專利名稱：測量探頭的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種具有測量頭的測量探頭，用于在金屬或熔渣熔融物中的測量，該測量頭設(shè)置在輸送管的浸入端，在該測量頭上設(shè)有至少一個(gè)用于確定熔融金屬成分的傳感器和熔池觸頭，其中熔池觸頭從浸入方向看，具有熔池觸頭前區(qū)域，該區(qū)域具有兩個(gè)設(shè)在相對兩側(cè)上且垂直于浸入方向的表面區(qū)域。
背景技術(shù)：
這樣的測量探頭以許多種形式為公眾所知。例如，文獻(xiàn)DE 3541806 C1或DE 83 17 643 U1公開了在其浸入側(cè)設(shè)有熔池觸頭的測量探頭。該熔池觸頭被分配給電化學(xué)測量單元。該熔池觸頭被設(shè)計(jì)成金屬桿。DE 29 54 228C2和DE 79 25 016 U1公開了具有管狀結(jié)構(gòu)且各包括傳感器管腳的取樣器。除了與電化學(xué)元件相互作用之外，該熔池觸頭也可以用于測量熔融金屬的熔池液位，例如是這樣的類型，即一旦熔池觸頭浸入到熔融金屬，電路閉合并且從熔池觸頭的位置確定熔融金屬的液位。該熔池觸頭通常是由鋼制成，并且短時(shí)間之后在熔融金屬內(nèi)被破壞。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于改進(jìn)已知的測量探頭，特別是改進(jìn)用于這些探頭的熔池觸頭裝置，從而提高測量探頭的可靠性。
根據(jù)本發(fā)明，該目的是通過權(quán)利要求1的內(nèi)容實(shí)現(xiàn)。優(yōu)選構(gòu)造為從屬權(quán)利要求的內(nèi)容。
因?yàn)樵谌鄢赜|頭前區(qū)域的兩個(gè)相對表面區(qū)域內(nèi)設(shè)有一種在鐵水或鋼水中穩(wěn)定的材料，以及僅在熔池觸頭后區(qū)域的一個(gè)表面區(qū)域內(nèi)設(shè)有一種在鐵水或鋼水中穩(wěn)定的材料，而熔池觸頭后區(qū)域的另一個(gè)相對的表面區(qū)域不具有該材料，所以確保熔池觸頭的前區(qū)域比熔池觸頭后區(qū)域更好地受到保護(hù)以免受到熔融金屬(例如鋼水)的破壞。該后區(qū)域因此先被破壞。在這里，設(shè)有傾斜于測量頭橫截面的表面結(jié)構(gòu)，其中熔池觸頭前區(qū)域設(shè)在浸入方向上最高的、前面的水平面上，該表面在與浸入方向相反的方向上朝著邊緣離開。浸入時(shí)在熔池觸頭的前側(cè)形成的氣泡不能在那聚集，相反地它們從側(cè)向向后被引開，因此鋼水和熔池觸頭之間的接觸沒有被破壞。
優(yōu)選的是，熔池觸頭在浸入方向上，在測量頭外表面的前方延伸。有利地，穩(wěn)定材料的兩側(cè)設(shè)置從熔池觸頭前區(qū)域延伸至測量頭。此外，熔池觸頭后區(qū)域和熔池觸頭前區(qū)域有利地彼此相鄰設(shè)置地在一個(gè)與浸入方向垂直的投影平面內(nèi)。優(yōu)選地，熔池觸頭前區(qū)域設(shè)置在浸入方向上，位于熔池觸頭后區(qū)域的前方至少3mm處，以更好地將氣體引開，因?yàn)樵谶@個(gè)最小距離處，傾斜度/下降程度足夠大。熔池觸頭也可以由金屬板形成。它也可以由金屬桿形成，例如在在現(xiàn)有技術(shù)部分中所述的，其中穩(wěn)定材料圍繞金屬桿的布置不對稱。在這種方法中，熔池觸頭前和后區(qū)域也由此形成。對于熔池觸頭后區(qū)域來說重要的是熔池觸頭本身在那里不像在熔池觸頭前區(qū)域內(nèi)那樣受到那么好的保護(hù)以免受到熔融金屬(鐵水或鋼水)的破壞，因此熔池觸頭在后區(qū)域內(nèi)溶解更快，同時(shí)形成所謂的像山一樣的結(jié)構(gòu)。
進(jìn)一步優(yōu)選的是，特別是由金屬板形成的熔池觸頭圍繞近似平行于浸入方向的軸線彎折，其中金屬板的一部分設(shè)置在由彎折形成的輪廓內(nèi)。優(yōu)選地，穩(wěn)定材料填滿該輪廓，并且使在熔池觸頭的外圍部分暴露出來。優(yōu)選地，鑄造用砂或粘合劑用作穩(wěn)定材料。
下面參照


本發(fā)明的實(shí)施例。

圖1表示具有熔池觸頭的試樣探頭的測量頭；圖2表示具有熔池觸頭另一實(shí)施例的測量頭；圖3表示具有熔池觸頭另一實(shí)施例的測量頭；和圖4表示不同熔池觸頭(圖4a，4b，4c)。
具體實(shí)施例方式
圖1示出試樣探頭的測量頭1。傳感器2，以及設(shè)置在測量頭1的后端上的試樣室4的輸入管3都設(shè)置在測量頭的浸入端。該試樣室4是典型的雙殼體試樣室，該雙殼體試樣室在端部用夾子5固定在一起。輸送管(在圖中未示出)設(shè)在測量頭1的后端。在測量頭1上可以看到用于接觸傳感器2的后側(cè)連接件的凹槽6。此外，熔池觸頭7設(shè)置在測量頭1的浸入端上。在圖1的實(shí)施例中，熔池觸頭7的外形為近似平坦的金屬板。該熔池觸頭是嵌入在難熔的粘合劑8內(nèi)，并且在熔池觸頭的前區(qū)域9(接近中部)內(nèi)被粘合劑8包圍直到其前端邊緣。熔池觸頭的后區(qū)域10在浸入時(shí)相對鋼水不受保護(hù)；它被熔化掉。如圖1所示的粘合劑8的圓錐形外形使得氣體可以從熔池觸頭7的端部邊緣區(qū)域排出，因此可以與鋼水無誤的接觸。熔池觸頭7、傳感器2及輸入管3由保護(hù)罩11包圍。
圖2示出一個(gè)類似的測量頭1。與圖1的實(shí)施例相比，圖2所示的熔池觸頭7具有曲折結(jié)構(gòu)，該曲折結(jié)構(gòu)包括接近位于熔池觸頭7的中心的熔池觸頭前區(qū)域和位于外圍的熔池觸頭后區(qū)域。圖4c示出了這樣的熔池觸頭。該熔池觸頭借助位于凹槽6內(nèi)的接觸件12穿過測量頭1的鉆孔連接到觸頭內(nèi)襯(contact line)。
圖3示出具有相同結(jié)構(gòu)的測量頭1的熔池觸頭7的另一實(shí)施例。該熔池觸頭7被設(shè)計(jì)成由金屬板彎曲成圓圈，金屬板的一端被彎折到圓圈的內(nèi)部(參見圖4b)。接觸是以所有示出的實(shí)施例相同的方式實(shí)現(xiàn)的。熔池觸頭前區(qū)域9近似位于由熔池觸頭7形成的圓圈的中心，而熔池觸頭后區(qū)域10位于外圍。圓圈的內(nèi)部完全或幾乎完全地由鑄造用砂或粘合劑填滿。
圖4a示出熔池觸頭7的另一實(shí)施例。這里，與圖4b所示的實(shí)施例相比，不僅是一個(gè)平坦的表面被彎折到圓圈內(nèi)，而且金屬板也被卷繞成螺旋彈簧形狀。
權(quán)利要求
1.測量探頭，該測量探頭用于在熔融金屬中的測量，并具有設(shè)置在輸送管的浸入端的測量頭，在該測量頭上設(shè)有至少一個(gè)用于確定熔融金屬成分的傳感器和熔池觸頭，其中該熔池觸頭從浸入方向看，具有熔池觸頭前區(qū)域，該區(qū)域具有兩個(gè)設(shè)在相對兩側(cè)上且垂直于浸入方向的表面區(qū)域，其特征在于，在熔池觸頭前區(qū)域的兩個(gè)相對表面區(qū)域內(nèi)設(shè)有一種在鐵水或鋼水中穩(wěn)定的材料，以及至多在熔池觸頭后區(qū)域的一個(gè)表面區(qū)域內(nèi)設(shè)有一種在鐵水或鋼水中穩(wěn)定的材料，其中所述熔池觸頭后區(qū)域的另一個(gè)相對的表面區(qū)域不具有該材料。
2.如權(quán)利要求1所述的測量探頭，其特征在于，所述熔池觸頭在浸入方向上，在測量頭外表面的前方延伸。
3.如權(quán)利要求1或2所述的測量探頭，其特征在于，所述穩(wěn)定材料的兩側(cè)設(shè)置從熔池觸頭前區(qū)域延伸至測量頭。
4.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的測量探頭，其特征在于，所述熔池觸頭后區(qū)域和熔池觸頭前區(qū)域彼此相鄰地設(shè)置在一與浸入方向垂直的投影平面內(nèi)。
5.如權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的測量探頭，其特征在于，所述熔池觸頭前區(qū)域設(shè)置在浸入方向上，位于熔池觸頭后區(qū)域的前方至少3mm處。
6.如權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的測量探頭，其特征在于，所述熔池觸頭是由金屬板形成。
7.如權(quán)利要求6所述的測量探頭，其特征在于，所述熔池觸頭圍繞一平行于浸入方向的軸線彎折，其中所述金屬板的一部分設(shè)置在由彎折形成的輪廓內(nèi)。
8.如權(quán)利要求7所述的測量探頭，其特征在于，所述穩(wěn)定材料填滿該輪廓。
9.如權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的測量探頭，其特征在于，所述穩(wěn)定材料是鑄造用砂或粘合劑。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種測量探頭，該測量探頭用于在熔融金屬中的測量，并具有設(shè)置在輸送管的浸入端的測量頭，在該測量頭上設(shè)有至少一個(gè)用于確定熔融金屬成分的傳感器和熔池觸頭，其中該熔池觸頭從浸入方向看，具有熔池觸頭前區(qū)域，該區(qū)域具有兩個(gè)設(shè)在相對兩側(cè)上且垂直于浸入方向的表面區(qū)域。
文檔編號G01N27/406GK101013104SQ200610168839
公開日2007年8月8日 申請日期2006年12月14日 優(yōu)先權(quán)日2005年12月15日
發(fā)明者G·J·奈恩斯 申請人:賀利氏電子耐特國際股份公司