專(zhuān)利名稱(chēng)：測(cè)試機(jī)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種測(cè)試機(jī)構(gòu)，特別是涉及一種用以檢測(cè)IC晶片，能防 止測(cè)試機(jī)構(gòu)園施壓力道過(guò)大造成IC晶片破損，且能平穩(wěn)且正確地與待測(cè)IC 產(chǎn)生對(duì)位效果，實(shí)現(xiàn)單一測(cè)試單元能同時(shí)測(cè)試多組IC晶片作用而可提升測(cè)試效率的測(cè)試才幾構(gòu)。雄甚娃#為了檢知IC晶片制成之后的良窳與否，并對(duì)測(cè)試后的晶片加以分類(lèi)處 理，目前業(yè)者會(huì)利用一 IC測(cè)試分類(lèi)機(jī)來(lái)進(jìn)行測(cè)試分類(lèi)，以往的IC測(cè)試分類(lèi) 機(jī)主要是先將待測(cè)IC移至一待試區(qū)內(nèi)，再利用 一具有真空吸附能力的測(cè)試 臂(test hand),將一測(cè)試單元(測(cè)試頭)吸附并壓制在該待測(cè)IC上，使待 測(cè)IC的接腳能與該測(cè)試單元的插座產(chǎn)生電性連結(jié)，進(jìn)而偵知IC晶片的相 關(guān)功能是否正常無(wú)誤，而測(cè)試完成之后的IC晶片會(huì)經(jīng)由一控制單元的操控 下，依優(yōu)良品、不良品的分類(lèi)，利用該測(cè)試臂或一輸送機(jī)構(gòu)來(lái)移動(dòng)，并儲(chǔ)放 在對(duì)應(yīng)的儲(chǔ)置區(qū)內(nèi)，以備下一制程的進(jìn)行。但是，由于該測(cè)試單元是以觸壓IC的方式才能達(dá)到檢測(cè)效果，而該測(cè) 試單元的壓制力道又完全取決于該測(cè)試臂的下移行程，所以，在該測(cè)試單 元與待測(cè)IC接觸位置無(wú)緩沖機(jī)制的情形下，若該測(cè)試臂的位移行程稍有誤 差，往往容易使得測(cè)試單元的壓制力道過(guò)大而使晶片破損，所以操作人員在 使用前必須非常小心的調(diào)校測(cè)試臂的位移行程，且不同類(lèi)型或批次的IC晶 片便必須重新調(diào)校一次，也造成使用上的困擾。此外，以往現(xiàn)有的IC測(cè)試分類(lèi)機(jī)構(gòu)在才喿作的效率上相當(dāng)緩慢，主要原因 在于該測(cè)試單元僅能對(duì)單一個(gè)IC晶片進(jìn)行檢測(cè)，如果欲增加其測(cè)試效率，只 能藉由增加測(cè)試單元的插座數(shù)量來(lái)因應(yīng)，但隨著IC晶片微型化的發(fā)展趨勢(shì) 下，該測(cè)試單元的插座必須同時(shí)精準(zhǔn)地與多數(shù)個(gè)IC對(duì)位，否則除了可能無(wú) 法達(dá)到正確對(duì)位來(lái)進(jìn)行檢測(cè)作業(yè)之外，也會(huì)因?yàn)閮烧唛g的位置偏移，而造 成壓制后的IC晶片破損。由此可見(jiàn)，上迷現(xiàn)有的測(cè)試機(jī)構(gòu)在結(jié)構(gòu)與使用上，顯然仍存在有不便 與缺陷，而亟待加以進(jìn)一步改進(jìn)。為了解決上述存在的問(wèn)題，相關(guān)廠商莫 不費(fèi)盡心思來(lái)謀求解決之道，但是長(zhǎng)久以來(lái)一直未見(jiàn)適用的設(shè)計(jì)被發(fā)展完 成，而一般產(chǎn)品又沒(méi)有適切的結(jié)構(gòu)能夠解決上述問(wèn)題，此顯然是相關(guān)業(yè)者急 欲解決的問(wèn)題。因此如何能創(chuàng)設(shè)一種新型的測(cè)試機(jī)構(gòu)，實(shí)屬當(dāng)前重要研發(fā)
課題之一，亦成為當(dāng)前業(yè)界極需改進(jìn)的目標(biāo)。有鑒于上述現(xiàn)有的測(cè)試機(jī)構(gòu)存在的缺陷，本設(shè)計(jì)人基于從事此類(lèi)產(chǎn)品 設(shè)計(jì)制造多年豐富的實(shí)務(wù)經(jīng)驗(yàn)及專(zhuān)業(yè)知識(shí)，并配合學(xué)理的運(yùn)用，積極加以研 究創(chuàng)新，以期創(chuàng)設(shè)一種新型的測(cè)試機(jī)構(gòu)，能夠改進(jìn)一般現(xiàn)有的測(cè)試機(jī)構(gòu)，使 其更具有實(shí)用性。經(jīng)過(guò)不斷研究、設(shè)計(jì)，并經(jīng)過(guò)反復(fù)試作樣品及改進(jìn)后，終 于創(chuàng)設(shè)出確具實(shí)用價(jià)值的本實(shí)用新型。發(fā)稱(chēng)內(nèi)客本實(shí)用新型的目的在于，克服現(xiàn)有的測(cè)試機(jī)構(gòu)存在的缺陷，而提供一種 新型的測(cè)試機(jī)構(gòu)，所要解決的技術(shù)問(wèn)題是使其可以解決以往測(cè)試單元與待測(cè)IC之間無(wú)緩沖機(jī)制，造成晶片受壓制后容易破損，以及兩者無(wú)法精準(zhǔn)對(duì)位、位移行程調(diào)校不便的缺點(diǎn)，從而更加適于實(shí)用。本實(shí)用新型的目的及解決其技術(shù)問(wèn)題是采用以下的技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn) 的。依據(jù)本實(shí)用新型提出的一種測(cè)試機(jī)構(gòu)，可接受一機(jī)具的一控制單元的驅(qū)動(dòng)而將待測(cè)物移動(dòng)至一測(cè)試區(qū)進(jìn)行測(cè)試分類(lèi)，該測(cè)試機(jī)構(gòu)包含 一 固定 單元，連接在該控制單元上，具有一容置空間及一設(shè)置在該容置空間內(nèi)的緩 沖元件； 一活動(dòng)單元，具有至少一可沿一第一方向活動(dòng)且一端軸設(shè)在該容 置空間內(nèi)的嵌引件；以及一測(cè)試座，位于該活動(dòng)單元下方且與該嵌引件連 結(jié)，具有一頂面、 一相反于該頂面的底面，以及至少一個(gè)設(shè)置于該底面的嵌 置孔，用以吸附一測(cè)試治具。本實(shí)用新型的目的及解決其技術(shù)問(wèn)題還可以可采用以下的技術(shù)措施來(lái) 進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)。前述的測(cè)試才幾構(gòu)，其中所述的緩沖元件是以彈性材料制成薄片狀。 前述的測(cè)試才幾構(gòu)，其中所述的固定單元更具有一連通該容置空間的進(jìn)氣孔，可以供外界加壓流體泵送入該容置空間，促使該緩沖元件可保持表面張力。前述的測(cè)試機(jī)構(gòu)，其中所述的固定單元是由一上殼件及一下殼件對(duì)接 而成，該上、下殼件對(duì)合后的內(nèi)壁面是構(gòu)成該封閉狀的容置空間，且使得該 緩沖元件夾設(shè)在該上殼體、下殼件之間。前述的測(cè)試枳i構(gòu)，其中所迷的固定單元更具有復(fù)數(shù)鎖設(shè)元件，該等鎖設(shè) 元件是穿置過(guò)該下殼件及該緩沖元件后，再鎖設(shè)入該上殼件。前述的測(cè)試機(jī)構(gòu)，其中所述的活動(dòng)單元更具有一軸設(shè)在容置空間內(nèi)且與嵌引件固接的活動(dòng)座，且該活動(dòng)座是對(duì)應(yīng)于該緩沖元件。前迷的測(cè)試機(jī)構(gòu)，其中所述的固定單元更具有一裝設(shè)于該容置空間內(nèi)的導(dǎo)柱，該活動(dòng)座對(duì)應(yīng)該導(dǎo)柱開(kāi)設(shè)有一導(dǎo)孔。前述的測(cè)試才凡構(gòu)，其中所述的活動(dòng)單元更具有至少一 自該活動(dòng)座底部 朝下延伸且凸露出該容置空間外的抵接臺(tái)。前述的測(cè)試機(jī)構(gòu)，其中所述的活動(dòng)單元的嵌引件包括有反向設(shè)置的一 大徑段及一小徑段。前述的測(cè)試機(jī)構(gòu)，其更包含有一設(shè)置在該活動(dòng)羊元該測(cè)試座之間的連 結(jié)單元，該連結(jié)單元具有一頂面、 一與該頂面反向的底面、至少一貫通該 頂、底面的滑槽，使該嵌引件的大徑段可伸設(shè)在該滑槽內(nèi)且無(wú)脫出之虞。前述的測(cè)試4幾構(gòu)，其中所述的連結(jié)單元更具有至少一裝設(shè)在該滑槽內(nèi) 且套穿該嵌引件的滑套。前述的測(cè)試機(jī)構(gòu)，其中所述的滑套開(kāi)孔的孔徑是小于該嵌引件大徑段 的外徑。前述的測(cè)試機(jī)構(gòu)，其中所述的連結(jié)單元更具有復(fù)數(shù)個(gè)沿一第二方向開(kāi) 設(shè)的弧形孔，及復(fù)數(shù)個(gè)穿置過(guò)該等弧形孔且鎖設(shè)入該測(cè)試座內(nèi)的螺栓，使該 測(cè)試座能沿該弧形孔的長(zhǎng)方向且相對(duì)該連結(jié)單元產(chǎn)生徑向旋擺。前述的測(cè)試機(jī)構(gòu)，其更包含有復(fù)數(shù)個(gè)裝設(shè)在該測(cè)試座一頂面與該連結(jié) 單元底面之間的滑動(dòng)單元，且使得該測(cè)試座與該連結(jié)單元之間形成有一間 隙。前述的測(cè)試機(jī)構(gòu)，其中所述的滑動(dòng)單元為滾珠軸承。前述的測(cè)試機(jī)構(gòu)，其中所述的測(cè)試座更具有復(fù)數(shù)個(gè)分別對(duì)應(yīng)該等嵌置 孔且可相連通的導(dǎo)氣孔。前述的測(cè)試機(jī)構(gòu)，其更包含有一固接在該控制單元與該固定單元之間 的基座。前述的測(cè)試機(jī)構(gòu)，其中所述的基座具有二分別位于短側(cè)邊的掛接部，用 以掛設(shè)于該控制單元的下方。本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有明顯的優(yōu)點(diǎn)和有益效果。經(jīng)由以上可知，為了達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型提出一種能提供測(cè)試單元在壓制待測(cè)ic 時(shí)的緩沖位移行程，并且兩者可達(dá)到精準(zhǔn)對(duì)位的測(cè)試機(jī)構(gòu)。該測(cè)試機(jī)構(gòu)可 接受 一 才幾具的 一 控制單元的驅(qū)動(dòng)而將待測(cè)物移動(dòng)至 一 測(cè)試區(qū)進(jìn)行測(cè)試分 類(lèi)，且該測(cè)試機(jī)構(gòu)包含有一固定單元、 一活動(dòng)單元及一測(cè)試座。該固定單元，連接在該控制單元上，具有一容置空間及一設(shè)置在該容置 空間內(nèi)的緩沖元件。該活動(dòng)單元，具有一對(duì)應(yīng)該緩沖元件的活動(dòng)座，以及至少一固接該活動(dòng)座且可沿一第一方向活動(dòng)的嵌引件。該測(cè)試座，位于該活動(dòng)單元下方且與該嵌引件相連結(jié)，具有一頂面、一 相反于該頂面的底面，以及至少一設(shè)置于該底面的嵌置孔，用以吸附一測(cè)試 治具。此外，該測(cè)試:機(jī)構(gòu)更包含有位于一個(gè)該活動(dòng)單元與該測(cè)試座之間的連 結(jié)單元，該連結(jié)單元具有一頂面、 一與該頂面反向的底面、至少一貫通該 頂、底面且供該嵌引件伸設(shè)其內(nèi)的滑槽，使該嵌引件的底端可伸設(shè)在該滑 槽內(nèi)且無(wú)脫出之虞，且該連結(jié)單元的底面與該嵌引件的底端之間，形成設(shè) 有一緩沖室。借由上述技術(shù)方案，本實(shí)用新型測(cè)試機(jī)構(gòu)至少具有下列優(yōu)點(diǎn)1、 應(yīng)用本實(shí)用新型測(cè)試機(jī)構(gòu)利用容置空間內(nèi)的緩沖元件，加上測(cè)試座 頂面與嵌引件之間所形成的緩沖室，提供了測(cè)試機(jī)構(gòu)在下移壓制待測(cè)IC時(shí) 的軸向緩沖位移行程，能夠防止測(cè)試機(jī)構(gòu)因施壓力道過(guò)大，造成工C晶片的 破損情形。2、 本實(shí)用新型除了測(cè)試座能產(chǎn)生軸向的緩沖位移外，還能藉由滑動(dòng)單 元搭配連結(jié)單元的弧形孔，使整個(gè)測(cè)試座能夠適時(shí)的產(chǎn)生徑向偏擺，能平 穩(wěn)且正確地與待測(cè)IC產(chǎn)生對(duì)位效果，實(shí)現(xiàn)單一測(cè)試單元能同時(shí)測(cè)試多組IC 晶片的作用，而可"l是升測(cè)試效率。綜上所述，本實(shí)用新型是有關(guān)一種測(cè)試機(jī)構(gòu)，包含有一固定單元、 一位 于該固定單元下方的活動(dòng)單元及一測(cè)試座，該固定單元具有一容置空間及 一設(shè)在該容置空間內(nèi)的緩沖元件，該活動(dòng)單元具有至少一可沿一第一方向 活動(dòng)且一端軸設(shè)在該容置空間內(nèi)的嵌引件，該測(cè)試座位于該活動(dòng)單元下方 且與該嵌引件相連結(jié)，具有一頂面、 一相反于該頂面的底面，以及至少一設(shè) 置于該底面的嵌置孔，用以吸附一測(cè)試治具。其可以解決以往測(cè)試單元與 待測(cè)IC之間無(wú)緩沖機(jī)制，造成晶片受壓制后容易破損，以及兩者無(wú)法精準(zhǔn) 對(duì)位、位移行程調(diào)校不便的缺點(diǎn)，非常適于實(shí)用。本實(shí)用新型具有上述諸 多優(yōu)點(diǎn)及實(shí)用價(jià)值，其不論在產(chǎn)品結(jié)構(gòu)或功能上皆有較大改進(jìn)，在技術(shù)上 有顯著的進(jìn)步，并產(chǎn)生了好用及實(shí)用的效果，且較現(xiàn)有的測(cè)試機(jī)構(gòu)具有增 進(jìn)的突出功效，從而更加適于實(shí)用，并具有產(chǎn)業(yè)廣泛利用價(jià)值，誠(chéng)為一新 穎、進(jìn)步、實(shí)用的新設(shè)計(jì)。上述說(shuō)明僅是本實(shí)用新型技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本實(shí) 用新型的技術(shù)手段，而可依照說(shuō)明書(shū)的內(nèi)容予以實(shí)施，并且為了讓本實(shí)用 新型的上述和其他目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實(shí)施 例，并配合附圖，詳細(xì)說(shuō)明如下。附屈說(shuō)明

圖1是依照本實(shí)用新型一較佳實(shí)施例的一種測(cè)試機(jī)構(gòu)的分解立體圖。 圖2是依照本實(shí)用新型該較佳實(shí)施例的一種測(cè)試機(jī)構(gòu)的剖面圖。 圖3是傢照本實(shí)用新型該較佳實(shí)施例的一種測(cè)試機(jī)構(gòu)在沿著圖2中3-3 剖面線所剖切后的剖面圖。圖4是依照本實(shí)用新型該較實(shí)施例的一種測(cè)試機(jī)構(gòu)在一第一定位使用
狀態(tài)下的剖面圖。圖5是依照本實(shí)用新型該較佳實(shí)施例的一種測(cè)試機(jī)構(gòu)在一第二定位狀 態(tài)下的剖面圖。100測(cè)試沖幾構(gòu)110基座111桂接部120固定單元121上殼件122 :下殼件123容置空間124 .緩沖元件125導(dǎo)柱126進(jìn)氣孔130活動(dòng)單元131活動(dòng)座1311抵接臺(tái)1312組接孔132嵌引件1321小徑段1322大徑段133導(dǎo)孔134鎖接件140連結(jié)單元141頂面142底面143滑槽144滑套145弧形孔146緩沖室150測(cè)試座151頂面152底面153外環(huán)面154嵌置孔155導(dǎo)氣孔160滑動(dòng)單元161軸承座162滾珠170.鎖固元件180測(cè)試單元200:待測(cè)IC300:控制單元具體實(shí)施方式
為更進(jìn)一步闡述本實(shí)用新型為達(dá)成預(yù)定發(fā)明目的所采取的技術(shù)手段及 功效，
以下結(jié)合附圖及較佳實(shí)施例，對(duì)依據(jù)本實(shí)用新型提出的測(cè)試機(jī)構(gòu)其具 體實(shí)施方式、結(jié)構(gòu)、特征及其功效，詳細(xì)說(shuō)明如后。請(qǐng)參閱圖1與圖2所示，其繪示依照本實(shí)用新型第一較佳實(shí)施例的一 種測(cè)試機(jī)構(gòu)的分解立體圖。該測(cè)試機(jī)構(gòu)100可受一機(jī)具(圖中未示)的一控 制單元300的驅(qū)動(dòng)而將待測(cè)IC200移動(dòng)至一測(cè)試區(qū)以進(jìn)行測(cè)試分類(lèi)；且該 測(cè)試機(jī)構(gòu)100,包含一基座110、 一固定單元120、一活動(dòng)單元130、 一連 結(jié)單元140、一測(cè)試座150、復(fù)數(shù)個(gè)滑動(dòng)單元160，以及復(fù)數(shù)個(gè)鎖固元件170。該基座110，請(qǐng)參閱圖2所示，是跨設(shè)在該機(jī)具的控制單元300下方，具 有二個(gè)分別位于短側(cè)邊的掛接部ill,用以掛設(shè)于該控制單元300下。該固定單元120，是固接于該基座110下方，具有一上殼件121、 一與
該上殼件121對(duì)接的下殼件122、 一由該上、下殼件121、 122對(duì)合后的內(nèi) 壁面所構(gòu)成的容置空間123、 一夾設(shè)在該上、下殼件121、 122之間且位于 該容置空間123內(nèi)的緩沖元件124、 一軸設(shè)在該下殼件122中央且凸伸入該 吝置玄間內(nèi)的尋柱以及一開(kāi)設(shè)在該上殼件121中夬且與該容置空 間U3連通的進(jìn)氣孔U6。在本實(shí)施例中，該緩沖元件124是以具有彈性的 材料(如橡膠)制成且呈薄片狀，其是利用復(fù)數(shù)個(gè)鎖設(shè)元件127自該下殼件 122下方鎖設(shè)入該上殼件121,而獲得定位作用，此外，外界的加壓流體可 藉由該進(jìn)氣孔126泵送入該容置空間123內(nèi)，促使該緩沖元件124保持表 面張力。該活動(dòng)單元130，接設(shè)在該固定單元120下方，具有一設(shè)置在該容置空 間123且可沿一第一方向X(即垂直于該緩沖元件的方向)活動(dòng)的活動(dòng)座 131、復(fù)數(shù)穿置在該活動(dòng)座131上的嵌引件132，以及一開(kāi)設(shè)在該活動(dòng)座131 中央且對(duì)應(yīng)該導(dǎo)柱125的導(dǎo)孔133,以提供該活動(dòng)座131與該下殼件122之 間的導(dǎo)引對(duì)位，使該活動(dòng)座131可在沿著該第 一方向X移動(dòng)的同時(shí)，防止其 產(chǎn)生偏心位移。此外，該活動(dòng)座131又包括四個(gè)朝下延伸且凸露出該容置 空間123外的抵接臺(tái)1311,以及一軸向開(kāi)設(shè)于該抵接臺(tái)1311中央的組接孔 1312。該等嵌引件132在本實(shí)施例中共設(shè)有四個(gè)，且為呈倒T型的滑桿，并 且是以該導(dǎo)孔133為中心而呈90度等間隔排列，并且，每一嵌引件132分 別包括有一反向設(shè)置的一小徑段1321及一大徑段1322,該小徑段1322是 穿置入該組接孔1312之后，再由外部以一鎖接件134鎖置穿過(guò)該抵接臺(tái) 1311，使該等嵌引件132與該活動(dòng)座131固接為一體，而能與該活動(dòng)座131 相連動(dòng)，該大徑段1322則伸設(shè)入該連結(jié)單元140內(nèi)。該連結(jié)單元140，接設(shè)于該活動(dòng)單元130下方，具有一頂面141、 一與 該頂面141反向的底面142、復(fù)數(shù)個(gè)對(duì)應(yīng)該等嵌引件132所開(kāi)設(shè)并且貫穿該 頂、底面141、 142的滑槽143、復(fù)數(shù)個(gè)分別裝設(shè)在該等滑槽143內(nèi)且套穿 該等嵌引件132大徑段1322的滑套144,以及復(fù)數(shù)個(gè)沿著垂直于該第一方 向X的一第二方向(即徑向)所開(kāi)設(shè)的弧形孔145。該等滑槽143是呈上寬 下窄的階級(jí)孔，頂段可供滑套144嵌置于其內(nèi)，而底段則供嵌引件132的 大徑段1322伸設(shè)其中，且該大徑段1322的外徑是為小于該滑套144的孔 徑，使該嵌引件132的大徑段1322無(wú)自該滑槽143內(nèi)脫出之虞，并且，在常 態(tài)下，該嵌引件132的大徑段1322與該連結(jié)單元140的底面142之間形成 有一緩沖室146。附帶說(shuō)明的是，為利于辨識(shí)該弧形孔145的長(zhǎng)方向，圖示中特將其弧長(zhǎng)加大而繪制成扇形，惟其實(shí)際夾角并不大于r 。該測(cè)試座150,請(qǐng)參閱圖2及圖3所示，是以鎖固元件170穿置過(guò)該連 結(jié)單元140的弧形孔145后，而固接在該連結(jié)單元1"的底部，其具有一頂 面151、 一與該頂面151反向的底面152， 一環(huán)繞在該頂、底面151、 152 外緣之間的外環(huán)面153、復(fù)數(shù)個(gè)自該底面152朝內(nèi)開(kāi)設(shè)的嵌置孔154，以及 復(fù)數(shù)個(gè)由該外環(huán)面153上開(kāi)設(shè)且分別與該等嵌置孔154相連通的導(dǎo)氣孔 155。在本實(shí)施例中，該等嵌置孔154共設(shè)有四個(gè)，使一真空吸附裝置(圖 中未示)可自該導(dǎo)氣孔155、嵌置孔1S4將氣體抽送至外界，促使一測(cè)試單 元180(測(cè)試頭)能穩(wěn)固地吸附在該測(cè)試座150的底面152,由于該測(cè)試單 元180并非本案改良重點(diǎn)，故此不在說(shuō)明書(shū)中多加贅述。該等滑動(dòng)單元160,是夾設(shè)在該連結(jié)單元140與該測(cè)試座150之間，在 本實(shí)施例中該等滑動(dòng)單元160為滾珠軸承，其具有一埋置在該測(cè)試座150 上的軸承座161,及一頂端抵持在該連結(jié)單元140底面142的一滾珠162，促 使該測(cè)試座150可輕易地沿著該弧形孔145的長(zhǎng)方向活動(dòng)，而相對(duì)于該連 結(jié)單元140產(chǎn)生小角度(此角度約不大于1° )的徑向偏擺。請(qǐng)參閱圖4所示，是依照本實(shí)用新型較實(shí)施例的一種測(cè)試機(jī)構(gòu)在一第 一定位使用狀態(tài)下的剖面圖。本實(shí)用新型在操作上，隨著該測(cè)試機(jī)構(gòu)100 的下移，使吸附在其底部的該測(cè)試單元180接觸該待測(cè)IC20Q時(shí)，此時(shí)，與 該測(cè)試單元180相固接的測(cè)試座150會(huì)在待測(cè)IC20()的反向推抵下，而以 該等嵌引件132為軸心并逐漸地朝上升動(dòng)，使該嵌引件132大徑段1322完 全滑移入該緩沖室146，同時(shí)，該測(cè)試座150利用可徑向旋動(dòng)的特性，加上 該滑動(dòng)單元160的滾珠162的輔助下，即可輕易且適時(shí)的相對(duì)于該連結(jié)單 元140產(chǎn)生小角度的偏擺，讓測(cè)試單元180上的插座能同時(shí)且分別地對(duì)準(zhǔn) 多數(shù)個(gè)待測(cè)IC200,如此，即可獲得第一段的緩沖對(duì)位效果；接著，隨著整 個(gè)測(cè)試機(jī)構(gòu)100的再下移，請(qǐng)?jiān)賲㈤唸D5所示，是依照本實(shí)用新型較佳實(shí) 施例的一種測(cè)試機(jī)構(gòu)在一第二定位狀態(tài)下的剖面圖，該連結(jié)單元140的頂 面141會(huì)推頂該活動(dòng)座131的抵接臺(tái)1311，使整個(gè)活動(dòng)座131朝上升動(dòng)，進(jìn) 而抵壓該緩沖元件124,借著該緩沖元件124的彈性緩沖作用，提供測(cè)試單 元180與待測(cè)IC之間的第二次緩沖作用，使測(cè)試單元WO能順利且以適當(dāng) 的力道施壓待測(cè)IC200而無(wú)破損之虞，進(jìn)而達(dá)到正確對(duì)位的測(cè)試作用。由以上所述本實(shí)用新型上述較佳實(shí)施例可知，應(yīng)用本實(shí)用新型具有下 列優(yōu)點(diǎn)1、 防止IC晶片石皮損本實(shí)用新型是利用容置空間123內(nèi)的緩沖元件 124,加上測(cè)試座150與嵌引件132之間所形成的緩沖室146,而提供了測(cè)試 機(jī)構(gòu)IOO在下移壓制待測(cè)IC200時(shí)的兩道軸向緩沖位移行程，能夠防止測(cè) 試機(jī)構(gòu)100因施壓力道過(guò)大，造成IC晶片的破損情形。2、 測(cè)試效率佳除了測(cè)試座150能產(chǎn)生軸向的緩沖位移外，還能藉由 滑動(dòng)單元160搭配連結(jié)單元140的弧形孔145,使整個(gè)測(cè)試座150能夠適時(shí) 的產(chǎn)生徑向偏擺，讓測(cè)試才幾構(gòu)在施壓時(shí)能平穩(wěn)且正確地與待測(cè)IC產(chǎn)生對(duì)位 效果，實(shí)現(xiàn)單一測(cè)試單元能同時(shí)測(cè)試多組IC晶片的作用，而可以提升測(cè)試
效率，并讓機(jī)臺(tái)的高速檢測(cè)化得以實(shí)現(xiàn)。以上所述，僅是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并非對(duì)本實(shí)用新型作 任何形式上的限制，雖然本實(shí)用新型已以較佳實(shí)施例揭露如上，然而并非用以限定本實(shí)用新型，任何熟悉本專(zhuān)業(yè)的技術(shù)人員在不脫離本實(shí)用新型技 術(shù)方案范圍內(nèi)，當(dāng)可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容作出些許更動(dòng)或修飾為等同 變化的等效實(shí)施例，但凡是未脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本實(shí) 用新型的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何簡(jiǎn)單修改、等同變化與修飾，均 仍屬于本實(shí)用新型技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1、一種測(cè)試機(jī)構(gòu)，可接受一機(jī)具的一控制單元的驅(qū)動(dòng)而將待測(cè)物移動(dòng)至一測(cè)試區(qū)進(jìn)行測(cè)試分類(lèi)，其特征在于該測(cè)試機(jī)構(gòu)包含一固定單元，連接在該控制單元上，具有一容置空間及一設(shè)置在該容置空間內(nèi)的緩沖元件；一活動(dòng)單元，具有至少一可沿一第一方向活動(dòng)且一端軸設(shè)在該容置空間內(nèi)的嵌引件；以及一測(cè)試座，位于該活動(dòng)單元下方且與該嵌引件連結(jié)，具有一頂面、一相反于該頂面的底面，以及至少一個(gè)設(shè)置于該底面的嵌置孔，用以吸附一測(cè)試治具。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的測(cè)試機(jī)構(gòu)，其特征在于其中所述的緩沖元件 是以彈性材料制成薄片狀。
3、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的測(cè)試機(jī)構(gòu)，其特征在于其中所述的固定單元 更具有一連通該容置空間的進(jìn)氣孔，可以供外界加壓流體泵送入該容置空 間，促使該緩沖元件可保持表面張力。
4、 才艮據(jù)權(quán)利要求2所述的測(cè)試機(jī)構(gòu)，其特征在于其中所述的固定單元 是由一上殼件及一下殼件對(duì)接而成，該上、下殼件對(duì)合后的內(nèi)壁面是構(gòu)成 該封閉狀的容置空間，且使得該緩沖元件夾設(shè)在該上殼體、下殼件之間。
5、 根據(jù)權(quán)利要求4所述的測(cè)試機(jī)構(gòu)，其特征在于其中所述的固定單元 更具有復(fù)數(shù)鎖設(shè)元件，該等鎖設(shè)元件是穿置過(guò)該下殼件及該緩沖元件后，再 鎖設(shè)入該上殼件。
6、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的測(cè)試機(jī)構(gòu)，其特征在于其中所述的活動(dòng)單元 更具有 一軸設(shè)在容置空間內(nèi)且與嵌引件固接的活動(dòng)座，且該活動(dòng)座是對(duì)應(yīng) 于該緩沖元件。
7、 根據(jù)權(quán)利要求6所述的測(cè)試機(jī)構(gòu)，其特征在于其中所述的固定單元 更具有一裝設(shè)于該容置空間內(nèi)的導(dǎo)柱，該活動(dòng)座對(duì)應(yīng)該導(dǎo)柱開(kāi)設(shè)有一導(dǎo)孔。
8、 根據(jù)權(quán)利要求6所述的測(cè)試機(jī)構(gòu)，其特征在于其中所述的活動(dòng)單元 更具有至少 一 自該活動(dòng)座底部朝下延伸且凸露出該容置空間外的抵接臺(tái)。
9、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的測(cè)試機(jī)構(gòu)，其特征在于其中所述的活動(dòng)單元 的嵌引件包括有反向設(shè)置的 一 大徑段及一 、徑段。
10、 根據(jù)權(quán)利要求9所述的測(cè)試機(jī)構(gòu)，其特征在于其更包含有一設(shè)置在 該活動(dòng)單元該測(cè)試座之間的連結(jié)單元，該連結(jié)單元具有一頂面、 一與該頂 面反向的底面、至少一貫通該頂、底面的滑槽，使該嵌引件的大徑段可伸 設(shè)在該滑槽內(nèi)且無(wú)脫出之虞。
11、 根據(jù)4又利要求10所述的測(cè)試機(jī)構(gòu)，其特征在于其中所述的連結(jié)單 元更具有至少 一裝設(shè)在該滑槽內(nèi)且套穿該嵌引件的滑套。
12、 根據(jù)權(quán)利要求11所述的測(cè)試機(jī)構(gòu)，其特征在于其中所述的滑套開(kāi) 孔的孔徑是小于該嵌引件大徑段的外徑。
13、 根據(jù)權(quán)利要求10所述的測(cè)試機(jī)構(gòu)，其特征在于其中所述的連結(jié)單 元更具有復(fù)數(shù)個(gè)沿一第二方向開(kāi)設(shè)的弧形孔，及復(fù)數(shù)個(gè)穿置過(guò)該等孤形孔 且鎖設(shè)入該測(cè)試座內(nèi)的螺栓，使該測(cè)試座能沿該弧形孔的長(zhǎng)方向且相對(duì)該 連結(jié)單元產(chǎn)生徑向旋擺。
14、 根據(jù)權(quán)利要求10所述的測(cè)試機(jī)構(gòu)，其特征在于其更包含有復(fù)數(shù)個(gè) 裝設(shè)在該測(cè)試座一頂面與該連結(jié)單元底面之間的滑動(dòng)單元，且使得該測(cè)試 座與該連結(jié)單元之間形成有一 間隙。
15、 根據(jù)權(quán)利要求14所述的測(cè)試機(jī)構(gòu)，其特征在于其中所述的滑動(dòng)單 元為滾珠軸承。
16、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的測(cè)試機(jī)構(gòu)，其特征在于其中所述的測(cè)試座更 具有復(fù)數(shù)個(gè)分別對(duì)應(yīng)該等嵌置孔且可相連通的導(dǎo)氣孔。
17、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的測(cè)試機(jī)構(gòu)，其特征在于其更包含有一固接在 該控制單元與該固定單元之間的基座。
18、 根據(jù)權(quán)利要求17所述的測(cè)試機(jī)構(gòu)，其特征在于其中所述的基座具 有二個(gè)分別位于短側(cè)邊的掛接部，用以掛設(shè)于該控制單元的下方。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型是有關(guān)一種測(cè)試機(jī)構(gòu)，包含有固定單元、位于固定單元下方的活動(dòng)單元及測(cè)試座，固定單元具有一容置空間及設(shè)在容置空間內(nèi)的緩沖元件，該活動(dòng)單元具有至少一沿一第一方向活動(dòng)且一端軸設(shè)在容置空間內(nèi)的嵌引件，該測(cè)試座位于活動(dòng)單元下方且與嵌引件相連結(jié)，具有一頂面、一相反于頂面的底面，及至少一設(shè)于底面的嵌置孔，用以吸附一測(cè)試治具。本實(shí)用新型利用容置空間內(nèi)緩沖元件，加上測(cè)試座頂面與嵌引件間形成緩沖室，提供了測(cè)試機(jī)構(gòu)下移壓制待測(cè)IC時(shí)軸向緩沖位移行程，能防止因施壓力道過(guò)大造成IC晶片破損；另還藉由滑動(dòng)單元搭配連結(jié)單元弧形孔，使測(cè)試座適時(shí)產(chǎn)生徑向偏擺，能平穩(wěn)正確與待測(cè)IC產(chǎn)生對(duì)位效果，實(shí)現(xiàn)單一測(cè)試單元同時(shí)測(cè)試多組IC晶片，而可提升測(cè)試效率。
文檔編號(hào)G01R31/01GK201017021SQ20072000072
公開(kāi)日2008年2月6日 申請(qǐng)日期2007年2月12日 優(yōu)先權(quán)日2007年2月12日
發(fā)明者劉素妤, 林建銘, 麥敬林 申請(qǐng)人:寰邦科技股份有限公司