)另外連接到外殼 上。外殼和窗形成腔(20)。腔(20)通過密封機(jī)構(gòu)(30)與過程空間隔離。第二窗例如通過焊接頭而穩(wěn)固地安裝在窗框架上，但第一窗可釋放地連接到外殼 上并且可被更換。連接件(61，62)裝配在外殼中，它們使得能夠沖洗腔(由箭頭指示)。作為耦合線 的光導(dǎo)(40)在第一窗和第二窗之間提供了光學(xué)連接。優(yōu)選地還有從腔(20)通向在第二窗 (15)的相對(duì)側(cè)上的電磁輻射源或檢測(cè)器的光導(dǎo)。本領(lǐng)域技術(shù)人員已知電磁輻射從一個(gè)光導(dǎo)穿過窗到達(dá)另一個(gè)光導(dǎo)的傳遞并不能 輕易實(shí)現(xiàn)，因?yàn)楣鈱?dǎo)僅具有小的橫截面并且光導(dǎo)的直接耦合要求非常精確地越過窗對(duì)它們 進(jìn)行定位。另外，來自光導(dǎo)的電磁輻射呈發(fā)散輻射的形式，使得只有從一個(gè)光導(dǎo)出現(xiàn)的輻射 的一小部分將實(shí)際上進(jìn)入在窗的相對(duì)側(cè)上的另一個(gè)光導(dǎo)。根據(jù)本發(fā)明的探測(cè)器因而具有透鏡(50)，透鏡(50)引導(dǎo)加寬的準(zhǔn)直光束穿過窗 并且將該準(zhǔn)直光束再次輸入光導(dǎo)。使用此類準(zhǔn)直透鏡因而不僅僅允許電磁輻射輸入過程空 間以及從過程空間輸出，并且還允許穿過壓力密閉的窗傳遞信號(hào)。在另一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例中，根據(jù)本發(fā)明的探測(cè)器作為可浸入的探測(cè)器而提供。在 圖2中示意性地表示了該可浸入的探測(cè)器的一個(gè)示例。在圖1和圖2中的相同標(biāo)號(hào)分別具 有相同含義。提供兩個(gè)窗(10)，可使得它們與過程空間接觸。在窗(10)之間，存在具有限 定寬度的間隙，以便能夠進(jìn)行限定的層厚上的光譜分析。電磁輻射穿過第一光導(dǎo)(40)輸入根據(jù)本發(fā)明的探測(cè)器，并且穿過另外的光導(dǎo)(由 箭頭表示)從探測(cè)器輸出。提供腔(20)，該腔可通過密封機(jī)構(gòu)(30)與過程空間隔離。另外，第二窗(15)連 接到外殼上，并且將腔與外界隔離。該第二窗通過例如焊接頭而穩(wěn)固地裝配在窗框架(60) 中。借助于透鏡(50)發(fā)生電磁輻射穿過窗的傳遞。鏡子(55)確保電磁輻射的偏轉(zhuǎn)。
權(quán)利要求
一種用于監(jiān)視加壓的過程的探測(cè)器，其至少包括外殼，其具有第一窗和第二窗，能夠使所述第一窗與過程空間形成接觸，而所述第二窗和所述第一窗以及所述外殼一起包圍腔；密封機(jī)構(gòu)，其將所述腔與所述過程隔離并與外界隔離；至少一條耦合線，其布置在所述第一窗和所述第二窗之間，以便穿過這兩個(gè)窗的其中之一進(jìn)入的電磁輻射能夠經(jīng)由該耦合線被引導(dǎo)穿過另一個(gè)相應(yīng)的窗。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的探測(cè)器，其特征在于，所述第一窗是可更換的。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的探測(cè)器，其特征在于，所述第二窗被固定并且壓力密閉地 結(jié)合在所述外殼中。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3的任一項(xiàng)所述的探測(cè)器，其特征在于，所述探測(cè)器另外包括用于 沖洗所述腔的連接件。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至3的任一項(xiàng)所述的探測(cè)器，其特征在于，所述探測(cè)器另外或者包括 用于監(jiān)視在所述腔或沖洗氣體源中的壓力的壓力傳感器，或者包括用于記錄進(jìn)入所述腔的 物質(zhì)的傳感器。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至3的任一項(xiàng)所述的探測(cè)器，其特征在于，所述耦合線構(gòu)造為波導(dǎo)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至3的任一項(xiàng)所述的探測(cè)器，其特征在于，所述耦合線構(gòu)造為光導(dǎo)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的探測(cè)器，其特征在于，所述探測(cè)器另外包括用于傳遞電磁輻 射穿過至少一個(gè)窗的透鏡。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的探測(cè)器，其特征在于，所述探測(cè)器構(gòu)造為過程窗。
10.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的探測(cè)器，其特征在于，所述探測(cè)器構(gòu)造為可浸入的探測(cè)ο
11.將根據(jù)權(quán)利要求1至10的任一項(xiàng)所述的探測(cè)器用于監(jiān)視過程，尤其是在其中出現(xiàn) 一種或多種有害物質(zhì)的加壓的過程。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的探測(cè)器的使用，其特征在于，光氣作為有害物質(zhì)出現(xiàn)。
13.一種用于監(jiān)視在其中出現(xiàn)一種或多種有害物質(zhì)的過程的方法，其特征在于，輸入電 磁輻射，使其穿過壓力密閉的窗進(jìn)入耦合線，并且通過耦合線使所述電磁輻射穿過在過程 側(cè)上的另外的壓力密閉的窗而進(jìn)入所述過程空間。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其特征在于，所述電磁輻射又從所述過程空間輸出， 穿過與在所述過程側(cè)上的所述窗相對(duì)設(shè)置的在所述過程側(cè)上的另外的窗，輸入耦合線并且 被引導(dǎo)穿過壓力密閉的窗而到達(dá)分光計(jì)，以便對(duì)至少一個(gè)波長(zhǎng)的改變后的強(qiáng)度而檢查所述 電磁輻射。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其特征在于，所述電磁輻射在從所述過程空間輸出 后，被引導(dǎo)穿過用于輸入所述過程空間的至少一個(gè)窗而到達(dá)分光計(jì)。
16.根據(jù)權(quán)利要求13至15的任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，關(guān)于從所述過程空間進(jìn) 入所述腔的物質(zhì)而監(jiān)視由所述壓力密閉的窗包圍的所述腔。
17.根據(jù)權(quán)利要求13至16的任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，光氣作為有害物質(zhì)出現(xiàn)。
全文摘要
本發(fā)明涉及耐壓探測(cè)器，具體而言，涉及用于監(jiān)視加壓的過程的探測(cè)器以及用于監(jiān)視在其中出現(xiàn)一種或多種有害物質(zhì)的過程的方法。
文檔編號(hào)G01N21/03GK101929948SQ201010211590
公開日2010年12月29日 申請(qǐng)日期2010年6月17日 優(yōu)先權(quán)日2009年6月17日
發(fā)明者A·羅斯, C·施溫寧, C-K·科爾頓斯基, H·坎德勒, H·埃布丁, M·戈特, P·?？颂? T·施溫達(dá)克 申請(qǐng)人:拜爾材料科學(xué)股份公司