專利名稱:一種多通道光譜成像裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種多通道光譜成像裝置，包括：圓盤座、設(shè)置于所述圓盤座上的棱鏡分光機(jī)構(gòu)和反射狹縫機(jī)構(gòu)以及對(duì)稱狹縫機(jī)構(gòu)、固定于圓盤座上的三路光電倍增管。本實(shí)用新型提供的多通道光譜成像裝置，通過棱鏡分光機(jī)構(gòu)將樣品發(fā)出的熒光聚焦在譜面處，部分光通過反射狹縫機(jī)構(gòu)上的反射上縫片和反射下縫片形成的出射狹縫進(jìn)入第一路光電倍增管，反射上縫片和反射下縫片將到達(dá)其表面的光反射至兩側(cè)的對(duì)稱狹縫機(jī)構(gòu)光路上，并經(jīng)兩側(cè)的對(duì)稱狹縫機(jī)構(gòu)上的對(duì)稱上縫片和對(duì)稱下縫片形成的出射狹縫分別進(jìn)入第二路光電倍增管和第三路光電倍增管，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)熒光光譜進(jìn)行三通道成像探測(cè)。
【專利說明】一種多通道光譜成像裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及顯微光學(xué)【技術(shù)領(lǐng)域】，特別涉及一種多通道光譜成像裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]激光掃描共聚焦顯微鏡是研宄微細(xì)結(jié)構(gòu)的有效技術(shù)手段和必備的大型科學(xué)儀器，其在組織生物學(xué)、細(xì)胞生物學(xué)、分子生物學(xué)、基因?qū)W、胚胎學(xué)、神經(jīng)學(xué)、病理學(xué)、免疫學(xué)、流行病學(xué)、腫瘤、細(xì)菌學(xué)、病毒學(xué)等領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用。當(dāng)前的生物學(xué)研宄要求共聚焦顯微鏡能夠?qū)Χ喾N熒光標(biāo)記的生物組織同時(shí)進(jìn)行成像，并且能夠有效地區(qū)分出各種熒光成分和開展復(fù)雜的生物學(xué)實(shí)驗(yàn)，因此，有必要研發(fā)一種多通道光譜成像裝置，將其與共聚焦顯微成像技術(shù)相結(jié)合，以此構(gòu)建多通道光譜成像共聚焦顯微鏡，有效對(duì)多熒光標(biāo)記生物組織進(jìn)行研宄。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]針對(duì)上述技術(shù)中存在的不足之處，本實(shí)用新型提供了一種可對(duì)多熒光光譜同時(shí)進(jìn)行采集成像的多通道光譜成像裝置。
[0004]本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:一種多通道光譜成像裝置，其特征在于，包括:圓盤座，其上開設(shè)有反射容納部，所述反射容納部的一端設(shè)置有貫通部，所述反射容納部的另一端設(shè)置有反射定位板，所述反射容納部的兩側(cè)開設(shè)有對(duì)稱設(shè)置的兩個(gè)對(duì)稱容納部，所述對(duì)稱容納部與所述反射容納部相鄰的一側(cè)均設(shè)置有鏡板，所述鏡板上均固定有中繼透鏡，所述對(duì)稱容納部的另一側(cè)設(shè)置有對(duì)稱定位板，所述的對(duì)稱定位板和所述的反射定位板上均固定有光電倍增管；棱鏡分光機(jī)構(gòu)，其與所述的貫通部相聯(lián)通，所述的棱鏡分光機(jī)構(gòu)包括棱鏡座、設(shè)置于所述棱鏡座上的調(diào)節(jié)盤、設(shè)置于所述調(diào)節(jié)盤上的棱鏡、分別與所述棱鏡座相聯(lián)通的入射單元和出射單元；反射狹縫機(jī)構(gòu)，其置于所述反射容納部中，所述的反射狹縫機(jī)構(gòu)包括反射基座、并排設(shè)置于所述反射基座上的反射上滑座和反射下滑座、分別帶動(dòng)所述反射上滑座和所述反射下滑座上下移動(dòng)的反射上驅(qū)動(dòng)電機(jī)和反射下驅(qū)動(dòng)電機(jī)、分別固定于所述反射上滑座和所述反射下滑座上的反射上縫片和反射下縫片；對(duì)稱狹縫機(jī)構(gòu)，其置于所述對(duì)稱容納部中，所述的對(duì)稱狹縫機(jī)構(gòu)包括對(duì)稱基座、并排設(shè)置于所述對(duì)稱基座上的對(duì)稱上滑座和對(duì)稱下滑座、分別帶動(dòng)所述對(duì)稱上滑座和所述對(duì)稱下滑座上下移動(dòng)的對(duì)稱上驅(qū)動(dòng)電機(jī)和對(duì)稱下驅(qū)動(dòng)電機(jī)、分別固定于所述對(duì)稱上滑座和所述對(duì)稱下滑座上的對(duì)稱上縫片和對(duì)稱下縫片；其中，所述的反射上縫片和所述的反射下縫片呈一定角度設(shè)置，所述的對(duì)稱上縫片和所述的對(duì)稱下縫片彼此對(duì)稱設(shè)置。
[0005]優(yōu)選的，所述的多通道光譜成像裝置還包括罩蓋，其包覆于所述反射容納部和所述對(duì)稱容納部。
[0006]優(yōu)選的，所述的入射單元包括反射筒、嵌置于所述反射筒內(nèi)的準(zhǔn)直透鏡、設(shè)置于所述反射筒上直角折彎處的反射鏡。
[0007]優(yōu)選的，所述的出射單元包括調(diào)焦盤、并排嵌置于所述調(diào)焦盤內(nèi)的聚焦鏡和壓圈，所述的壓圈與所述的聚焦鏡相抵。
[0008]優(yōu)選的，所述調(diào)節(jié)盤的端面通過若干銷柱連接有托板，所述的托板與所述棱鏡的端面之間設(shè)置有并排疊放的銅片和硅膠墊片。
[0009]優(yōu)選的，所述的反射上縫片和所述的反射下縫片形成出射狹縫，所述出射狹縫的最小寬度為50 μπι。
[0010]優(yōu)選的，所述的反射上縫片和所述的反射下縫片表面均鍍有反射膜。
[0011]本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比，其有益效果是:本實(shí)用新型提供的多通道光譜成像裝置，通過棱鏡分光機(jī)構(gòu)將樣品發(fā)出的熒光聚焦在譜面處，部分光通過反射狹縫機(jī)構(gòu)上的反射上縫片和反射下縫片形成的出射狹縫進(jìn)入第一路光電倍增管，反射上縫片和反射下縫片將到達(dá)其表面的光反射至兩側(cè)的對(duì)稱狹縫機(jī)構(gòu)光路上，并經(jīng)兩側(cè)的對(duì)稱狹縫機(jī)構(gòu)上的對(duì)稱上縫片和對(duì)稱下縫片形成的出射狹縫分別進(jìn)入第二路光電倍增管和第三路光電倍增管，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)熒光光譜進(jìn)行三通道成像探測(cè)；該多通道光譜成像裝置可對(duì)多種熒光標(biāo)記物質(zhì)同時(shí)探測(cè)，有利于準(zhǔn)確確定組織中多種物質(zhì)成分。

【附圖說明】

[0012]圖1為本實(shí)用新型所述的多通道光譜成像裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0013]圖2為本實(shí)用新型所述多通道光譜成像裝置去除罩蓋后的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0014]圖3為本實(shí)用新型所述的圓盤座的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0015]圖4為本實(shí)用新型所述的棱鏡分光機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0016]圖5為本實(shí)用新型所述棱鏡分光機(jī)構(gòu)去除棱鏡座后的結(jié)構(gòu)不意圖；
[0017]圖6為本實(shí)用新型所述的反射狹縫機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0018]圖7為本實(shí)用新型所述的對(duì)稱狹縫機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0019]圖中:01圓盤座；011反射容納部；012對(duì)稱容納部；013貫通部；014鏡板；015對(duì)稱定位板；016反射定位板；02罩蓋；03棱鏡分光機(jī)構(gòu)；031棱鏡座；032反射筒；033反射鏡；034調(diào)節(jié)盤；035調(diào)焦盤；036棱鏡；037托板；04反射狹縫機(jī)構(gòu)；041反射基座；042反射上滑座；043反射上驅(qū)動(dòng)電機(jī)；044反射下滑座；045反射下驅(qū)動(dòng)電機(jī)；046反射上縫片；047反射下縫片；05對(duì)稱狹縫機(jī)構(gòu)；051對(duì)稱基座；052對(duì)稱上滑座；053對(duì)稱上驅(qū)動(dòng)電機(jī)；054對(duì)稱下滑座；055對(duì)稱下驅(qū)動(dòng)電機(jī)；056對(duì)稱上縫片；057對(duì)稱下縫片；06光電倍增管。

【具體實(shí)施方式】
[0020]下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步的詳細(xì)說明，以令本領(lǐng)域技術(shù)人員參照說明書文字能夠據(jù)以實(shí)施。
[0021]如圖1-2所示，本實(shí)用新型提供了一種多通道光譜成像裝置，包括:
[0022]圓盤座01 (如圖3所示)，其上開設(shè)有反射容納部011，所述反射容納部011的一端設(shè)置有貫通部013，所述反射容納部011的另一端設(shè)置有反射定位板016，所述反射容納部011的兩側(cè)開設(shè)有對(duì)稱設(shè)置的兩個(gè)對(duì)稱容納部012，所述對(duì)稱容納部012與所述反射容納部011相鄰的一側(cè)均設(shè)置有鏡板014，所述鏡板014上均固定有中繼透鏡(未圖示)，所述對(duì)稱容納部012的另一側(cè)設(shè)置有對(duì)稱定位板015，所述的對(duì)稱定位板015和所述的反射定位板016上均固定有光電倍增管06，所述的圓盤座01頂部設(shè)置有罩蓋02，所述的罩蓋02包覆于所述反射容納部Oll和所述對(duì)稱容納部012 ;
[0023]棱鏡分光機(jī)構(gòu)03 (如圖4-5所示)，其與所述的貫通部013相聯(lián)通，所述的棱鏡分光機(jī)構(gòu)03包括棱鏡座031、設(shè)置于所述棱鏡座031上的調(diào)節(jié)盤034、設(shè)置于所述調(diào)節(jié)盤034上的棱鏡036、分別與所述棱鏡座031相聯(lián)通的入射單元和出射單元，所述的入射單元包括反射筒032、嵌置于所述反射筒032內(nèi)的準(zhǔn)直透鏡(未圖示)、設(shè)置于所述反射筒032上直角折彎處的反射鏡033，所述的出射單元包括調(diào)焦盤035、并排嵌置于所述調(diào)焦盤035內(nèi)的聚焦鏡和壓圈(未圖示)，所述的壓圈與所述的聚焦鏡相抵，所述調(diào)節(jié)盤034的端面通過若干銷柱連接有托板037，所述的托板037與所述棱鏡036的端面之間設(shè)置有并排疊放的銅片和硅膠墊片(未圖示)；
[0024]反射狹縫機(jī)構(gòu)04(如圖6所示)，其置于所述反射容納部011中，所述的反射狹縫機(jī)構(gòu)04包括反射基座041、并排設(shè)置于所述反射基座041上的反射上滑座042和反射下滑座044、分別帶動(dòng)所述反射上滑座042和所述反射下滑座044上下移動(dòng)的反射上驅(qū)動(dòng)電機(jī)043和反射下驅(qū)動(dòng)電機(jī)045、分別固定于所述反射上滑座042和所述反射下滑座044上的反射上縫片046和反射下縫片047，所述的反射上縫片046和所述的反射下縫片047形成出射狹縫，所述出射狹縫的最小寬度為50 μ m，所述的反射上縫片046和所述的反射下縫片047表面均鍍有反射膜，所述的反射上縫片046和所述的反射下縫片047呈一定角度設(shè)置，以滿足將到達(dá)反射上縫片046和反射下縫片047上的光反射進(jìn)入兩側(cè)的對(duì)稱狹縫機(jī)構(gòu)05光路中；
[0025]對(duì)稱狹縫機(jī)構(gòu)05 (如圖7所示)，其置于所述對(duì)稱容納部012中，所述的對(duì)稱狹縫機(jī)構(gòu)05包括對(duì)稱基座051、并排設(shè)置于所述對(duì)稱基座051上的對(duì)稱上滑座052和對(duì)稱下滑座054、分別帶動(dòng)所述對(duì)稱上滑座052和所述對(duì)稱下滑座054上下移動(dòng)的對(duì)稱上驅(qū)動(dòng)電機(jī)053和對(duì)稱下驅(qū)動(dòng)電機(jī)055、分別固定于所述對(duì)稱上滑座052和所述對(duì)稱下滑座054上的對(duì)稱上縫片056和對(duì)稱下縫片057，所述的對(duì)稱上縫，056和所述的對(duì)稱下縫片057彼此對(duì)稱設(shè)置。
[0026]本實(shí)用新型提供的多通道光譜成像裝置，通過棱鏡分光機(jī)構(gòu)03將樣品發(fā)出的熒光聚焦在譜面處，部分光通過反射狹縫機(jī)構(gòu)04上的反射上縫片046和反射下縫片047形成的出射狹縫進(jìn)入第一路光電倍增管，反射上縫片046和反射下縫片047將到達(dá)其表面的光反射至兩側(cè)的對(duì)稱狹縫機(jī)構(gòu)05光路上，并經(jīng)兩側(cè)的對(duì)稱狹縫機(jī)構(gòu)05上的對(duì)稱上縫片056和對(duì)稱下縫片057形成的出射狹縫分別進(jìn)入第二路光電倍增管和第三路光電倍增管，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)熒光光譜進(jìn)行三通道成像探測(cè)；該多通道光譜成像裝置可對(duì)多種熒光標(biāo)記物質(zhì)同時(shí)探測(cè)，有利于準(zhǔn)確確定組織中多種物質(zhì)成分。
[0027]本發(fā)明實(shí)施例中，提到的“頂端”是按照通常的意義定義，比如，參考重力的方向定義，重力的方向是向下方，相反的方向是上方，類似地在上方的是頂部或者頂端。
[0028]盡管本實(shí)用新型的實(shí)施方案已公開如上，但其并不僅限于說明書和實(shí)施方式中所列運(yùn)用，它完全可以被適用于各種適合本實(shí)用新型的領(lǐng)域，對(duì)于熟悉本領(lǐng)域的人員而言，可容易地實(shí)現(xiàn)另外的修改，因此在不背離權(quán)利要求及等同范圍所限定的一般概念下，本實(shí)用新型并不限于特定的細(xì)節(jié)和這里示出與描述的圖例。
【權(quán)利要求】
1.一種多通道光譜成像裝置，其特征在于，包括: 圓盤座，其上開設(shè)有反射容納部，所述反射容納部的一端設(shè)置有貫通部，所述反射容納部的另一端設(shè)置有反射定位板，所述反射容納部的兩側(cè)開設(shè)有對(duì)稱設(shè)置的兩個(gè)對(duì)稱容納部，所述對(duì)稱容納部與所述反射容納部相鄰的一側(cè)均設(shè)置有鏡板，所述鏡板上均固定有中繼透鏡，所述對(duì)稱容納部的另一側(cè)設(shè)置有對(duì)稱定位板，所述的對(duì)稱定位板和所述的反射定位板上均固定有光電倍增管； 棱鏡分光機(jī)構(gòu)，其與所述的貫通部相聯(lián)通，所述的棱鏡分光機(jī)構(gòu)包括棱鏡座、設(shè)置于所述棱鏡座上的調(diào)節(jié)盤、設(shè)置于所述調(diào)節(jié)盤上的棱鏡、分別與所述棱鏡座相聯(lián)通的入射單元和出射單元； 反射狹縫機(jī)構(gòu)，其置于所述反射容納部中，所述的反射狹縫機(jī)構(gòu)包括反射基座、并排設(shè)置于所述反射基座上的反射上滑座和反射下滑座、分別帶動(dòng)所述反射上滑座和所述反射下滑座上下移動(dòng)的反射上驅(qū)動(dòng)電機(jī)和反射下驅(qū)動(dòng)電機(jī)、分別固定于所述反射上滑座和所述反射下滑座上的反射上縫片和反射下縫片； 對(duì)稱狹縫機(jī)構(gòu)，其置于所述對(duì)稱容納部中，所述的對(duì)稱狹縫機(jī)構(gòu)包括對(duì)稱基座、并排設(shè)置于所述對(duì)稱基座上的對(duì)稱上滑座和對(duì)稱下滑座、分別帶動(dòng)所述對(duì)稱上滑座和所述對(duì)稱下滑座上下移動(dòng)的對(duì)稱上驅(qū)動(dòng)電機(jī)和對(duì)稱下驅(qū)動(dòng)電機(jī)、分別固定于所述對(duì)稱上滑座和所述對(duì)稱下滑座上的對(duì)稱上縫片和對(duì)稱下縫片； 其中，所述的反射上縫片和所述的反射下縫片呈一定角度設(shè)置，所述的對(duì)稱上縫片和所述的對(duì)稱下縫片彼此對(duì)稱設(shè)置。2.如權(quán)利要求1所述的多通道光譜成像裝置，其特征在于，還包括罩蓋，其包覆于所述反射容納部和所述對(duì)稱容納部。3.如權(quán)利要求1所述的多通道光譜成像裝置，其特征在于，所述的入射單元包括反射筒、嵌置于所述反射筒內(nèi)的準(zhǔn)直透鏡、設(shè)置于所述反射筒上直角折彎處的反射鏡。4.如權(quán)利要求1所述的多通道光譜成像裝置，其特征在于，所述的出射單元包括調(diào)焦盤、并排嵌置于所述調(diào)焦盤內(nèi)的聚焦鏡和壓圈，所述的壓圈與所述的聚焦鏡相抵。5.如權(quán)利要求1所述的多通道光譜成像裝置，其特征在于，所述調(diào)節(jié)盤的端面通過若干銷柱連接有托板，所述的托板與所述棱鏡的端面之間設(shè)置有并排疊放的銅片和硅膠墊片。6.如權(quán)利要求1所述的多通道光譜成像裝置，其特征在于，所述的反射上縫片和所述的反射下縫片形成出射狹縫，所述出射狹縫的最小寬度為50 μm。7.如權(quán)利要求1所述的多通道光譜成像裝置，其特征在于，所述的反射上縫片和所述的反射下縫片表面均鍍有反射膜。
【文檔編號(hào)】G01N21-64GK204269550SQ201420760159
【發(fā)明者】朱磊, 張運(yùn)海 [申請(qǐng)人]中國科學(xué)院蘇州生物醫(yī)學(xué)工程技術(shù)研究所