專(zhuān)利名稱(chēng)：：多面鏡校準(zhǔn)系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明總的是涉及裝置校準(zhǔn)，且具體而言涉及用以引導(dǎo)激光束的多轉(zhuǎn)向面鏡的校準(zhǔn)。
背景技術(shù)：
：激光束已用在制造系統(tǒng)多年，針對(duì)諸如基板等物體實(shí)施如物體的鉆孔、熔融或燒蝕等作業(yè)。為縮短制造時(shí)間，這些系統(tǒng)可使用多激光束，因而對(duì)于這些多光束系統(tǒng)的準(zhǔn)確性的要求不斷增加。關(guān)于MUller等人的第6，615，099號(hào)美國(guó)專(zhuān)利，是揭露一種使用“偏轉(zhuǎn)裝置(deflectiondevice)”用以校準(zhǔn)激光加工機(jī)械的作業(yè)程序，所述專(zhuān)利的揭示內(nèi)容以引用方式并入本文中。所述方法首先產(chǎn)生校準(zhǔn)板的影像，用以定義由所述反射裝置造成的成像誤差。在所述測(cè)試板上形成測(cè)試圖案，并測(cè)量所述測(cè)試圖案以定義光學(xué)偏移后，所述校準(zhǔn)板被測(cè)試板替換。多個(gè)工件可通過(guò)補(bǔ)償這些成像誤差及所述光學(xué)偏移后而在所述機(jī)械中進(jìn)行加工。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明提供改進(jìn)系統(tǒng)及方法應(yīng)用在用以引導(dǎo)激光束的多面鏡的校準(zhǔn)。藉此，根據(jù)本發(fā)明的一方面是提供一種光學(xué)系統(tǒng)，包含多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡，分別被設(shè)置用以引導(dǎo)激光束至場(chǎng)域內(nèi)的可選擇位置；多個(gè)面鏡方位傳感器，用以感測(cè)這些選擇性引導(dǎo)面鏡的方位，并提供多個(gè)面鏡方位輸出；以及自動(dòng)校準(zhǔn)子系統(tǒng)，用以自動(dòng)校準(zhǔn)這些選擇性引導(dǎo)面鏡，所述自動(dòng)校準(zhǔn)子系統(tǒng)包含標(biāo)靶，具有至少與各所述選擇性引導(dǎo)面鏡的所述場(chǎng)域一樣大的面積，并用以在所述標(biāo)靶上提供由激光束照射的光學(xué)可見(jiàn)指示，所述標(biāo)靶是可復(fù)寫(xiě)的并具有多個(gè)光學(xué)可見(jiàn)的基準(zhǔn)標(biāo)記；標(biāo)靶定位器，用以在各所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡引導(dǎo)所述激光束的所述標(biāo)靶上的可選擇位置的同時(shí)，將所述標(biāo)靶選擇性地定位在相對(duì)應(yīng)于各所述選擇性引導(dǎo)面鏡的這些場(chǎng)域中；光學(xué)傳感器，用以在所述激光束照射在所述標(biāo)靶上之后查看所述標(biāo)靶，并提供多個(gè)激光束照射輸出；以及相關(guān)器，用以因應(yīng)這些面鏡方位輸出以及這些激光束照射輸出而提供校準(zhǔn)輸出。根據(jù)本發(fā)明的一較佳實(shí)施例，所述光學(xué)系統(tǒng)可用在校準(zhǔn)階段及生產(chǎn)階段中。較佳地，所述校準(zhǔn)階段包含將各所述多個(gè)面鏡定位在第一方位；利用這些傳感器，感測(cè)各所述多個(gè)面鏡的所述第一方位并提供多個(gè)面鏡方位輸出；固定所述標(biāo)靶至所述標(biāo)靶定位器；針對(duì)各所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡通過(guò)定位所述標(biāo)靶定位器，在所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡其中之一引導(dǎo)所述激光束至所述標(biāo)靶上的可選擇位置時(shí)，將所述標(biāo)靶選擇性地定位在所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡其中之一的所述場(chǎng)域中，進(jìn)而在所述標(biāo)靶上產(chǎn)生多個(gè)激光束照射標(biāo)記；在所述激光束照射在所述標(biāo)靶上之后查看所述標(biāo)靶，并為所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡其中之一提供多個(gè)激光束照射輸出；以及抹除這些激光束照射標(biāo)記；以及將這些面鏡方位輸出與這些激光束照射輸出產(chǎn)生關(guān)聯(lián)，以為各所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡提供校準(zhǔn)輸出。或者，所述校準(zhǔn)階段包含將各所述多個(gè)面鏡定位在第一方位；利用這些傳感器，感測(cè)各所述多個(gè)面鏡的所述第一方位并提供多個(gè)面鏡方位輸出；固定所述標(biāo)靶至所述標(biāo)靶定位器；通過(guò)定位所述標(biāo)靶定位器，在各所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡引導(dǎo)所述激光束至所述標(biāo)靶上的可選擇位置時(shí)，將所述標(biāo)靶選擇性地定位在相對(duì)應(yīng)各所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡的這些場(chǎng)域中；在所述激光束照射在所述標(biāo)靶上之后查看所述標(biāo)靶，并提供多個(gè)激光束照射輸出；以及，將這些面鏡方位輸出與這些激光束照射輸出產(chǎn)生關(guān)聯(lián)，以為各所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡提供校準(zhǔn)輸出。較佳地，所述生產(chǎn)階段包含激光鉆孔階段、激光燒蝕階段及激光加工階段至少其中之一。根據(jù)本發(fā)明的較佳實(shí)施例，所述標(biāo)靶包含基板；光致變色層(photochromiclayer)，形成在所述基板的上表面；透明層，覆蓋在所述光致變色層上；金屬層，形成在所述基板的下表面；及熱電致冷器(thermoelectriccooler)，耦合至所述金屬層的下表面。另外，這些可見(jiàn)基準(zhǔn)標(biāo)記是形成在所述光致變色層內(nèi)。較佳地，所述光學(xué)系統(tǒng)也包含多個(gè)可調(diào)的面鏡安裝座，這些可調(diào)的面鏡安裝座包含這些面鏡方位傳感器。另外，各所述多個(gè)面鏡安裝座具有二旋轉(zhuǎn)自由度。另外或另一選擇為，所述多個(gè)面鏡安裝座包含多個(gè)電流計(jì)馬達(dá)(galvanometricmotor)，供所述多個(gè)面鏡附裝。在本發(fā)明的一較佳實(shí)施例中，所述光學(xué)系統(tǒng)也包含產(chǎn)生所述激光束的一激光。根據(jù)本發(fā)明的另一方面是提供一種用在校準(zhǔn)多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡的方法，所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡被設(shè)置用以引導(dǎo)激光束至場(chǎng)域內(nèi)的可選擇的位置，所述方法包含定位各所述多個(gè)面鏡在第一方位；感測(cè)各所述多個(gè)面鏡的所述第一方位并提供多個(gè)面鏡方位輸出；固定標(biāo)靶至標(biāo)靶定位器，所述標(biāo)靶具有至少與各所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡的所述場(chǎng)域樣大的面積，并在所述標(biāo)靶上提供由激光束照射的光學(xué)可見(jiàn)指示，所述標(biāo)靶是可覆寫(xiě)的并具有多個(gè)光學(xué)可見(jiàn)的基準(zhǔn)標(biāo)記；對(duì)于各所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡，通過(guò)定位所述標(biāo)靶定位器，在所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡其中之一在引導(dǎo)所述激光束至所述標(biāo)靶上的可選擇位置時(shí)，選擇性地定位所述標(biāo)靶在所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡其中之一的所述場(chǎng)域中，進(jìn)而在所述標(biāo)靶上產(chǎn)生多個(gè)激光束照射標(biāo)記；在所述激光束照射在所述標(biāo)靶上之后查看所述標(biāo)靶，并為所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡其中之一提供多個(gè)激光束照射輸出，以及抹除這些激光束照射標(biāo)記；以及關(guān)聯(lián)這些面鏡方位輸出與這些激光束照射輸出，以為各所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡提供校準(zhǔn)輸出。較佳地，所述方法也包含，對(duì)于各所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡，在所述抹除步驟之后冷卻所述標(biāo)靶。根據(jù)本發(fā)明的另一較佳實(shí)施例，也提供一種用在校準(zhǔn)多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡的方法，這些選擇性引導(dǎo)面鏡被設(shè)置用以弓I導(dǎo)激光束至場(chǎng)域內(nèi)的可選擇位置，所述方法包含定位各所述多個(gè)面鏡在第一方位；感測(cè)各所述多個(gè)面鏡的所述第一方位并提供多個(gè)面鏡方位輸出；固定標(biāo)靶至標(biāo)靶定位器，所述標(biāo)靶具有至少與各所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡的所述場(chǎng)域一樣大的面積，并在所述標(biāo)靶上提供由激光束照射的光學(xué)可見(jiàn)指示，所述標(biāo)靶是可覆寫(xiě)的并具有多個(gè)光學(xué)可見(jiàn)的基準(zhǔn)標(biāo)記；通過(guò)定位所述標(biāo)靶定位器，在各所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡在引導(dǎo)所述激光束至所述標(biāo)靶上的可選擇位置時(shí)，選擇性地定位所述標(biāo)靶在對(duì)應(yīng)各所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡的這些場(chǎng)域中；在所述激光束照射在所述標(biāo)靶上之后查看所述標(biāo)靶，并提供多個(gè)激光束照射輸出；以及關(guān)聯(lián)這些面鏡方位輸出與這些激光束照射輸出，以為各所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡提供校準(zhǔn)輸出。結(jié)合附圖及以下實(shí)施例的詳細(xì)說(shuō)明可更充分理解本發(fā)明，在附圖中圖1是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例鏡面校準(zhǔn)裝置的簡(jiǎn)化示意圖；圖2A及圖2B是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例，在所述裝置中使用的標(biāo)靶的簡(jiǎn)化示意圖；圖3是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例，在第一校準(zhǔn)模式中所述裝置的不同作業(yè)階段的簡(jiǎn)化示意圖；圖4是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例，顯示有標(biāo)記的所述標(biāo)靶的簡(jiǎn)化示意圖；圖5是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例，顯示由所述裝置的處理單元在產(chǎn)生校準(zhǔn)表或方程式的過(guò)程中的執(zhí)行步驟的簡(jiǎn)化流程圖；圖6是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，示例所述裝置的第二校準(zhǔn)模式的簡(jiǎn)化示意圖。圖7是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，所述處理單元執(zhí)行所述第二模式的步驟的一簡(jiǎn)化流程圖。具體實(shí)施例方式請(qǐng)參照?qǐng)D1，是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的面鏡校準(zhǔn)裝置20的簡(jiǎn)化示意圖。裝置20包含光學(xué)系統(tǒng)，所述光學(xué)系統(tǒng)處在處理單元36的全面控制下，并通常由所述裝置的控制人員操作。處理單元36通常包含通用計(jì)算機(jī)處理器，所述通用計(jì)算機(jī)處理器是以軟件編程，用以執(zhí)行本文所述的功能。舉例而言，所述軟件可通過(guò)網(wǎng)絡(luò)以電子形式下載到處理器中。此外或附加地，所述軟件可提供在實(shí)體媒體中，諸如光學(xué)、磁性或電子儲(chǔ)存媒體。更甚者，所述處理器的至少某些功能可由專(zhuān)用或可程序化硬件執(zhí)行。裝置20包含一組選擇性引導(dǎo)面鏡38，各所述引導(dǎo)面鏡的方位分別由處理單元36產(chǎn)生的各個(gè)指令單獨(dú)控制，這些指令使得所述處理單元能選擇每一欲定位的面鏡。這些引導(dǎo)面鏡在本文中也稱(chēng)為可定位面鏡，以作為使照射在其上的光束的轉(zhuǎn)向面鏡。裝置20包含光學(xué)傳感器44，在本文中假定為包含錄像機(jī)，光學(xué)傳感器44用作所述裝置用以校準(zhǔn)各所述面鏡的方位的自動(dòng)校準(zhǔn)子系統(tǒng)47的一部分。除傳感器44(在本文中也稱(chēng)為錄像機(jī)44)外，子系統(tǒng)47的組件包含可移動(dòng)工作臺(tái)42、可復(fù)寫(xiě)標(biāo)靶40以及產(chǎn)生相關(guān)器作用的處理單元36。下文詳細(xì)描述自動(dòng)校準(zhǔn)子系統(tǒng)47各組件的功能。一般而言，當(dāng)這些面鏡已校準(zhǔn)后，所述裝置中便不再需要錄像機(jī)44，可將所述錄像機(jī)移除。或者，所述錄像機(jī)可留在原處。當(dāng)這些可定位面鏡已校準(zhǔn)后，在所述裝置的生產(chǎn)階段，裝置20可作為激光鉆孔設(shè)備21，其中這些可定位面鏡用以引導(dǎo)相應(yīng)的激光子光束，在安裝在可移動(dòng)工作臺(tái)42上的材料(圖1中未圖示)中鉆取多個(gè)孔。除鉆孔外，應(yīng)理解，在所述生產(chǎn)階段，設(shè)備21可用在類(lèi)似在鉆孔的作業(yè)，例如材料的燒蝕及/或加工。因而，如自下文的描述可看出，裝置20的某些組件可執(zhí)行雙重功能，第一功能是關(guān)于這些組件在所述裝置的校準(zhǔn)階段中用以校準(zhǔn)可定位面鏡組38，第二功能是關(guān)于這些組件在所述裝置的生產(chǎn)階段中作為激光鉆孔之用。也如下文所述，裝置20的所述校準(zhǔn)階段可以多種不同模式實(shí)施。裝置20包含激光22，激光22通常是固態(tài)激光，產(chǎn)生在紫外光波段的單一激光束24脈波。所述光束的參數(shù)是依據(jù)自處理單元36而接收到的指令設(shè)定。在本發(fā)明實(shí)施例中，所述光束包含以約IOOkHz的重復(fù)率產(chǎn)生約30ns的脈波，每一脈波具有約為100μJ等級(jí)的能量，因此所述光束的平均功率約為10W。光束24穿過(guò)柱狀透鏡26，柱狀透鏡26將所述光束匯聚成實(shí)質(zhì)準(zhǔn)直光束，并被傳送至聲光致偏器(acousto-opticdeflector，A0D)28。這些激光脈波的大約全部能量均可用在所述生產(chǎn)階段。在本文所述的所述校準(zhǔn)階段中，通常將所述激光脈波能量降低到不足以對(duì)標(biāo)靶造成損害的程度。聲光致偏器28接收來(lái)自處理單元36的射頻(radio-frequency，RF)驅(qū)動(dòng)輸入，所述射頻輸入導(dǎo)致所述入射準(zhǔn)直激光束繞射形成單一或多個(gè)子光束29。多個(gè)子光束29通常產(chǎn)生在二維平面中。處理單元36可通過(guò)改變輸入聲光致偏器28的射頻輸入的參數(shù)而選擇這些子光束的數(shù)量以及這些子光束間的能量分布。在本發(fā)明實(shí)施例中使用的聲光致偏器是由法國(guó)Saint-R6my-I^s-Chevreuse的AAOptoelectronic生產(chǎn)的部件MQ180-A0，2-UV。多個(gè)子光束29被中繼透鏡30傳送至第一面鏡組32。定位面鏡組32，用以將分別入射光束以三維子光束群41形式反射至第二面鏡組34。為清楚示例，圖1中僅顯示所述組三維子光束其中之一的路徑39。在以下說(shuō)明中，根據(jù)需要而藉助字尾字母區(qū)分所述子光束群41的每一子光束。因此，若如圖1中所示，面鏡組34有二十個(gè)面鏡及面鏡組38有二十個(gè)面鏡，而子光束群41包含子光束41A、41B……41T。視情況，在以下說(shuō)明中，也可將所述相應(yīng)字母附加至需加以區(qū)分的組件。舉例而言，首先自子光束29B而產(chǎn)生子光束41B，接著子光束41B被面鏡32B及34B反射，隨后被可定位面鏡38B反射。面鏡組32及34的位置及方位通常固定，并被配置成使自面鏡組34反射的三維子光束組通常彼此平行。自面鏡組34反射的所述三維子光束組被傳送至可定位面鏡組38。在面鏡組32、面鏡組34與面鏡組38之間是光束調(diào)整及中繼透鏡，在圖1中，為清楚示意，僅以透鏡35示出。這些光束調(diào)整及中繼透鏡是確保由面鏡組38反射的子光束是窄的準(zhǔn)直光束。在以下說(shuō)明中，產(chǎn)生子光束群41的裝置20的各組件，即組件22、26、28、30、32、34及35，在本文中也稱(chēng)為子光束產(chǎn)生系統(tǒng)33。面鏡組38的每一面鏡耦合至一組安裝座中的相應(yīng)轉(zhuǎn)向組件，本文中稱(chēng)為可調(diào)的安裝座43。所述組安裝座中的每一安裝座43分別由處理單元36單獨(dú)控制，處理單元36可在特定安裝座的特性限制內(nèi)引導(dǎo)所述安裝座的方位，從而能引導(dǎo)耦合至所述安裝座的面鏡的方位。每一安裝座包含傳感器45，傳感器45可感測(cè)所述安裝座的方位，從而可感測(cè)耦合至所述安裝座的面鏡的方位，且所述傳感器提供相應(yīng)輸出至處理單元36，因此所述處理單元可得知所述安裝座及其面鏡的方位。盡管并非本發(fā)明實(shí)施例的要求，但為簡(jiǎn)便起見(jiàn)，本文中假定，舉例而言，處理單元36能以大致同一全立體角改變每一面鏡的方位。另外，每一安裝座通常被初始設(shè)定，使其“零方位(nullorientation)”，即安裝座的方向關(guān)于處理單元36改變所述安裝座的方位，大致相同，使其各自反射后的子光束大致正交在可移動(dòng)工作臺(tái)42。舉例而言，假定每一安裝座43具有二旋轉(zhuǎn)自由度，并能在與面鏡的零方位方向相交的各自的正交平面中以二個(gè)獨(dú)立角θ、φ旋轉(zhuǎn)其所附裝的面鏡。通常，安裝座43利用供面鏡組38附裝的電流計(jì)馬達(dá)來(lái)達(dá)成在二軸的面鏡轉(zhuǎn)向要求。工作臺(tái)42可按照自處理單元36而接收到的命令在正交x、y及ζ方向上移動(dòng)。在本文所述的裝置20的所述校準(zhǔn)階段中，處理單元36通常將光束產(chǎn)生系統(tǒng)33設(shè)定為一次僅發(fā)射束子光束至安裝在工作臺(tái)42上的可復(fù)寫(xiě)標(biāo)靶40上。如插圖48中所示，工作臺(tái)42將標(biāo)靶40在針對(duì)每一面鏡38的不同位置間移動(dòng)，所述標(biāo)靶的每一位置皆對(duì)應(yīng)在不同面鏡的相應(yīng)作業(yè)場(chǎng)域。如上所述，每一面鏡38接收各自相對(duì)應(yīng)的子光束41。然后每一面鏡38按照所述面鏡的方位反射其各自相對(duì)應(yīng)的子光束41。盡管每一面鏡的零方位大致相同，但由在這些面鏡的實(shí)體位置不同，故自每一面鏡38反射的子光束覆蓋不同的相應(yīng)作業(yè)場(chǎng)域。圖2A及圖2B是本發(fā)明一實(shí)施例標(biāo)靶40的簡(jiǎn)化示意圖。圖2A顯示所述標(biāo)靶的俯視圖。圖2B顯示所述標(biāo)靶的一局部剖面圖。所述標(biāo)靶被設(shè)置為具有至少與各所述面鏡在工作臺(tái)42上的工作場(chǎng)域一樣大的面積。標(biāo)靶40的形狀及尺寸通常被選擇為大于這些作業(yè)場(chǎng)域中的最大者。在以下說(shuō)明中，舉例而言，標(biāo)靶40被假定為圓形，直徑約為50mm。標(biāo)靶40是構(gòu)造在基板64上的多層標(biāo)靶。基板64通常是低熱膨脹材料，諸如Zerodur玻璃，以便在裝置20的作業(yè)溫度內(nèi)，所述標(biāo)靶以及位在所述標(biāo)靶內(nèi)的組件的尺寸實(shí)質(zhì)不變。金屬層66形成在基板64的下表面，且熱電致冷器68(thermoelectriccooler,TEC)耦合至金屬層66的下表面。熱電致冷器68因應(yīng)處理單元36的要求而加熱及冷卻標(biāo)靶40。光致變色層62形成在基板64的上表面，且保護(hù)透明層60覆蓋在光致變色層62上。保護(hù)透明層60通過(guò)最小化所述光致變色層與空氣中氧氣的相互作用而保護(hù)所述光致變色層免受光化學(xué)變質(zhì)。光致變色層62對(duì)于可見(jiàn)光是透明的，直至被來(lái)自激光22的輻射照射。所述輻射導(dǎo)致受所述輻射照射的光致變色材料區(qū)域發(fā)生光致變色反應(yīng)。所述反應(yīng)使這些被照射區(qū)域在特定光譜帶上變得實(shí)質(zhì)不透明，所述光譜是通常在可見(jiàn)光范圍內(nèi)且通常為幾十納米寬，因此所述輻射能在標(biāo)靶40上在照射區(qū)域處有效寫(xiě)入可見(jiàn)標(biāo)記或指示。光致變色層62可保存寫(xiě)入所述標(biāo)靶上的這些可見(jiàn)標(biāo)記足夠長(zhǎng)的時(shí)間，直至這些標(biāo)記因熱衰減而消退。所述衰減通常遵守一項(xiàng)簡(jiǎn)單的阿瑞尼斯(Arrhenius)定律，其中衰減率與eXp(-Ea/kT)成正比，其中Ea是材料的激發(fā)能量，k是波茲曼常數(shù)(Boltzmarm’sconstant)，而T是絕對(duì)溫度。通常所述衰減時(shí)間被設(shè)計(jì)為數(shù)小時(shí)。利用熱電致冷器68向所述標(biāo)靶施加適量熱量，隨后升高的溫度可顯著增加衰減率，藉此可抹除這些標(biāo)記。在這些標(biāo)記抹除后，通常繼而用熱電致冷器68冷卻所述標(biāo)靶，使得再通過(guò)另一輻射對(duì)所述標(biāo)靶照射而重新寫(xiě)入新的可見(jiàn)標(biāo)記。如上所述，通常需要通過(guò)冷卻來(lái)延長(zhǎng)這些標(biāo)記的壽命?；鶞?zhǔn)標(biāo)記50F也形成在標(biāo)靶40上，并按下文所述加以利用。通常，基準(zhǔn)標(biāo)記50F通過(guò)在基板64的上表面以及光致變色層62內(nèi)覆蓋金屬(如鉻)而形成。位在標(biāo)靶40內(nèi)的基準(zhǔn)標(biāo)記的結(jié)構(gòu)實(shí)例顯示在圖2B中，其中包含在標(biāo)記50F中的基準(zhǔn)標(biāo)記54、56顯示在剖面中。標(biāo)靶40被構(gòu)造為使這些基準(zhǔn)標(biāo)記以及寫(xiě)入所述光致變色層中的標(biāo)記相對(duì)于其周邊環(huán)境，在測(cè)量時(shí)皆具有高對(duì)比差。傳感器44所使用的檢驗(yàn)輻射通常被選擇用以產(chǎn)生高對(duì)比差。這些標(biāo)記的高對(duì)比差通常通過(guò)峰值發(fā)射波長(zhǎng)位在或接近所述光致變色材料的吸收帶最高峰值在呈現(xiàn)色彩形式下的發(fā)光二極管照明裝置達(dá)成?；?4通常被構(gòu)制成大致可散射的，從而可確保所述高對(duì)比差。圖3是根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例在第一校準(zhǔn)模式中裝置20的不同作業(yè)階段的簡(jiǎn)化示意圖。在所述第一校準(zhǔn)模式中，工作臺(tái)42作用為一靶標(biāo)定位器，依序地移動(dòng)靶標(biāo)40，使得在每一位置，靶標(biāo)40皆包含每一面鏡38的作業(yè)場(chǎng)域。對(duì)于每一面鏡，所述靶標(biāo)被自所述面鏡反射的子光束輻射照射，所述面鏡將所述子光束引導(dǎo)至所述面鏡作業(yè)場(chǎng)域內(nèi)的可選擇位置。在所有面鏡皆被照射后，工作臺(tái)42將所述標(biāo)靶移出這些面鏡的作業(yè)場(chǎng)域，并移入傳感器44的查看場(chǎng)域。圖3對(duì)應(yīng)于圖1的插圖48，顯示標(biāo)靶40被工作臺(tái)42依序定位在四個(gè)不同位置Pl、P2、P3及P4。每一位置對(duì)應(yīng)在不同面鏡的作業(yè)場(chǎng)域，舉例而言，假定這些面鏡是所述校準(zhǔn)順序中的前四個(gè)面鏡。舉例而言，被輻射照射的這些前四個(gè)面鏡是假定為面鏡38G、38F、38P及38Q，在本文中也稱(chēng)為面鏡Ml、M2、M3及M4。根據(jù)需要，在以下說(shuō)明中，預(yù)定面鏡38可在本文中稱(chēng)為面鏡Mn，其中η是正整數(shù)。當(dāng)標(biāo)靶40位在位置Pl時(shí)，處理單元36激發(fā)子光束41G(通常具有如上述的降低的脈波能量)，并確保其余子光束群41無(wú)激發(fā)。在子光束41G被激發(fā)時(shí)，處理單元36利用面鏡Ml的耦合安裝座43將面鏡Ml相對(duì)于其入射子光束旋轉(zhuǎn)至小數(shù)量個(gè)不同已知方位ai、a2……。應(yīng)可理解，每一具體方位是附裝至面鏡Ml的安裝座43的二旋轉(zhuǎn)角θ、9的組合，因此方位可更完整地寫(xiě)為序?qū)Β洽?，φ(α,))。然而，除必要情況外，為簡(jiǎn)便起見(jiàn)，在以下說(shuō)明中，每一方位僅用一字母及一字尾符號(hào)表示。在下文中舉例而言，假定不同已知方位的數(shù)量是5，因此這些不同方位包含{、a2……a5}，也寫(xiě)為{α}。對(duì)于以{α}表示的每一方位，來(lái)自Ml的光束被以一角度反射至ζ軸且位在包含所述ζ軸的一平面中。處理單元36保持所述面鏡在各所述已知不同方位上分別固定一段時(shí)間，在所述段期間，標(biāo)靶40被所述反射的子光束輻射照射。于不同方位{、a2……a5}下的輻射照射在光致變色層62(圖2B)中，分別產(chǎn)生標(biāo)記{lxl、lx2……1x5}，也寫(xiě)為{IX}。通常方位{>1}是經(jīng)選擇，以使標(biāo)記組{IX}大致均勻地分布在面鏡Ml的整個(gè)作業(yè)場(chǎng)域中。處理單元36盡可能選擇將所述時(shí)段縮短，但需足以使由所述反射的子光束形成的這些標(biāo)記具有足以使傳感器44容易地識(shí)別出的對(duì)比差。對(duì)于上述例示性激光，典型時(shí)段允許大約十個(gè)脈波制造每一標(biāo)記，因此所述時(shí)間段是大約100μS。當(dāng)已產(chǎn)生標(biāo)記組{IX}后，處理單元36切斷子光束41G，并定位工作臺(tái)42，以定位標(biāo)靶40至位置Ρ2，其中面鏡Μ2的作業(yè)場(chǎng)域包含在所述標(biāo)靶內(nèi)。當(dāng)標(biāo)靶40位在位置Ρ2時(shí)，處理單元36激發(fā)子光束41F，并確保其余子光束群41不被激發(fā)。在子光束41F被激發(fā)時(shí)，處理單元36將面鏡Μ2相對(duì)于其入射子光束旋轉(zhuǎn)至一組小數(shù)量的不同已知方位{>2}。通常，本文中假定，方位組！>2}的不同方位的數(shù)量與方位組{>1}的數(shù)量相同。然而，這些數(shù)量不必定相同，在某些實(shí)施例中這些數(shù)量可不同。方位組{α2}被選擇，以使通過(guò)子光束4IF反射在標(biāo)靶40上而產(chǎn)生的標(biāo)記{2x1、2x2……2x5}(也寫(xiě)為{2Χ})與標(biāo)記組{IX}分開(kāi)。所述分開(kāi)距離的選擇是足以使傳感器44能夠?qū)⒚恳粯?biāo)記{IX}與每一標(biāo)記{2Χ}區(qū)分開(kāi)來(lái)。標(biāo)記組{2Χ}的形成方式實(shí)質(zhì)與標(biāo)記組{IX}相同。在標(biāo)記組{2Χ}形成后，處理單元36移動(dòng)工作臺(tái)42，用以定位標(biāo)靶40于位置Ρ3，在位置Ρ3，所述標(biāo)靶包含面鏡Μ3的作業(yè)場(chǎng)域；然后定位標(biāo)靶40于位置Ρ4，在位置Ρ4，所述標(biāo)靶包含面鏡Μ4的作業(yè)場(chǎng)域。面鏡Μ3的標(biāo)記{3x1、3x2......3x5}(也寫(xiě)為{3Χ})以及面鏡Μ4的標(biāo)記{4x1、4x2……4x5}(也寫(xiě)為{4Χ})，是分別利用子光束41Ρ及41Q以實(shí)質(zhì)如上文針對(duì)標(biāo)記{IX}所述方式形成。在圖3中，為清晰起見(jiàn)，每一組標(biāo)記{1Χ}、{2Χ}、{3Χ}及{4Χ}針對(duì)同一特定組使用同一符號(hào)顯示，但各組間使用不同符號(hào)顯示。由這些子光束產(chǎn)生的實(shí)際標(biāo)記的形狀是由處理單元36控制。在某些實(shí)施例中，所有標(biāo)記不論其是否是在同一組抑或是不同組中，皆實(shí)質(zhì)具有相同的形狀。舉例而言，所有標(biāo)記是可在面鏡在受輻射照射期間不移動(dòng)之下，在標(biāo)靶40上形成數(shù)個(gè)單點(diǎn)，一特定標(biāo)記的單點(diǎn)是通過(guò)在相應(yīng)方位下的輻射照射形成。這些點(diǎn)通常具有介在約20μm與約70μm之間的直徑?；蛘撸诹硗庖恍?shí)施例中，標(biāo)記可形成為具有二個(gè)或更多個(gè)不同形狀。標(biāo)記所具有的結(jié)構(gòu)是由多個(gè)單點(diǎn)群組形成，其是通過(guò)處理單元36將面鏡關(guān)于其特定方位移動(dòng)，從而使自所述面鏡反射的子光束在所述標(biāo)靶上形成一預(yù)定圖案?？墒褂玫膱D案的實(shí)例包含一三角形或一長(zhǎng)方形的部分邊及/或頂點(diǎn)，但也可使用任何其它適宜圖案。以一組單點(diǎn)的形式形成一標(biāo)記通常要求更準(zhǔn)確地定位點(diǎn)的位置，因此面鏡的校準(zhǔn)需要更準(zhǔn)確。處理單元36將上述針對(duì)前四個(gè)面鏡的方法應(yīng)用到所有面鏡組38。因此，每一面鏡38皆在標(biāo)靶40上產(chǎn)生一組標(biāo)記，處理單元36定位這些標(biāo)記，以使每一標(biāo)記分開(kāi)。分開(kāi)距離足以使得當(dāng)傳感器44配合處理單元36檢查標(biāo)靶40時(shí)，可區(qū)分開(kāi)不同的標(biāo)記。圖4是根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例標(biāo)靶40的簡(jiǎn)化示意圖。標(biāo)靶40顯示在已使用二十個(gè)面鏡38A、38B……38T如上所述輻射照射所述標(biāo)靶后所產(chǎn)生的例示性標(biāo)記，其中每一面鏡在所述標(biāo)靶上產(chǎn)生五個(gè)標(biāo)記。在圖4中，假定這些標(biāo)記是數(shù)個(gè)單點(diǎn)，但應(yīng)可理解，如上所述，某些或所有這些標(biāo)記可為點(diǎn)的群組。返回圖1，在欲被校準(zhǔn)的所有面鏡組38已用在輻射照射標(biāo)靶40后，工作臺(tái)42將所述標(biāo)靶移動(dòng)至傳感器44的查看場(chǎng)域中。處理單元36利用由傳感器44所獲得的標(biāo)靶40的影像而產(chǎn)生每一面鏡38的校準(zhǔn)表，如下文參照?qǐng)D5所述。圖5是簡(jiǎn)化流程圖100，顯示按照本發(fā)明的實(shí)施例通過(guò)處理單元36而產(chǎn)生每一面鏡38的校準(zhǔn)表或方程式的步驟。流程圖100的步驟描述假定是按照上文中，針對(duì)裝置20的作業(yè)的描述，并對(duì)應(yīng)在裝置20的所述第一校準(zhǔn)模式。在第一定位步驟102中，固定標(biāo)靶40至工作臺(tái)42，且處理單元36定位所述工作臺(tái)，以使所述標(biāo)靶位在面鏡Ml的作業(yè)場(chǎng)域中。在第一輻射照射步驟104中，處理單元36激發(fā)合適的子光束，在此，是子光束41G。然后，所述處理單元將面鏡Ml定位至其預(yù)定位置，以便在所述標(biāo)靶上形成標(biāo)記。相對(duì)于面鏡Ml，這些標(biāo)記是{IX}。隨后的定位步驟106重復(fù)步驟102中的操作，處理單元36定位所述工作臺(tái)，使所述標(biāo)靶位在另一面鏡38的作業(yè)場(chǎng)域中。隨后的輻射照射步驟108對(duì)已在步驟106中定位的面鏡重復(fù)步驟104的作業(yè)。在一判斷步驟110中，處理單元36檢查是否所有面鏡38皆已完成上述步驟的校準(zhǔn)過(guò)程。若某些面鏡尚未完成所述過(guò)程，則處理單元36返回步驟106。若所有面鏡皆已完成所述校準(zhǔn)過(guò)程，則在一標(biāo)靶平移步驟112中，處理單元36移動(dòng)工作臺(tái)42，使標(biāo)靶40位在傳感器44的查看場(chǎng)域中，且處理單元36利用傳感器44以采集標(biāo)靶40及其標(biāo)記的影像。在一分析步驟114中，利用所采集的所述標(biāo)靶的基準(zhǔn)標(biāo)記的影像，所述處理單元確定標(biāo)靶40上的每一標(biāo)記的實(shí)際(X，y)值，并關(guān)聯(lián)這些實(shí)際值與理論期望值{IX}、{2X}……，在本文中也寫(xiě)為E{1X}、E{2X}……。所述關(guān)聯(lián)可由處理單元36自動(dòng)實(shí)施。舉例而言，對(duì)于每一期望值{1X}、{2X}……，具有最接近所述期望值的實(shí)際(x，y)的標(biāo)記是被設(shè)定為相應(yīng)的標(biāo)記?；蛘?，裝置的操作人員可至少部分地協(xié)助處理單元36執(zhí)行所述關(guān)聯(lián)。對(duì)于每一面鏡38，處理單元36皆選擇所述面鏡的標(biāo)記的實(shí)際(x，y)值。由這些選出的值，處理單元36擔(dān)任相關(guān)器，用以對(duì)于每一面鏡在所述面鏡的方位與通過(guò)所述面鏡的子光束的反射形成的實(shí)際(χ，y)值之間產(chǎn)生關(guān)聯(lián)。處理單元36利用習(xí)知技術(shù)中常見(jiàn)的內(nèi)插及/或外插方法產(chǎn)生所述關(guān)聯(lián)。處理單元36可以任何合宜形式儲(chǔ)存定義這些面鏡的關(guān)聯(lián)，諸如每一面鏡的校準(zhǔn)表，及/或每一面鏡具有以下通式的方程式(1)其中，是由所述處理單元所定義的面鏡Mn的函數(shù)。應(yīng)可理解，每一表或方程式的值(X，y)可慮及每一面鏡Mn的不同實(shí)體位置。在步驟114完成后，通常流程圖100即結(jié)束?？梢暻闆r，如虛線(xiàn)116所示，在抹除步驟118中，可抹除標(biāo)靶40上的標(biāo)記，從而使所述標(biāo)靶可用在裝置20的另外的校準(zhǔn)。自上文對(duì)所述第一校準(zhǔn)模式的描述中，應(yīng)可了解，所有面鏡38皆可利用對(duì)標(biāo)靶40的一次檢查及分析(如以上步驟114中所述)自動(dòng)校準(zhǔn)。因此，用在校準(zhǔn)所有面鏡38所花費(fèi)的時(shí)間較短。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，圖6是簡(jiǎn)化示意圖，顯示裝置20的第二校準(zhǔn)模式，而圖7是用以實(shí)施所述第二模式而執(zhí)行的步驟的簡(jiǎn)化流程圖150。除下述不同外，所述第二校準(zhǔn)模式與所述第一校準(zhǔn)模式大致相同，因此在構(gòu)造及作業(yè)方面，在圖1與圖6中以相同參考組件符號(hào)表不。不同于所述第一校準(zhǔn)模式，在所述第二校準(zhǔn)模式中，每一面鏡分別利用標(biāo)靶40單獨(dú)校準(zhǔn)。在每一面鏡校準(zhǔn)后，用在所述校準(zhǔn)的所述標(biāo)靶上的標(biāo)記被抹除，而所述標(biāo)靶可用在校準(zhǔn)另一面鏡。在流程圖150中，一定位步驟152與步驟102(圖5)實(shí)質(zhì)相同。第一輻射照射步驟154與步驟104大致相同。然而，由于一次僅校準(zhǔn)一個(gè)面鏡，因而用在每一校準(zhǔn)的標(biāo)記數(shù)量可大幅增多。舉例而言，在以上對(duì)所述第一校準(zhǔn)模式的例示性說(shuō)明中使用5個(gè)標(biāo)記，而在所述第二校準(zhǔn)階段模式中使用的標(biāo)記的典型數(shù)量是約100個(gè)。在平移步驟156中，處理單元36移動(dòng)工作臺(tái)42，使標(biāo)靶40位在傳感器44的查看場(chǎng)域內(nèi)，且處理單元36利用傳感器44采集標(biāo)靶40及其標(biāo)記的影像。在抹除步驟158中，處理單元36激發(fā)熱電致冷器68(圖2B)，用以充分加熱所述標(biāo)靶，以抹除在步驟154中產(chǎn)生的標(biāo)記。在抹除這些標(biāo)記后，所述處理單元通常激發(fā)熱電致冷器68以冷卻所述標(biāo)靶，使標(biāo)靶處在可被標(biāo)記的狀況，供隨后的輻射照射使用，如上文所述。在判斷步驟160中，處理單元36查看所有面鏡是否皆已完成處理，即步驟154、156及158是否已應(yīng)用至每一面鏡。若有面鏡尚未完成處理，則在平移步驟162中，處理單元36移動(dòng)附裝有標(biāo)靶40的工作臺(tái)，使所述標(biāo)靶處在另一面鏡的場(chǎng)域內(nèi)，且所述流程圖返回步驟154的開(kāi)端。若判斷步驟160回報(bào)的結(jié)果是所有面鏡皆已處理，則在分析步驟164中，處理單元36分析在步驟156中采集的各所述影像。分析步驟164大致類(lèi)似于上述的分析步驟114。處理單元36自所述分析步驟以校準(zhǔn)表及/或方程式的形式針對(duì)每一面鏡產(chǎn)生一關(guān)聯(lián)。隨后流程圖150結(jié)束。以上描述內(nèi)容已描述裝置20校準(zhǔn)面鏡38的二種模式。所述第一模式使得利用標(biāo)靶40在這些面鏡場(chǎng)域與傳感器44的查看場(chǎng)域之間經(jīng)過(guò)一次便能校準(zhǔn)所述裝置的所有面鏡。在所述第二模式中，所述面鏡需要在這些面鏡場(chǎng)域與傳感器44的查看場(chǎng)域之間多次經(jīng)過(guò)。所述第一校準(zhǔn)模式能在相對(duì)短時(shí)間段內(nèi)校準(zhǔn)所有面鏡38。所述第二校準(zhǔn)模式所需的時(shí)間通常較所述第一模式長(zhǎng)，但由所述第二模式提供的校準(zhǔn)通常具有更高的準(zhǔn)確性。應(yīng)可理解，上述二種模式是例示性的，裝置20也可執(zhí)行其它校準(zhǔn)模式。舉例而言，面鏡組38可被組織成多個(gè)群組，且實(shí)質(zhì)上可如上文所述，針對(duì)所述第一模式校準(zhǔn)每一群組中的多個(gè)面鏡，但針對(duì)每一面鏡的標(biāo)記的數(shù)量可多于所例示的五個(gè)。然后可抹除所述標(biāo)靶，并可依據(jù)所述第一模式中所述，隨后校準(zhǔn)另一面鏡群組。將這些面鏡組織成群組可允許裝置的操作人員選擇期望的校準(zhǔn)精確水平以及校準(zhǔn)所花費(fèi)時(shí)間。應(yīng)可了解，上述實(shí)施例是以舉例方式引述，本發(fā)明并不限于上文中具體顯示及描述的內(nèi)容。而是，本發(fā)明的范圍包含熟悉此項(xiàng)技術(shù)者在閱讀上述說(shuō)明中可能想到的且在先前技術(shù)中未曾披露者，同時(shí)一并包含上述的各種不同特征的各個(gè)組合及子組合以及其變化形式和修改形式。權(quán)利要求一種光學(xué)系統(tǒng)，包含多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡，分別被設(shè)置用以引導(dǎo)激光束至場(chǎng)域內(nèi)的可選擇的位置；多個(gè)面鏡方位傳感器，用以感測(cè)所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡的方位并提供多個(gè)面鏡方位輸出；以及自動(dòng)校準(zhǔn)子系統(tǒng)，用以自動(dòng)校準(zhǔn)所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡，所述自動(dòng)校準(zhǔn)子系統(tǒng)包含標(biāo)靶，具有至少與各所述可選擇性引導(dǎo)面鏡的所述場(chǎng)域一樣大的面積，并在所述標(biāo)靶上提供由激光束照射的光學(xué)可見(jiàn)指示；所述標(biāo)靶是可覆寫(xiě)的并具有多個(gè)光學(xué)可見(jiàn)的基準(zhǔn)標(biāo)記；標(biāo)靶定位器，用以在各所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡引導(dǎo)所述激光束至所述標(biāo)靶上的可選擇位置的同時(shí)，將所述標(biāo)靶選擇性地定位在相對(duì)應(yīng)各所述選擇性引導(dǎo)面鏡的這些場(chǎng)域中；光學(xué)傳感器，用以在所述激光束照射在所述標(biāo)靶上之后查看所述標(biāo)靶，并提供多個(gè)激光束照射輸出；以及相關(guān)器，用以因應(yīng)這些面鏡方位輸出以及這些激光束照射輸出而提供校準(zhǔn)輸出。2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征是所述光學(xué)系統(tǒng)可用在校準(zhǔn)階段及生產(chǎn)階段中。3.如權(quán)利要求2所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征是所述校準(zhǔn)階段包含將各所述多個(gè)面鏡定位在第一方位；利用所述多個(gè)傳感器，感測(cè)各所述多個(gè)面鏡的所述第一方位并提供多個(gè)面鏡方位輸出；固定所述標(biāo)靶至所述標(biāo)靶定位器；對(duì)于各所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡通過(guò)定位所述標(biāo)靶定位器，在所述多個(gè)選擇性弓I導(dǎo)面鏡在弓I導(dǎo)所述激光束至所述標(biāo)靶上的可選擇位置時(shí)，將所述標(biāo)靶選擇性地定位在所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡其中之一的所述場(chǎng)域中，進(jìn)而在所述標(biāo)靶上產(chǎn)生多個(gè)激光束照射標(biāo)記；在所述激光束照射在所述標(biāo)靶上之后查看所述標(biāo)靶，并為所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡其中之一提供多個(gè)激光束照射輸出；以及抹除這些激光束照射標(biāo)記；以及將這些面鏡方位輸出與這些激光束照射輸出產(chǎn)生關(guān)聯(lián)，以為各所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡提供校準(zhǔn)輸出。4.如權(quán)利要求2所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征是所述校準(zhǔn)階段包含將各所述多個(gè)面鏡定位在第一方位；利用所述多個(gè)傳感器，感測(cè)各所述多個(gè)面鏡的所述第一方位并提供多個(gè)面鏡方位輸出；固定所述標(biāo)靶至所述標(biāo)靶定位器；通過(guò)定位所述標(biāo)靶定位器，在各所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡引導(dǎo)所述激光束至所述標(biāo)靶上的可選擇位置時(shí)，將所述標(biāo)靶選擇性地定位在相對(duì)應(yīng)各所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡的這些場(chǎng)域中；在所述激光束照射在所述標(biāo)靶上之后查看所述標(biāo)靶，并提供多個(gè)激光束照射輸出；以及將這些面鏡方位輸出與這些激光束照射輸出產(chǎn)生關(guān)聯(lián)，以為各所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡提供校準(zhǔn)輸出。5.如權(quán)利要求2所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征是所述生產(chǎn)階段包含激光鉆孔階段、激光燒蝕階段及激光加工階段至少其中之一。6.如權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征是所述標(biāo)靶包含基板；光致變色層，形成在所述基板的上表面；透明層，覆蓋在所述光致變色層上；金屬層，形成在所述基板的下表面；以及熱電致冷器，耦合至所述金屬層的下表面。7.如權(quán)利要求6所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征是這些可見(jiàn)基準(zhǔn)標(biāo)記是形成在所述光致變色層內(nèi)。8.如權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征是也包含多個(gè)可調(diào)的面鏡安裝座，這些可調(diào)的面鏡安裝座包含這些面鏡方位傳感器。9.如權(quán)利要求8所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征是各所述多個(gè)面鏡安裝座具有二旋轉(zhuǎn)自由度。10.如權(quán)利要求8或9所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征是所述多個(gè)面鏡安裝座包含多個(gè)電流計(jì)馬達(dá)，供所述多個(gè)面鏡附裝。11.如權(quán)利要求1-10中任一項(xiàng)所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征是也包含用以產(chǎn)生所述激光束的一激光。12.一種用于校準(zhǔn)多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡的方法，所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡被設(shè)置用以引導(dǎo)激光束至場(chǎng)域內(nèi)的可選擇的位置，所述方法包含定位各所述多個(gè)面鏡在第一方位；感測(cè)各所述多個(gè)面鏡的所述第一方位并提供多個(gè)面鏡方位輸出；固定標(biāo)靶至標(biāo)靶定位器，所述標(biāo)靶具有至少與各所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡的所述場(chǎng)域一樣大的面積，并在所述標(biāo)靶上提供由激光束照射的光學(xué)可見(jiàn)指示；所述靶是可覆寫(xiě)的并具有多個(gè)光學(xué)可見(jiàn)的基準(zhǔn)標(biāo)記；對(duì)于各所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡通過(guò)定位所述標(biāo)靶定位器，在所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡在引導(dǎo)所述激光束至所述標(biāo)靶上的可選擇位置時(shí)，選擇性地定位所述標(biāo)靶在所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡其中之一的所述場(chǎng)域中，進(jìn)而在所述標(biāo)靶上產(chǎn)生多個(gè)激光束照射標(biāo)記；在所述激光束照射在所述標(biāo)靶上之后查看所述標(biāo)靶，并為所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡其中之一提供多個(gè)激光束照射輸出；以及抹除這些激光束照射標(biāo)記；以及關(guān)聯(lián)這些面鏡方位輸出與這些激光束照射輸出，以為各所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡提供校準(zhǔn)輸出。13.如權(quán)利要求12所述的方法，其特征是也包含對(duì)于各所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡，在所述抹除步驟之后冷卻所述標(biāo)靶。14.一種用在校準(zhǔn)多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡的方法，這些選擇性引導(dǎo)鏡面被設(shè)置用以引導(dǎo)激光束至場(chǎng)域內(nèi)的可選擇位置，所述方法包含定位各所述多個(gè)面鏡在第一方位；感測(cè)各所述多個(gè)面鏡的所述第一方位并提供多個(gè)面鏡方位輸出；固定標(biāo)靶至標(biāo)靶定位器，所述標(biāo)靶具有至少與各所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡的所述場(chǎng)域一樣大的面積，并在所述標(biāo)靶上提供由激光束照射的光學(xué)可見(jiàn)指示；所述標(biāo)靶是可覆寫(xiě)的并具有多個(gè)光學(xué)可見(jiàn)的基準(zhǔn)標(biāo)記；通過(guò)定位所述標(biāo)靶定位器，在各所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡在引導(dǎo)所述激光束至所述標(biāo)靶上的可選擇位置時(shí)，選擇性地定位所述標(biāo)靶在對(duì)應(yīng)各所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)鏡面的這些場(chǎng)域中；在所述激光束照射在所述標(biāo)靶上之后查看所述標(biāo)靶，并提供多個(gè)激光束照射輸出；以及關(guān)聯(lián)這些面鏡方位輸出與這些激光束照射輸出，以為各所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡提供校準(zhǔn)輸出。全文摘要本發(fā)明是關(guān)于一種光學(xué)系統(tǒng)，包含多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡(38)，分別被設(shè)置用以引導(dǎo)激光束(41)至場(chǎng)域內(nèi)的可選擇的位置；多個(gè)面鏡方位傳感器(45)，用以感測(cè)所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡的方位并提供多個(gè)面鏡方位輸出；以及自動(dòng)校準(zhǔn)子系統(tǒng)(47)，用以自動(dòng)校準(zhǔn)所述多個(gè)選擇性引導(dǎo)面鏡，所述自動(dòng)校準(zhǔn)子系統(tǒng)包含標(biāo)靶(40)，被用以在所述標(biāo)靶上提供由激光束照射的光學(xué)可見(jiàn)指示，所述標(biāo)靶是可復(fù)寫(xiě)的(rewritable)并具有多個(gè)光學(xué)可見(jiàn)的基準(zhǔn)標(biāo)記(fiducialmarking)(54，56)；標(biāo)靶定位器(42)，用以選擇性定位所述標(biāo)靶；光學(xué)傳感器(44)，用以在所述激光束照射在所述標(biāo)靶上之后查看所述標(biāo)靶并提供多個(gè)激光束照射輸出；以及相關(guān)器(correlator)(36)，用以提供校準(zhǔn)輸出。文檔編號(hào)G01C3/08GK101910787SQ200980101728公開(kāi)日2010年12月8日申請(qǐng)日期2009年1月11日優(yōu)先權(quán)日2008年1月10日發(fā)明者B·格林伯格,P·格洛布潔爾德,Z·柯特勒申請(qǐng)人:以色列商奧寶科技股份有限公司