專(zhuān)利名稱(chēng)：：用于改善層析成像測(cè)定、特別適用于混凝土結(jié)構(gòu)中的鋼筋檢查的方法和布置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及用于使用諸如x射線或伽馬射線等穿透性輻射來(lái)分析對(duì)可見(jiàn)光不透明的物體的三維結(jié)構(gòu)的方法，所述穿透性輻射的強(qiáng)度作為厚度乘以橫穿物質(zhì)的密度的乘積的函數(shù)而衰減。特別地，本發(fā)明意圖用于結(jié)構(gòu)分析，尤其是用于確定諸如橫梁、柱，和平板等鋼筋混凝土結(jié)構(gòu)中的鋼筋的位置和直徑。到目前為止進(jìn)行的實(shí)驗(yàn)工作采用伽馬輻射源。然而，對(duì)于該應(yīng)用以及其它應(yīng)用，可以將相同的方法應(yīng)用于使用X射線管、線性加速器、或其它輻射源的情況。本發(fā)明包括用于執(zhí)行諸如源位置和穿透輻射記錄裝置位置等三維分析所必需的自動(dòng)且精確的參數(shù)確定的方法；用于在所述記錄裝置包括對(duì)輻射強(qiáng)度的變化敏感的膠片時(shí)改善圖像質(zhì)量的最佳布置；用于使用低能輻射源在非常厚的混凝土塊中進(jìn)行鋼筋的層析成像測(cè)定的布置；以及用于獲得來(lái)自該測(cè)量的層析成像結(jié)果的程序。
背景技術(shù)：
：層析成像技術(shù)被廣泛應(yīng)用于醫(yī)學(xué)。本方法特別適用于但不限于鋼筋混凝土，并可以擴(kuò)展至其它應(yīng)用。在本領(lǐng)域中，已將由傳統(tǒng)管生成的x射線、由放射性源發(fā)射的伽馬射線或由線性加速器生成的高能電磁輻射用于使用輻射敏感膠片(傳統(tǒng)或數(shù)字射線照相底版)(參考文獻(xiàn)3)、對(duì)可見(jiàn)光輻射熒光轉(zhuǎn)換屏(JP61-254837，US6333962)或閃爍或固態(tài)型輻射探測(cè)器(US5933473)來(lái)獲得穿透鋼筋混凝土的結(jié)構(gòu)塊的輻射的二維圖像。通過(guò)應(yīng)用這些技術(shù)而獲得的二維信息可用于檢測(cè)金屬元件、檢測(cè)其中的腐蝕的存在、檢測(cè)混凝土塊中的空隙和裂縫。還涉及到三維問(wèn)題，亦即鋼筋混凝土結(jié)構(gòu)中的鋼筋的位置和直徑的確定，但除參考文獻(xiàn)4中描述的工作之外，迄今為止還沒(méi)有太大進(jìn)展(參考文獻(xiàn)1、2、3、US5828723)。與此類(lèi)測(cè)量相關(guān)的一些問(wèn)題尚未得到解決。這些問(wèn)題是難以以適當(dāng)?shù)木全@取關(guān)于鋼筋的層析繪圖(mapping)所需的源位置和記錄裝置位置的數(shù)據(jù)；由于散射輻射的強(qiáng)度而引起的圖像對(duì)比度低，并因此而難以解譯它們(尤其是在混凝土塊的尺寸相當(dāng)大的情況下)；以及可以使用低能便攜式源來(lái)研究的混凝土的厚度范圍受到限制。用于鋼筋的層析成像測(cè)定、亦即用于確定鋼筋混凝土結(jié)構(gòu)中的鋼筋的位置和直徑的程序包括在第一步驟中在被研究的結(jié)構(gòu)元件的一側(cè)的第一位置上布置輻射源并在照射期間在與所述源的位置近似相對(duì)的另一側(cè)布置記錄裝置，使得4皮檢測(cè)的部分包括在以下錐體的體積內(nèi)，所述錐體的高度等于源與記錄裝置之間的距離，所述錐體的基底等于記錄裝置所覆蓋的區(qū)域。在第二步驟中，在對(duì)于記錄裝置來(lái)說(shuō)足夠長(zhǎng)的時(shí)間段內(nèi)將被檢查的元件暴露于源所發(fā)出的輻射中以接收獲得穿透鋼筋的輻射與未橫穿鋼筋的輻射之間的最佳對(duì)比度所需的穿透輻射劑量。照射時(shí)間量被確定為被檢查的元件的厚度乘以密度的乘積的函數(shù)。在后面的步驟中，在源(有時(shí)是記錄裝置)位于不同位置的情況下重復(fù)該程序，使得被檢查的體積與在第一步驟中類(lèi)似。最后，使用數(shù)學(xué)算法，對(duì)參照給定結(jié)構(gòu)塊的全部測(cè)量分析記錄裝置所記錄的信息，以獲得測(cè)量所覆蓋的體積內(nèi)的鋼筋的位置和直徑。為了應(yīng)用所述數(shù)學(xué)算法，必須相對(duì)于固定到凈皮研究的結(jié)構(gòu)塊的坐標(biāo)系而知道對(duì)于不同測(cè)量而言源和記錄裝置兩者的位置。本發(fā)明通過(guò)提供以下各項(xiàng)而針對(duì)上述要求改善現(xiàn)有技術(shù)a)參考元件的引入，所述參考元件生成基準(zhǔn)標(biāo)記以得到更高的精度、可靠性和自動(dòng)化潛力。b)記錄裝置的布置，包括將此類(lèi)裝置設(shè)置在與被研究的結(jié)構(gòu)塊相隔特定距離的位置，從而改善獲得的信息的質(zhì)量。使用為此目的而特別開(kāi)發(fā)的蒙特卡羅型模擬程序來(lái)計(jì)算此距離的最佳值(參考文獻(xiàn)6)。c)經(jīng)上述蒙特卡羅型程序優(yōu)化的用于過(guò)濾散射輻射的元件布置(參考文獻(xiàn)6)。d)用于分析記錄裝置中記錄的信息以便解決層析成像問(wèn)題的方法，亦即基本改善現(xiàn)有技術(shù)的對(duì)鋼筋混凝土結(jié)構(gòu)中的鋼筋的三維繪圖。為了圖像對(duì)準(zhǔn)或校準(zhǔn)的目的而使用由記錄在射線照相膠片或數(shù)字記錄裝置上的輻射吸收參考對(duì)象所產(chǎn)生的基準(zhǔn)標(biāo)記在醫(yī)學(xué)射線照相術(shù)(參考文獻(xiàn)7)以及工業(yè)X射線測(cè)定(參考文獻(xiàn)5)中眾所周知。在第一種情況下，將參考元件并入病人身體中以便在不同測(cè)量中解決由病人的位置變化所引起的問(wèn)題。在工業(yè)X射線測(cè)定的情況下，例如，在鋼筋混凝土板的上部放置一系列的已知尺度的輻射吸收棒以便確定板的厚度。在本發(fā)明中，基準(zhǔn)標(biāo)記的使用服務(wù)于兩個(gè)目的，即改善對(duì)鋼筋混凝土結(jié)構(gòu)中的鋼筋的位置和尺寸的層析成像測(cè)定的精度和可靠性。與其它工業(yè)X射線應(yīng)用相比，其圖像將記錄在射線照片上的對(duì)象通常位于與記錄裝置相隔相當(dāng)遠(yuǎn)的距離的位置。因此，通過(guò)用放置在不同位置上的輻射源進(jìn)行兩次或更多次曝光，可以通過(guò)立體重建來(lái)獲得位置數(shù)據(jù)。為了使重建精確，重要的是確切地知道膠片和源兩者關(guān)于被研究的結(jié)構(gòu)的位置。
發(fā)明內(nèi)容在本發(fā)明的方法中，通過(guò)將輻射吸收參考對(duì)象放置在位于輻射源側(cè)和/或記錄裝置側(cè)的框架上的確切已知的位置來(lái)將基準(zhǔn)標(biāo)記記錄在例如射線照相底版等記錄裝置上。這樣做的目的是使對(duì)現(xiàn)場(chǎng)工作期間易于產(chǎn)生誤差的手動(dòng)測(cè)量和記錄的需要最小化。這樣，層析成像測(cè)定所需的信息被自動(dòng)記錄在記錄裝置上以供隨后的計(jì)算分析使用，由此防止手動(dòng)測(cè)定的不精確和誤差特性，以及現(xiàn)有技術(shù)的其它缺點(diǎn)，諸如為了避免射線照相膠片曝光而將其放置在暗盒內(nèi)的位置。除參考元件之外，在本發(fā)明的方法中，記錄裝置側(cè)的框架包括用于將記錄裝置定位在與正在檢查的結(jié)構(gòu)元件相隔最佳距離的位置處的布置。所述框架還允許添加適當(dāng)?shù)倪^(guò)濾器，其用于減輕在鋼筋混凝土的情況下嚴(yán)重限制圖像質(zhì)量的散射輻射的影響。最佳距離和最佳過(guò)濾器均通過(guò)為此目的而特別開(kāi)發(fā)的計(jì)算機(jī)程序來(lái)確定。最后，所述方法還包括特別開(kāi)發(fā)的用于執(zhí)行層析成像分析的程序，其將基準(zhǔn)標(biāo)記及框架和支撐體(support)的情況考慮在內(nèi)。圖1是在用于測(cè)定鋼筋混凝土板和壁中的鋼筋的位置和尺寸的布置中使用的"源組件，，的透視圖2是使用"外部源，，、用于研究平板和壁中的鋼筋的布置的截面圖3是使用"內(nèi)部源"、用于研究鋼筋混凝土結(jié)構(gòu)中的鋼筋的布置的截面圖4(a)、4(b)和4(c)圖解了用于研究橫梁的中下部中的鋼筋的兩種布置和用于研究柱中的鋼筋的布置。圖5(a)、5(b)和5(c)是在打開(kāi)和閉合位置、用于研究橫梁和柱中的鋼筋的臺(tái)架(rack)的透^L圖。圖6示出橫梁上的臺(tái)架的位置。圖7是示出用于計(jì)算使用本發(fā)明的方法來(lái)確定結(jié)構(gòu)中的鋼筋的位置時(shí)涉及的誤差所采用的源、螺紋鋼筋、參考元件和板布置的圖示。具體實(shí)施例方式本發(fā)明的方法包括將在現(xiàn)場(chǎng)("現(xiàn)場(chǎng)工作")中使用的數(shù)據(jù)收集設(shè)備和用于分析該數(shù)據(jù)以獲得層析成像結(jié)果的程序。根據(jù)如下說(shuō)明，可以根據(jù)被研究的結(jié)構(gòu)元件的特性以不同的方式來(lái)布置所述設(shè)備。首先，描述該方法的總的方面，然后，給出關(guān)于將該方法應(yīng)用于不同的具體情況(平板和壁、橫梁及柱的檢測(cè)及其它情況)的方式的說(shuō)明。作為本發(fā)明的目的的現(xiàn)場(chǎng)設(shè)備首先包括輻射源側(cè)的設(shè)備組件，稱(chēng)為"源組件"。在使用"外部源"、亦即用位于被研究的塊外部的輻射源進(jìn)行測(cè)量的情況下，"源組件"包括用于具有相應(yīng)準(zhǔn)直器的輻射源(X射線管、線性加速器、放射性源或其它)的支撐體和第一臺(tái)架，該第一臺(tái)架在下文中稱(chēng)為"臺(tái)架r，可拆卸地附接于所述支撐體，包含參考元件。"源組件"可以提供有屏蔽元件。所述臺(tái)架包括矩形或其它形狀的由重量輕但堅(jiān)固的材料(例如ai)制成的框架，附接于所述框架以便覆蓋其兩側(cè)的與框架具有相同形狀的兩個(gè)剛性板，該板由輻射吸收差的材料(例如某種塑料)制成。將"源組件"固定于要檢查的物體的一側(cè)。如果將使用"內(nèi)部源"來(lái)執(zhí)行測(cè)量，則只有當(dāng)使用放射性小片(tablet)作為輻射源時(shí)，才可應(yīng)用所述方法，并且在這種情況下，"源組件"僅僅變成源容器/投影器的保持器以及通過(guò)在塊中鉆的孔而引入被研究的塊內(nèi)部的"擴(kuò)展"，因此，可以將放射性小片放置在被檢查的物體內(nèi)的不同位置。其次，所述設(shè)備包括第二臺(tái)架，該第二臺(tái)架在下文中稱(chēng)為"臺(tái)架II",位于^皮研究的塊的與所述源相對(duì)的一側(cè)。臺(tái)架II包括一個(gè)或多個(gè)平面。每個(gè)平面具有帶蓋板的框架和諸如臺(tái)架I中的參考元件。臺(tái)架II還可以包括用于識(shí)別每次測(cè)量的設(shè)備、散射輻射過(guò)濾器、記錄裝置的保持器和"伽馬射線檢測(cè)儀"(在下文中描述)的保持器。所述參考元件由高密度材料(諸如Pb或w)制成并被布置為使源發(fā)出的輻射在到達(dá)記錄裝置之前橫穿它們。參考元件可以是棒、珠子或類(lèi)似對(duì)象，由于下面闡述的原因而最優(yōu)選的是小珠子。這些參考元件位于固定于臺(tái)架的框架的板上。在關(guān)于"源組件"的說(shuō)明中的上述屏蔽裝置可以是由厚度為例如4mm的鉛制成、圍繞臺(tái)架I的框架的板，該布置的目的在于通過(guò)#_輻射橫穿的第一混凝土層來(lái)吸收以超過(guò)或接近90度的角度散射的輻射。用于識(shí)別每次特定測(cè)量的設(shè)備可以包括由吸收材料(Pb、W等)制成的字母的支持固定物以識(shí)別正在執(zhí)行的具體現(xiàn)場(chǎng)工作，該支持固定物在現(xiàn)場(chǎng)工作期間保持不變，同時(shí)，包含用于識(shí)別每次測(cè)量的編號(hào)系統(tǒng)的第二支持固定物在每次連續(xù)測(cè)量時(shí)增加一個(gè)單位?？梢詫⒃撛O(shè)備集成到臺(tái)架II中，以方便識(shí)別每次測(cè)量的程序，由此改善現(xiàn)有技術(shù)?？梢詫⑸⑸漭椛溥^(guò)濾器容納在臺(tái)架II中的兩個(gè)板之間，以便實(shí)現(xiàn)直接輻射的強(qiáng)度與到達(dá)記錄裝置的散射輻射的強(qiáng)度之間的最佳比例，這是因?yàn)樗霰壤绊懹涗浹b置上正在檢查的對(duì)象(例如鋼筋)的圖像的對(duì)比度。通過(guò)使用為此目的而特別設(shè)計(jì)的模擬程序來(lái)選擇所述散射輻射過(guò)濾器的元件的組成和厚度(參考文獻(xiàn)6)。"伽馬射線檢測(cè)儀"是支持了對(duì)輻射敏感的幾個(gè)設(shè)備的輕質(zhì)材料的板，其目的是在測(cè)量期間獲取由記錄裝置所記錄的、覆蓋區(qū)域的不同點(diǎn)上的輻射劑量的遠(yuǎn)程讀數(shù)，由此允許評(píng)定測(cè)量的最佳照射時(shí)間。一旦部署了"源組件"和臺(tái)架II，則開(kāi)啟輻射源并開(kāi)始照射。在伽馬輻射源的情況下，將放射性小片移動(dòng)到理想位置。在"外部源"模式下，將小片定位在由吸收材料制成的準(zhǔn)直器中，該準(zhǔn)直器是"源組件"的一部分，4吏得輻射可以在近似等于或略^:大于由源和記錄裝置的區(qū)域所定義的立體角的立體角范圍內(nèi)特別地"照亮"被研究的體積。在伽馬輻射源的情況下，在"內(nèi)部源"模式下，通過(guò)照射機(jī)構(gòu)的擴(kuò)展來(lái)移動(dòng)小片，所述照射機(jī)構(gòu)被引入到鉆入被檢查的塊中的孔中，由此允許在對(duì)應(yīng)于由源和記錄裝置的區(qū)域所定義的立體角的體積內(nèi)進(jìn)行測(cè)量。照射根據(jù)"伽馬射線檢測(cè)儀"所指示的劑量并根據(jù)針對(duì)源和記錄裝置的不同組合闡述照射時(shí)間相對(duì)于劑量之間的關(guān)系的表格而在特定的時(shí)間段內(nèi)發(fā)生。一旦測(cè)量結(jié)束，如果記錄裝置是需要"離線"讀取的累積型(射線照相底版、膠片或數(shù)字的)記錄裝置，則將其移除。方便地在臺(tái)架II中的適當(dāng)位置設(shè)置新的記錄裝置；測(cè)量編號(hào)增加一個(gè)單位；并在改變或不改變"源組件"的位置的情況下而在新位置上用源來(lái)執(zhí)行新的測(cè)量。在已檢測(cè)給定的結(jié)構(gòu)"區(qū)段"并已進(jìn)行所需次數(shù)的測(cè)量之后，執(zhí)行層析成像測(cè)定。作為本發(fā)明的方法的一部分的該分析程序包括包含以下步驟的計(jì)算機(jī)程序a)輸入正在測(cè)量的塊(橫梁、柱等)，即層析成像分析的對(duì)象的截面的尺寸和方位數(shù)據(jù)。定義固定于^皮研究的結(jié)構(gòu)的主坐標(biāo)系，分析的結(jié)果將參照該主坐標(biāo)系。b)在每次測(cè)量中指示已將記錄裝置放置在被研究的塊的哪一側(cè)。c)識(shí)別記錄裝置上的基準(zhǔn)標(biāo)記。所述程序執(zhí)行最小二乘調(diào)整以便以高精度來(lái)確定所述基準(zhǔn)標(biāo)記在記錄裝置的坐標(biāo)系中的位置。當(dāng)基準(zhǔn)標(biāo)記是對(duì)應(yīng)于球形參考元件的圓圏或橢圓時(shí)，通過(guò)此程序?qū)崿F(xiàn)的精度得到改善(參見(jiàn)下文關(guān)于用這種方法可以實(shí)現(xiàn)的精度的注解)?；鶞?zhǔn)標(biāo)記的位置確定i)每次測(cè)量中源關(guān)于記錄裝置和主坐標(biāo)系的位置，ii)記錄裝置關(guān)于坐標(biāo)系和關(guān)于在對(duì)結(jié)構(gòu)的相同截面進(jìn)行的其余測(cè)量時(shí)的記錄裝置位置的位置。d)確定對(duì)應(yīng)于不同截面中的鋼筋投影的輪廓的數(shù)據(jù)對(duì)，其稱(chēng)為"輪廓對(duì)"。所需的對(duì)的數(shù)目取決于鋼筋投影方向的取向和變化。e)計(jì)算由源的位置和對(duì)被研究的塊的相同截面執(zhí)行的全部測(cè)量所獲得的每個(gè)輪廓對(duì)所定義的"影錐(shadowcone)"。f)確定對(duì)應(yīng)于實(shí)際鋼筋的影錐交集，將全部沿著,皮檢查的塊執(zhí)行的不同截面測(cè)量的"輪廓對(duì)"考慮在內(nèi)。g)用層析成像結(jié)果來(lái)制作技術(shù)報(bào)告，亦即檢查截面中的每根鋼筋的編號(hào)、位置和直徑。此分析程序的特征和與現(xiàn)有技術(shù)的不同之處在于其以簡(jiǎn)單的方式將由固定于被研究的塊的單個(gè)主坐標(biāo)系中的不同坐標(biāo)系(用于每個(gè)記錄裝置的坐標(biāo)系)得到的數(shù)據(jù)組合?，F(xiàn)在將針對(duì)特定情況來(lái)描述本發(fā)明的方法的使用，作為非限制性的說(shuō)明性示例。在本發(fā)明的特定實(shí)施例中，將所述方法用于使用192Ir源的平板或壁中的鋼筋的層析成像測(cè)定。在這種情況下，所述設(shè)備包括固定于將測(cè)量其鋼筋的平板或壁的一個(gè)表面的"源組件"，和固定于平板或壁的相對(duì)側(cè)的"單面(uniplanar)"臺(tái)架II。通常但未必總是在"外部源"模式下執(zhí)行平板和壁的測(cè)量。圖l和2示出了用于使用"外部源"來(lái)分析平板的本實(shí)施例的示例。"源組件"在圖1中示出并包括由框架102和兩個(gè)板103組成的臺(tái)架I101，所述兩個(gè)板103中一個(gè)是上板，一個(gè)是下板，參考元件104附接于板上的精確預(yù)定的位置上；由兩個(gè)柱105、橫構(gòu)件(crossmember)106、準(zhǔn)直器支撐體107和準(zhǔn)直器108組成的源支撐體。此組件的尺寸對(duì)應(yīng)于實(shí)驗(yàn)需要和條件。本示例所示的情況準(zhǔn)備用于例如35x43厘米的射線照相底版，并且，因此，臺(tái)架I101的框架102為例如39x49cm。兩個(gè)柱105可拆卸地插入臺(tái)架1101的框架102中。柱105支撐橫構(gòu)件106，橫構(gòu)件106可位于兩個(gè)預(yù)定高度。用于將放射性源引入其中的準(zhǔn)直器108的支撐體107在橫構(gòu)件106上水平滑動(dòng)。準(zhǔn)直器108的支撐體107可以借助于錨定螺栓而固定于橫構(gòu)件106的不同的預(yù)定水平位置109上。橫構(gòu)件106與臺(tái)架IIOI對(duì)角地交叉，穿過(guò)其中心。部分地示出了可以用來(lái)屏蔽切向輻射并增加輻射保護(hù)的屏蔽裝置112?？蚣?02和橫構(gòu)件106優(yōu)選地由Al制成，且柱105優(yōu)選地由鋼制成?？梢允褂貌煌某绦騺?lái)將所述組件附接于被研究的平板或壁上。其中之一包括例如使用兩個(gè)吸力杯110，其附接在臺(tái)架1101的框架102的相對(duì)的側(cè)，將整個(gè)組件固定在光滑的地板或路面上；另一種程序包括使用固定在為此而械j占入臺(tái)架1101的框架102中的孔111中的螺釘。圖2示出了適合于用來(lái)通過(guò)"外部源"來(lái)研究由鋼筋混凝土板、底層地板和地板組成的結(jié)構(gòu)203的布置的橫截面圖，其中，將臺(tái)架I101放置在結(jié)構(gòu)203上，并將臺(tái)架II205放置在所述結(jié)構(gòu)203下面。為了根據(jù)此布置進(jìn)行分析，將源設(shè)置在兩個(gè)位置201和202上；通過(guò)將平板、底層地板和地板組件的厚度203和密度(在這種情況下)考慮在內(nèi)的計(jì)算來(lái)選擇所述位置。必須將源在平板(或壁)的同一部分的兩次測(cè)量中的水平和垂直位置確定為使以下條件最優(yōu)化a)在兩次測(cè)量中應(yīng)覆蓋可能的最大有效檢查體積204。b)應(yīng)獲得射線照相底版(放置在外殼209內(nèi)部)中可能的最大有效記錄區(qū)域，將板的靈敏度范圍和板的邊沿與中心之間的入射輻射路徑的差考慮在內(nèi)。c)應(yīng)將每次測(cè)量的持續(xù)時(shí)間保持在最低限度。為了根據(jù)這些條件來(lái)設(shè)置源，臺(tái)架I在橫構(gòu)件106的中心的每一側(cè)具有兩個(gè)可能的預(yù)定高度和四個(gè)可能的水平位置109,其在本示例中沿著橫構(gòu)件106的方向相隔lcm的預(yù)定距離。圖2還示出了臺(tái)架I101中的參考元件組件(在這種情況下為小珠子)104和臺(tái)架II205中的參考元件組件207,其分別插入板103和206中。在臺(tái)架I101的情況下，可以將一對(duì)珠子104放置在橫構(gòu)件106中用于設(shè)置源的每個(gè)預(yù)定水平位置109的垂直軸上，以便通過(guò)讀取記錄裝置上的各個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)記來(lái)容易地使每次測(cè)量時(shí)的源的位置可見(jiàn)。對(duì)應(yīng)于參考元件的基準(zhǔn)標(biāo)記能夠?qū)τ诿看螠y(cè)量確切地確定源和記錄裝置關(guān)于固定坐標(biāo)系的位置，所述固定坐標(biāo)系為在同一截面中執(zhí)行的所有測(cè)量所共用。最接近于源和記錄裝置的參考元件是能夠分別關(guān)于源和記錄裝置的位置以最小的誤差進(jìn)行所述確定的那些。圖2還示出了散射輻射過(guò)濾器208、記錄裝置209(例如其中具有射線照相底版和正常放大的屏幕的暗盒)和與記錄裝置的后側(cè)接觸的伽馬射線檢測(cè)儀210的布置。記錄裝置的上側(cè)與過(guò)濾器208接觸。上下板206之間的間距使得一旦布置了記錄裝置，則其與要測(cè)量的結(jié)構(gòu)保持最佳距離，通過(guò)用參考文獻(xiàn)6的程序執(zhí)行的模擬來(lái)確定該距離。用于研究平板或壁的鋼筋的程序包括首先借助于上述可選程序之一將"源組件"固定在被研究的結(jié)構(gòu)的一側(cè)。然后，通過(guò)沿著橫構(gòu)件106將準(zhǔn)直器水平地移動(dòng)至預(yù)定位置109之一并將所述橫構(gòu)件垂直地移動(dòng)到柱105中的預(yù)定位置之一來(lái)將準(zhǔn)直器放置在第一位置201上，從而使位置201對(duì)應(yīng)于被指示為滿足上述條件的位置。然后，將第二臺(tái)架II205放置在結(jié)構(gòu)的相對(duì)側(cè)，其使用未膝光的記錄裝置209。在以下步驟中，(例如根據(jù)伽馬射線檢測(cè)儀的指示)執(zhí)行預(yù)定時(shí)間段的照射。在該時(shí)間段結(jié)束時(shí)，源返回到其屏蔽容器，并且如果記錄裝置209為累積型(例如射線照相底版、膠片或數(shù)字式)并因此需要"離線"處理，則將記錄裝置209取出以進(jìn)行進(jìn)一步處理。然后，重復(fù)此程序，將源放置在第二位置202，將新的記錄裝置209設(shè)置在適當(dāng)位置處，即與前一記錄裝置類(lèi)似的位置上。由于本發(fā)明的參照系的原因，在兩次測(cè)量中，記錄裝置位置不需要完全相同(如在現(xiàn)有技術(shù)中一樣)。最后，一旦對(duì)被研究的結(jié)構(gòu)截面的編程測(cè)量完成(在本特定示例中為兩個(gè)射線照相底版)，則在上述程序之后執(zhí)行層析成像測(cè)定，以便通過(guò)將由所有測(cè)量得到的信息組合來(lái)確定結(jié)構(gòu)內(nèi)的鋼筋數(shù)目、其直徑、條件和位置。圖3示出了與圖2類(lèi)似但具有使用"內(nèi)部源"模式的布置的截面圖(參見(jiàn)下文)。在這種情況下，臺(tái)架I不存在，并使用臺(tái)架II的板206中的參考元件207(在這種情況下為珠子)來(lái)應(yīng)用本發(fā)明的方法。這里為了明了起見(jiàn)而未示出圖2所示的過(guò)濾器208和"伽馬射線檢測(cè)儀"210，而記錄裝置在這種情況下為用黑線表示的射線照相底版，白色間隔301模擬基準(zhǔn)標(biāo)記或吸收由參考元件207中的源發(fā)出的輻射所產(chǎn)生的"陰影"。操作員只測(cè)量并記錄臺(tái)架關(guān)于結(jié)構(gòu)中的某些參考點(diǎn)的位置。然后，可以通過(guò)獲知參考珠子207的坐標(biāo)并測(cè)量其圖像301在射線照相底版上的位置來(lái)計(jì)算源和記錄裝置的位置。與在"外部源"模式的情況下一樣，不移動(dòng)臺(tái)架，隨后將第二記錄裝置放置在臺(tái)架II上，并在第二位置用源執(zhí)行新的測(cè)量。然后，用來(lái)自這兩次測(cè)量(或者在多次測(cè)量的情況下為多次測(cè)量)的數(shù)據(jù)來(lái)確定平板中的鋼筋的位置和尺寸。此過(guò)程的優(yōu)點(diǎn)在于在現(xiàn)場(chǎng)工作期間節(jié)省時(shí)間和精力并能夠避免誤差且因此而實(shí)現(xiàn)更高的精度，尤其是在不可能同時(shí)接近結(jié)構(gòu)的兩側(cè)的那些情況下，正如頻繁出現(xiàn)的以下情況那樣，即對(duì)于平板或壁而言源和記錄裝置位于不同房間中。在這些情況下，對(duì)源關(guān)于記錄裝置的位置的傳統(tǒng)測(cè)量不容忽視。為了確定源和記錄裝置的位置(這是鋼筋的層析成像測(cè)定所需的)，在原理上，每次獲得兩個(gè)參考元件的圖像就足夠了。然而，實(shí)際上，適宜布置多于兩個(gè)的參考元件并獲得其相應(yīng)的基準(zhǔn)標(biāo)記，以便通過(guò)對(duì)于為各個(gè)對(duì)所獲得的結(jié)果取平均值來(lái)實(shí)現(xiàn)更高的精度，布置多于兩個(gè)的參考元件還因?yàn)榇嬖谶@些標(biāo)記中的某些可能疊加到板中的其它標(biāo)記上，從而使對(duì)其解譯變得困難的可能性。對(duì)獨(dú)立值取平均值的可能性的優(yōu)點(diǎn)在于減少讀數(shù)誤差以及減少由關(guān)于參考元件的預(yù)定位置的制造公差所引起的那些誤差。在本發(fā)明的另一實(shí)施例中，將所述方法應(yīng)用于對(duì)橫梁或柱中的鋼筋的層析成像測(cè)定。以與在先前的情況中類(lèi)似的方式，這種情況下的設(shè)備包括固定在將測(cè)量其鋼筋的橫梁或柱的一側(cè)的"源組件"，和固定于橫梁和柱的另一側(cè)的"單面、雙面、或三面"臺(tái)架II。本實(shí)施例的示例在圖4、5和6中示出，該示例應(yīng)用于對(duì)橫梁的中心截面的研究。圖4示意地示出了用于使用192&放射性小片作為源來(lái)研究橫梁截面和柱截面的兩種可能布置。在(a)中，示出了"外部源"^=莫式的布置。"源組件"包括具有其源的源402的容器/投影器的支撐體401，其固定于臺(tái)架I403，臺(tái)架I403具有框架和包括參考元件的兩個(gè)板(類(lèi)似于圖1中的臺(tái)架IIOI并依照對(duì)圖l所示的元件的說(shuō)明)。為了降低切向輻射的強(qiáng)度，可以添加可選屏蔽裝置(圖4中未示出)，其類(lèi)似于圖1中附圖標(biāo)記112所示的屏蔽裝置。準(zhǔn)直器404允許在源從容器402的內(nèi)部朝向準(zhǔn)直器404移位之后沿著期望的方向(朝著圖中的右手側(cè))進(jìn)行直接輻射以便開(kāi)始測(cè)量。類(lèi)似于對(duì)圖2中的臺(tái)架I1205的說(shuō)明，臺(tái)架II405包括兩個(gè)平面(每個(gè)平面包括具有板的框架)、參考元件、用于過(guò)濾器的空間、用于記錄裝置的支撐體和任選的伽馬射線檢測(cè)儀(參見(jiàn)圖5a和5b)。所述臺(tái)架被附接于橫梁，使得兩個(gè)平面保持與橫梁的兩側(cè)接觸(與源支撐體所附接的一側(cè)相對(duì)且鄰近)，且兩個(gè)平面的交叉部分與跟源側(cè)相對(duì)的橫梁邊緣重合。在其中如圖4(a)所示地設(shè)置源的"外部源"的情況下，用記錄裝置406來(lái)執(zhí)行一次或多次測(cè)量(源在垂直和水平方向上位于不同的位置)，記錄裝置406位于臺(tái)架405的垂直和水平平面中的記錄裝置支撐體中。在(b)中，示出了類(lèi)似的、但是在"內(nèi)部源"模式下的布置，其中從"源組件"中去除框架403及其相關(guān)元件，并用適當(dāng)直徑(例如內(nèi)徑和外徑分別約為12mm和15mm)的、適當(dāng)材料的管子構(gòu)成的延伸407來(lái)代替準(zhǔn)直器404，從而允許源在其中移動(dòng)位置，通過(guò)在與橫梁的下側(cè)相隔一定距離(如果使用的源為mIr,則約為例如28cm，如果源為6GCo，則約為50cm)的位置處鉆入橫梁的橫向側(cè)面之一的孔(例如直徑約為17mm)來(lái)引入所述管子。例如，此類(lèi)管子的長(zhǎng)度和孔的深度應(yīng)近似等于小于約10cm的橫梁的厚度。當(dāng)使用"內(nèi)部源"時(shí)，優(yōu)選地執(zhí)行N次測(cè)量(其中N是大于并最接近A/10-l的整數(shù)，A是以cm為單位測(cè)得的橫梁截面的寬度)。在第一次測(cè)量中，將源放置在例如與用以插入源的橫梁的側(cè)面相距約10cm的位置408處，并將記錄裝置放入臺(tái)架405的支撐體中，優(yōu)選地在位置410處，4吏得其中心與源的位置408相對(duì)。在連續(xù)的測(cè)量中，將源和記錄裝置的中心放置在與用以插入源的橫梁的側(cè)面相距例如20、30...(A-10)cm的位置處(源的位置409和記錄裝置的位置411及連續(xù)的位置)。在(c)中，示出了"內(nèi)部源"^^莫式下的類(lèi)似于(b)的布置，其用于比通過(guò)可適用標(biāo)準(zhǔn)(例如"Testingconcrete"BritishStandard1881，part205.Recommendationsforradiographyofconcrete(參考文獻(xiàn)3))所確定柱的更厚的柱中的鋼筋研究。在這種布置中，使用19211源，其中將附加平面412添加到臺(tái)架II(如圖5(c)中更詳細(xì)地所示)，并將該平面調(diào)整為使其接觸與用以引入源的側(cè)面相鄰的側(cè)面(圖4(c))。如果孔與相鄰側(cè)面之間的距離在例如20和30cm之間，則優(yōu)選地在用以引入源的側(cè)面的中心處鉆孔，或者鉆兩個(gè)孔，使得每個(gè)孔與鄰近于源側(cè)的任一側(cè)相隔例如在20和30cm之間的距離(如果采用6°0)源，則以約2.5的因子增加這些值)。在第一次測(cè)量中，例如在柱內(nèi)10cm處引入源。在單個(gè)中心孔的情況下，同時(shí)照射兩個(gè)記錄裝置，其中將所述兩個(gè)記錄裝置在鄰近用以引入源的側(cè)面的平面上設(shè)置為彼此相對(duì)，并且其中心與源相對(duì)。相反，照射單個(gè)記錄裝置，所述單個(gè)記錄裝置設(shè)置在與引入源的側(cè)面相鄰的一側(cè)、與孔相隔例如20和30cm之間的距離的位置處。通過(guò)將源沿著平行于孔的方向以例如10cm為間隔移動(dòng)，直到深度等于柱的尺度(小于10cm)，根據(jù)需要而進(jìn)行許多次測(cè)量。在每次測(cè)量中，將記錄裝置(在同時(shí)測(cè)量的情況下為一個(gè)或多個(gè))放置成與源相對(duì)。通過(guò)將記錄裝置放置在與引入源的側(cè)面相對(duì)的一側(cè)，來(lái)執(zhí)行其中源位于跟與用以引入源的側(cè)面的相對(duì)的側(cè)面相距例如20和30cm之間的位置處的測(cè)量。在兩個(gè)孔的情況下，在記錄裝置位于與第一組測(cè)量中使用的側(cè)面相對(duì)的一側(cè)的情況下重復(fù)所述程序。圖5(a)、5(b)和5(c)示出如上所描述的、在橫梁和柱的研究中使用的臺(tái)架II的布置。圖5(a)和5(b)示出兩個(gè)垂直平面，主平面501和輔助平面502，其相互固定，并可以折疊以采用兩個(gè)交替位置i)在測(cè)量期間使用的打開(kāi)位置(圖5(a))和ii)在運(yùn)輸期間使用的閉合位置(圖5(b))。另外，可以添加另一輔助平面503，其垂直于主平面501，并可以在主平面框架上滑動(dòng)，使其接觸橫梁或柱的自由橫向側(cè)。每個(gè)平面501、502和503類(lèi)似于圖2的"單面"臺(tái)架II205并與后者一樣包括參照系、用于散射輻射過(guò)濾器的外殼、用于記錄裝置的支撐體和用于伽馬射線檢測(cè)儀的支撐體，諸如前文描述的那些(圖5(a)、5(b)和5(c)為了明了起見(jiàn)而并未示出所有這些元件)。位于平面501和502上的記錄裝置的中心位置可以改變近似等于相應(yīng)平面的一個(gè)長(zhǎng)度的距離，而在平面503的情況下，此變化受到以下情況的約束，即位于此平面中的支撐體中的記錄裝置的邊緣之一受到主平面的上表面的限制。圖6所示原型的主平面的長(zhǎng)度通過(guò)應(yīng)用來(lái)確定，在示例中，其為例如約50cm，并可以使用補(bǔ)充物來(lái)延長(zhǎng)。圖5(a)還示出了為臺(tái)架II提供到橫梁或柱的固定手段的金屬帶505，和螺釘504，當(dāng)記錄裝置位于垂直位置時(shí)(與在圖4(a)和4(b)的情況下一樣)，抵靠著位于平面502上的記錄裝置來(lái)調(diào)整該螺釘504以防止記錄裝置向下滑動(dòng)。圖6示出了在記錄裝置209在垂直和水平平面上(伽馬射線檢測(cè)儀未示出)的情況下垂直平面在橫梁上的操作位置時(shí)的臺(tái)架II的位置。通過(guò)前述替換程序中的任何一個(gè)將臺(tái)架II固定于橫梁或柱上，使得平面接觸橫梁或柱的側(cè)面且平面501和502的交叉部分與橫梁或柱的邊緣之一重合。還可以將本發(fā)明的方法應(yīng)用于其它對(duì)可見(jiàn)光不透明的結(jié)構(gòu)和其它物體的研究。在結(jié)構(gòu)的領(lǐng)域內(nèi)，應(yīng)提及撓性臺(tái)架，其具有前文所描述的屬性，用于例如具有非矩形橫截面的柱的研究?？梢詫⒈景l(fā)明的方法應(yīng)用于對(duì)橫梁側(cè)部(laterals)的研究以便確定其中某些鋼筋改變方向從而抵抗橫梁支撐體附近的剪切應(yīng)力的點(diǎn)，或者還可以應(yīng)用于對(duì)橫梁支撐體之上的橫梁的上部或?qū)A(chǔ)的研究，在塊的厚度這樣要求的情況下，可以應(yīng)用"內(nèi)部源"模式。還已將本發(fā)明的方法用于對(duì)紀(jì)念碑和裝飾物(ornamets)的內(nèi)部金屬結(jié)構(gòu)的研究。此說(shuō)明目的，我們只需考慮兩個(gè)源位置701和702、兩根鋼筋703和704、在圖7所指示的位置(X，Y)上并入臺(tái)架II的上板206的參考珠子207(為明了起見(jiàn)，該方案中未示出臺(tái)架II中的下板206、過(guò)濾器208和伽馬射線檢測(cè)儀210)。如前所述，這些珠子是具有適當(dāng)直徑(優(yōu)選為2mm)的非常具有輻射吸收性的元件。在輻射下，這些珠子207在記錄裝置209上產(chǎn)生"陰影"或基準(zhǔn)標(biāo)記，其形狀為比背景更清晰的橢圓形。這些參考元件優(yōu)選為球形的原因是因?yàn)榍虻?陰影"是圓或橢圓，并可以使用最小二乘法來(lái)調(diào)整這些形狀，因此可以以比使用其它形狀可實(shí)現(xiàn)的精度更高的精度來(lái)確定其位置。用以確定鋼筋793和704的位置和直徑(其構(gòu)成要解決的層析成像問(wèn)題的未知變量)的精度取決于包括參照系在內(nèi)的所有部件的制造公差，并取決于可以用來(lái)從記錄裝置中提^K子圖像的中心和鋼筋所投影的陰影的橫截面圖的精度。表I的第一部分中總結(jié)了為進(jìn)行本計(jì)算而假設(shè)的誤差來(lái)源及其量值。使用為此而特別開(kāi)發(fā)的實(shí)際計(jì)算機(jī)軟件來(lái)執(zhí)行與本發(fā)明的方法相關(guān)的誤差的計(jì)算。此類(lèi)軟件基于源、參考珠子、鋼筋和記錄裝置的位置的標(biāo)稱(chēng)值來(lái)模擬實(shí)際情況，同時(shí)其還將由于制造公差而引起的誤差和板上的基準(zhǔn)標(biāo)記的讀取誤差考慮在內(nèi)。采用具有一定標(biāo)準(zhǔn)偏差的正態(tài)分布，以統(tǒng)計(jì)學(xué)為基礎(chǔ)來(lái)估計(jì)那些誤差。此計(jì)算中使用的值和坐標(biāo)系在圖7中示出。假設(shè)鋼筋703和704與Z軸平行。還假設(shè)成對(duì)地與Z軸對(duì)準(zhǔn)的四個(gè)珠子207例如位于附圖平面之上和之下10cm。表1的下半部分總結(jié)通過(guò)^=莫擬兩千次測(cè)量而獲得的在未知鋼筋的位置測(cè)定中使用本方法時(shí)可實(shí)現(xiàn)的精度的結(jié)果。為了簡(jiǎn)單起見(jiàn)，計(jì)算不包括板關(guān)于臺(tái)架的位置的不確定性。可以使用插入到非常接近于板的臺(tái)架下板中的珠子的基準(zhǔn)標(biāo)記來(lái)非常確切地確定此量值。上述誤差基本上是由源的位置事先未知的假設(shè)所引起的。因此，此計(jì)算對(duì)應(yīng)于與前文結(jié)合圖l和2所描述的布置不同的布置，在結(jié)合圖l和圖2所描述的布置中認(rèn)為源的位置事先已知。因此，該計(jì)算尤其與"內(nèi)部源"的情況相關(guān)，對(duì)于"內(nèi)部源"情況，其中事先不確切地知道源的位置。雖然進(jìn)行上述近似，但是認(rèn)為本發(fā)明的方法中的估計(jì)誤差對(duì)于本發(fā)明的應(yīng)用具有代表性。表I<table>tableseeoriginaldocumentpage21</column></row><table>權(quán)利要求1.一種用于通過(guò)照射對(duì)可見(jiàn)光不透明的物體內(nèi)的對(duì)象來(lái)改善層析成像測(cè)定的方法，所述方法包括步驟a)用穿透性輻射來(lái)照射所述物體，以及b)將穿過(guò)所述物體的所述輻射記錄在記錄裝置中；該方法還包括步驟i.提供具有多個(gè)被獨(dú)立識(shí)別且各不相同的參考元件的參照系，所述參考元件由高密度的輻射吸收材料制成，以有序的方式來(lái)布置該參考元件；ii.識(shí)別上述測(cè)量；iii.確定照射時(shí)間；以及iv.基于記錄在記錄裝置上、用于測(cè)量的信息來(lái)確定物體內(nèi)的對(duì)象的位置和尺寸。2.如權(quán)利要求1所述的方法,還包括使直接輻射與散射輻射的比最優(yōu)化并改善圖像質(zhì)量的步驟。3.如權(quán)利要求1所述的方法,提供用于確定實(shí)現(xiàn)最大對(duì)比度所需的輻射時(shí)間的裝置。4.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，輻射源是X射線或伽馬射線源。5.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，將該方法應(yīng)用于鋼筋混凝土的結(jié)構(gòu)塊內(nèi)的金屬元件等的層析成像測(cè)定。6.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述參考元件是剛性或撓性支撐裝置內(nèi)的棒、小球、珠子等等。7.如權(quán)利要求l所述的方法，還提供用于參考元件的支撐裝置，其包括由伽馬輻射吸收性差的材料的制成一個(gè)或多個(gè)板，所述材料選自由塑料、丙烯酸、Luxite或類(lèi)似材料組成的組。8.如權(quán)利要求1所述的方法，還包括以下步驟鉆孔并在所述孔中引入放射性源，從而解決比用于工業(yè)X射線測(cè)定的放射性物質(zhì)的可適用標(biāo)準(zhǔn)所覆蓋的那些混凝土塊更厚的混凝土塊的測(cè)定。9.一種用于位于對(duì)可見(jiàn)光不透明的物體內(nèi)的對(duì)象的位置和尺寸的三維測(cè)定的布置，該布置包括a)能夠穿透所述物體的輻射源；b)記錄透過(guò)該物體的輻射的記錄裝置；包括i.參照系，其具有多個(gè)被獨(dú)立識(shí)別且各不相同的參考元件，所述參考元件由高密度的輻射吸收材料制成，以有序的方式來(lái)布置該參考元件；ii.用于測(cè)量的識(shí)別裝置；以及iii.確定照射時(shí)間的裝置。10.如權(quán)利要求9所述的布置，其包括使直接輻射與散射輻射的比最優(yōu)化、由此改善圖像質(zhì)量的裝置。11.如權(quán)利要求9所述的布置，對(duì)于借助于外部源而進(jìn)行塊的研究的應(yīng)用，所迷布置包括a)用于輻射源的支撐體，其不可移動(dòng)地與被研究的塊附接；b)第一臺(tái)架，其位于源與被研究的塊之間，不可移動(dòng)地與所述物體附接，其第一框架包括參照系；c)第二臺(tái)架，其包括一個(gè)或多個(gè)平面，不可移動(dòng)地與所述物體附接，使得所述平面分別平行于與布置所述第一框架的物體側(cè)面相對(duì)或鄰近的所述物體的側(cè)面，所述第二框架包括i)用于輻射記錄裝置的支撐體；以及ii)參照系，其包括多個(gè)參考元件，所述多個(gè)參考元件由高密度材料制成并以有序的方式布置，使得它們可被獨(dú)立地識(shí)別并各不相同，所述參考元件;故固定于所述臺(tái)架。12.如權(quán)利要求9所述的布置，其應(yīng)用于使用內(nèi)部源的塊的研究，所述布置包括a)用于輻射源的支撐體，其不可移動(dòng)地與被研究的塊附接，所述被研究的塊適合于使用"內(nèi)部源"，即源位于在被研究的塊中鉆的孔內(nèi)；b)臺(tái)架，其包括一個(gè)或多個(gè)平面，其不可移動(dòng)與所述物體附接，使得所述平面分別平行于與布置有所述源支撐體的側(cè)面相對(duì)或鄰近的物體側(cè)面，所述框架包括i)用于輻射記錄裝置的支撐體；以及ii)參照系，其包括多個(gè)參考元件，所述多個(gè)參考元件由高密度材料制成并以有序的方式布置使得可以獨(dú)立地識(shí)別它們并使其各不相同的，所述參考元件被固定于所述臺(tái)架。13.如權(quán)利要求ll或12所述的布置，其中，其包括確定實(shí)現(xiàn)最大對(duì)比度所需的照射時(shí)間的裝置。14.如權(quán)利要求11或12所述的布置，其中，用于輻射源和臺(tái)架的支撐體的固定裝置包括粘附于被研究的物體的吸力杯。15.如權(quán)利要求ll或12所述的布置，其中，用于輻射源和臺(tái)架的支撐體的固定裝置包括固定于被研究的物體的螺栓。16.如權(quán)利要求ll或12所述的布置，其中，借助于用基于蒙特卡羅或等效方法的程序而執(zhí)行的計(jì)算來(lái)確定被研究的物體與第二臺(tái)架中的記錄裝置之間的最佳距離，所述程序能夠在被檢查的情況的特定條件下計(jì)算到達(dá)記錄裝置的輻射的強(qiáng)度和能量。17.如權(quán)利要求11或12所述的布置，其中，在其上面布置有記錄裝置的第二臺(tái)架包括優(yōu)先地使穿過(guò)被檢查的物體的散射輻射衰減的元件，所述散射輻射對(duì)于鋼筋混凝土塊來(lái)說(shuō)特別嚴(yán)重，使用基于蒙特卡羅或等效方法的程序進(jìn)行的模擬來(lái)確定被研究的物體的性質(zhì)和厚度，所述程序能夠在每種情況的特定條件下計(jì)算穿過(guò)被研究的物體的輻射的強(qiáng)度和能量。18.如權(quán)利要求11或12所述的布置，其中，所述第二臺(tái)架包括兩個(gè)平面并固定于被研究的物體，使得兩個(gè)平面的交叉部分與所述物體的邊緣重合，使得自動(dòng)地定義所述框架上的參考元件與被研究的物體之間的關(guān)系。19.如權(quán)利要求11或12所述的布置，其中，所述框架可從框架相對(duì)于彼此被布置為用于使用的打開(kāi)位置折疊到框架被布置為相互平行以方便運(yùn)輸?shù)拈]合位置。20.如權(quán)利要求11或12所述的布置，其中，所述第二臺(tái)架包括相互垂直的三個(gè)平面，第三平面可以關(guān)于第一平面而移動(dòng)，使得在使用期間抵靠著被研究的塊的相鄰側(cè)面來(lái)布置該平面，該布置特別適用于鋼筋混凝土橫梁和柱。21.—種與在鋼筋混凝土板內(nèi)的鋼筋的情況下一樣用于具有平行側(cè)面且與設(shè)備的尺寸相比具有較大尺寸的對(duì)象的三維測(cè)定的布置，該布置將與如權(quán)利要求11所述的布置相結(jié)合地使用，其中，支撐所述源的結(jié)構(gòu)包括以下位置，所述位置被設(shè)計(jì)為當(dāng)執(zhí)行一定持續(xù)時(shí)間的多次照射時(shí)使被檢查的有效體積以及三維分析的精度最大化，所述有效體積和精度作為所述物體的厚度及正在使用的輻射源和記錄裝置的類(lèi)型的函數(shù)。22.—種與在鋼筋混凝土板內(nèi)的鋼筋的情況下一樣用于具有平行側(cè)面且與設(shè)備的尺寸相比具有較大尺寸的對(duì)象的三維測(cè)定的方法，包括步驟a)沿著預(yù)定位置上的橫構(gòu)件來(lái)移動(dòng)用于放射性源的支撐體；b)以相對(duì)于被研究的物體的不同預(yù)定距離將放射性源的所述支撐體固定于橫構(gòu)件上，c)借助于插入第一臺(tái)架中并關(guān)于第一臺(tái)架對(duì)角地取向的兩根棒來(lái)保持所述橫構(gòu)件，d)在不需要操作員介入的情況下以高精度確定源的位置。23.—種用于被研究的物體內(nèi)的對(duì)象的三維測(cè)定的方法，包括以下步驟a)定義固定于被檢查的物體的坐標(biāo)系；b)指示記錄裝置關(guān)于上述段落a)的坐標(biāo)系的布置；c)確定由臺(tái)架中的參考元件產(chǎn)生的基準(zhǔn)標(biāo)記的位置，并隨后基于該基準(zhǔn)標(biāo)記的位置來(lái)確定源和記錄裝置兩者關(guān)于被研究的塊的位置；d)確定鋼筋在記錄裝置上的投影的輪廓；e)通過(guò)將對(duì)同一截面的各次測(cè)量期間所獲得的信息組合，對(duì)鋼筋的投影輪廓和源的位置所定義的錐形內(nèi)的鋼筋的位置和直徑進(jìn)行三維繪圖；f)在上述段落a)中定義的坐標(biāo)上呈現(xiàn)對(duì)應(yīng)于層析重建的結(jié)果。24.—種遠(yuǎn)程并連續(xù)地檢測(cè)施加于記錄裝置表面上的不同點(diǎn)的輻射劑量并確定照射時(shí)間的設(shè)備，包括具有多個(gè)輻射敏感設(shè)備的臺(tái)架，該設(shè)備位于記錄裝置后面。全文摘要本發(fā)明公開(kāi)了一種用于借助于輻射來(lái)改善層析成像測(cè)定的方法和裝置，其特別適用于混凝土中的鋼筋。所述方法包括用穿透性輻射來(lái)照射所述物體，將穿過(guò)所述物體的所述輻射記錄在記錄裝置中；提供具有多個(gè)被獨(dú)立識(shí)別且各不相同的參考元件的參照系，所述參考元件由高密度的輻射吸收材料制成，以有序的方式來(lái)布置此類(lèi)參考元件；識(shí)別上述測(cè)量；確定照射時(shí)間；以及基于記錄在記錄裝置上、用于測(cè)量的信息來(lái)確定物體內(nèi)的對(duì)象的位置和尺寸。文檔編號(hào)G01N23/18GK101558293SQ200780042401公開(kāi)日2009年10月14日申請(qǐng)日期2007年10月31日優(yōu)先權(quán)日2006年11月14日發(fā)明者M(jìn)·A·J·馬里斯考蒂,M·D·拉福洛,P·西博格,T·弗里杰里奧申請(qǐng)人:鋼筋混凝土層析X射線攝影股份公司