密封系統(tǒng)和包括密封系統(tǒng)的可收回組件的制作方法
【專利摘要】密封系統(tǒng)和包括密封系統(tǒng)的可收回組件。密封系統(tǒng)包括：中空的柱形的殼體，殼體具有內(nèi)空間和開放到內(nèi)空間的溝槽，其中溝槽限定了殼體內(nèi)的平面且該平面的法線平行于殼體的縱向軸線；對應(yīng)于溝槽且布置在溝槽內(nèi)的環(huán)形密封件，其中環(huán)形密封件至少由面向內(nèi)空間的第一分段和背離內(nèi)空間的第二分段形成，其中第一分段包括動態(tài)密封表面；和可移動部件，平行于殼體的縱向軸線可移動且具有端部區(qū)域，并且實施為使得在第一位置處其關(guān)閉且無縫密封殼體的內(nèi)空間。本發(fā)明進(jìn)一步涉及可收回組件。
【專利說明】密封系統(tǒng)和包括密封系統(tǒng)的可收回組件

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及密封系統(tǒng)和包括此密封系統(tǒng)的可收回組件。

【背景技術(shù)】
[0002]可收回組件通過Endress+Hauser企業(yè)集團(tuán)以大量的改型如以“Cleanfit HCPA475”制造和銷售。
[0003]可回收組件廣泛地使用在分析測量技術(shù)和過程自動化中。所述可收回組件用于從過程取回探頭且以此從介質(zhì)取回探頭，而不中斷過程，且然后將探頭重新引入到過程中。探頭保持在浸沒管內(nèi)且通過手動或自動驅(qū)動例如在過程位置(測量)和服務(wù)位置(維護(hù)、校準(zhǔn)、沖洗、清洗、探頭更換等)之間氣壓式軸向移動。這些過程周期地發(fā)生或根據(jù)其他可確定的或測量的參數(shù)而發(fā)生。
[0004]在本發(fā)明的意義中的探頭包括帶有至少一個用于至少一個傳感器的容器的探頭，所述傳感器用于測量一個或多個物理或化學(xué)過程變量。
[0005]在過程技術(shù)中存在許多使用測量例如流體特別是液體的介質(zhì)的物理或化學(xué)過程變量的容器組件的領(lǐng)域。傳感器用于確定過程變量。傳感器例如可以是pH傳感器、傳導(dǎo)性傳感器、光學(xué)或電磁傳感器，以用于測量包含在待監(jiān)測的介質(zhì)內(nèi)的例如02、C02的物質(zhì)、一定的離子類型、有機(jī)化合物等的濃度。
[0006]如果容器組件用于保持用于確定至少一個過程變量的傳感器，則傳感器可在服務(wù)位置被檢查、校準(zhǔn)、清潔和/或更換，其中傳感器在此情況中位于容器組件的殼體內(nèi)部所謂的服務(wù)室內(nèi)。為使得介質(zhì)不在服務(wù)位置被校準(zhǔn)、沖洗/清洗或清潔液體污染，相對于介質(zhì)所在的容納器密封服務(wù)室，使得不能發(fā)生介質(zhì)/液體的交換。通常，為此目的在容器組件的殼體的介質(zhì)端部上也存在密封件，所述密封件與浸沒管的端部區(qū)域相互作用以防止介質(zhì)/液體的交換。此密封件位于浸沒管上或殼體(服務(wù)室)內(nèi)。密封件經(jīng)常實施為O環(huán)。在此情況中，用于密封件的溝槽在橫截面上形成為矩形。與圓形形狀的O環(huán)相互作用時導(dǎo)致了間隙。
[0007]間隙和邊緣形成了死區(qū)，在該死區(qū)微粒可容易地沉積且可形成積垢和/或生物膜。這些積垢和/或生物膜是不希望的，因為可收回組件的性能受到影響。在最壞的情況中，細(xì)菌等聚集、繁殖且因此污染介質(zhì)且因此使其不可使用。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]本發(fā)明的目的是提供滿足衛(wèi)生要求的密封系統(tǒng)和可收回組件。
[0009]該目的通過密封系統(tǒng)實現(xiàn)，所述密封系統(tǒng)包括:基本中空的柱形殼體，所述殼體帶有內(nèi)空間和開放到殼體中的內(nèi)空間的圓周溝槽，其中圓周溝槽限定了殼體內(nèi)的平面且該平面的法線平行于殼體的縱向軸線，其中溝槽包括至少一個一一優(yōu)選兩個一一用于擴(kuò)張溝槽的擴(kuò)展空間，其中擴(kuò)展空間布置在溝槽的背離內(nèi)空間的一側(cè)；對應(yīng)于溝槽且布置在溝槽內(nèi)的環(huán)形密封件，其中環(huán)形密封件至少由面向內(nèi)空間的第一分段和背離內(nèi)空間的第二分段形成，其中第一分段包括動態(tài)密封表面；和平行于殼體的縱向軸線可移動的部件，且該可移動部件具有端部區(qū)域，其中可移動部件實施為使得在第一位置處它關(guān)閉且無間隙地密封殼體的內(nèi)空間，特別是當(dāng)可移動部件的端部區(qū)域與環(huán)形密封件位于相同的軸向位置時，特別是與動態(tài)密封表面位于相同的軸向位置時。
[0010]以此方式，在內(nèi)空間到外部空間的過渡區(qū)域處，環(huán)形密封件和可移動部件的端部區(qū)域之間形成無間隙密封，可滿足衛(wèi)生要求。
[0011]在優(yōu)選的實施例中，殼體包括第一部分和第二部分，其中第一部分使得殼體可與容納器連接，其中第二部分形成內(nèi)空間，其中溝槽通過第一部分和第二部分的組裝而形成，且其中第二分段包括第一靜態(tài)密封表面和第二靜態(tài)密封表面，其中環(huán)形密封件實施為使得溝槽在至少第一靜態(tài)密封表面和第二靜態(tài)密封表面處無間隙地圍繞環(huán)形密封件。
[0012]兩個部分的構(gòu)造便于環(huán)形密封件的簡單制造和安裝。另外，兩個另外的無間隙的密封表面保證可滿足衛(wèi)生要求。
[0013]在優(yōu)選的實施例中，環(huán)形密封件的橫截面由背離內(nèi)空間的圓形橫截面和面向內(nèi)空間的矩形橫截面的組合形成。其他實施例是可以的。希望的實施例允許滿足所提出的要求。
[0014]有利地，溝槽的橫截面小于環(huán)形密封件的橫截面。因此，環(huán)形密封件略微被壓縮且向內(nèi)施加一定的壓力。特別地，圓形分段小于溝槽。以此方式，圓形橫截面的上部分和下部分被分別向上和向下壓縮。
[0015]術(shù)語“之上”、“朝上”和相關(guān)的術(shù)語在本發(fā)明的意義中是中離開介質(zhì)，而“之下”、“下”和相關(guān)的術(shù)語在本發(fā)明的意義中是指朝向介質(zhì)?！爸狻?、“朝外”和相關(guān)的術(shù)語在本發(fā)明的意義中是指離開殼體的縱向軸線，而“內(nèi)”、“之內(nèi)”和相關(guān)的術(shù)語在本發(fā)明的意義中是指朝向該縱向軸線。
[0016]在實施例的有利的形式中，環(huán)形密封件的材料是乙丙橡膠橡膠(EPM)、三元乙丙橡膠(EPDM)、含氟橡膠(FKM)、全氟橡膠(FFKM)、聚四氟乙烯(PTFE)或硅膠。
[0017]優(yōu)選地，擴(kuò)展空間的體積對應(yīng)于環(huán)形密封件的體積的3%至20%。通過應(yīng)用至少一個擴(kuò)展空間，選擇是環(huán)形密封件可在溫度改變時特別是在溫度升高時膨脹到膨脹空間內(nèi)，且因此也在溫度改變時保證動態(tài)的第一密封表面和靜態(tài)的第二密封表面處的無間隙的密封。
[0018]本發(fā)明目的進(jìn)一步通過用于測量容納器內(nèi)的介質(zhì)的至少一個測量變量的可收回組件實現(xiàn)，所述可收回組件包括:基本中空的柱形殼體，所述殼體具有形成在該殼體的內(nèi)空間內(nèi)的服務(wù)室；具有端部區(qū)域的浸沒管，所述浸沒管在殼體內(nèi)從介質(zhì)離開的服務(wù)位置至進(jìn)入到介質(zhì)內(nèi)的過程位置之間軸向可移動，其中在服務(wù)位置中浸沒管定位在服務(wù)室內(nèi)；至少一個如上所述的密封系統(tǒng)，其中殼體由可收回組件殼體形成，其中可移動部件通過浸沒管形成，其中第一位置對應(yīng)于服務(wù)位置，其中在服務(wù)位置中環(huán)形密封件關(guān)閉且無間隙地密封了服務(wù)室，使得浸沒管的端部區(qū)域抵靠環(huán)形密封件的動態(tài)密封表面。
[0019]在有利的變體中提供了沖洗/清洗室，所述沖洗/清洗室在殼體內(nèi)布置在容納器和服務(wù)室之間，其中如上所述的密封系統(tǒng)密封服務(wù)室使得與沖洗/清洗室隔離。
[0020]添加了服務(wù)室，因此兩個不同的室可用于在探頭上執(zhí)行工作。正是在衛(wèi)生應(yīng)用的情況中，沖洗/清洗室可因此用作介質(zhì)和服務(wù)室之間的另外的屏障。
[0021]在優(yōu)選的實施例中，在殼體上布置了用于服務(wù)室和/或用于沖洗/清洗室的至少一個沖洗清洗連接件，所述連接件實施為使得當(dāng)浸沒管的端部區(qū)域在從服務(wù)位置移動到過程位置的情況中在環(huán)形密封件上經(jīng)過時，流過沖洗清洗連接的清洗或沖洗介質(zhì)沖洗、清洗、清潔和/或消毒環(huán)形密封件，特別是動態(tài)密封表面。
[0022]在此方面，浸沒管在其面向介質(zhì)的端部上具有其中安放了傳感器的球門狀開口。替代地或補(bǔ)充地，浸沒管可向上展開。
[0023]為執(zhí)行清潔過程，優(yōu)選地提供了鎖定設(shè)備，所述鎖定設(shè)備將浸沒管鎖定到一位置，在該位置可進(jìn)行環(huán)形密封件的清潔。優(yōu)選地，在此位置中執(zhí)行動態(tài)密封表面的前述沖洗/
清潔/消毒。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0024]本發(fā)明現(xiàn)在將基于附圖解釋，所述附圖如下:
[0025]圖1示出了安裝有本發(fā)明的密封系統(tǒng)的本發(fā)明的可收回組件，
[0026]圖2示出了放大表示的本發(fā)明的密封系統(tǒng)，
[0027]圖3示出了處于用于沖洗/清洗密封系統(tǒng)的位置的安裝有本發(fā)明的密封系統(tǒng)的本發(fā)明的可收回組件，和
[0028]圖4示出了帶有另外的沖洗/清洗室的本發(fā)明的可收回組件。

【具體實施方式】
[0029]在附圖中，相同的特征提供有相同的附圖標(biāo)號。
[0030]本發(fā)明的可收回組件在圖1和圖3中以附圖標(biāo)號I示出。可收回組件I包括基本柱形可收回組件殼體8，所述可收回組件殼體8可通過過程連接件19連接到容納器(未示出)。過程連接件19例如可以是例如由不銹鋼制成的凸緣連接件。過程連接件19將在下文中詳細(xì)描述。在容納器內(nèi)布置了待測量的介質(zhì)7。容納器例如可以是容器、壺、管、管道等。
[0031]術(shù)語“上方”、“朝上”和相關(guān)的術(shù)語在本發(fā)明的意義中是指離開介質(zhì)7，而“下方”、“之下”和相關(guān)的術(shù)語在本發(fā)明的意義中是指朝向介質(zhì)。“之外”、“向外”和相關(guān)的術(shù)語在本發(fā)明的意義中是指從殼體8的縱向軸線L離開，而“之內(nèi)”、“內(nèi)部”和相關(guān)的術(shù)語在本發(fā)明的意義中是指朝向縱向軸線L。
[0032]圖1示出了處于服務(wù)位置的可收回組件I。所述可收回組件I在下文中詳細(xì)解釋。
[0033]浸沒管5在殼體8內(nèi)被引導(dǎo)。探頭與浸沒管5例如通過螺紋連接而連接，即探頭安裝在浸沒管5內(nèi)。在本發(fā)明的意義上，探頭包括具有至少一個接受器的探頭，所述接受器用于用來測量一個或多個物理或化學(xué)過程變量的傳感器。所述變量例如包括pH值，也通過ISFET包括氧化還原電勢，例如在UV、IR和/或可見光波長范圍內(nèi)的電磁波在介質(zhì)中的吸收、氧含量、導(dǎo)電率、混濁度、金屬或非金屬物質(zhì)的濃度以及溫度。
[0034]如果浸沒管5位于服務(wù)位置，則浸沒管5的一部分特別是傳感器3位于內(nèi)空間9內(nèi)，即所謂的服務(wù)室17內(nèi)，以用于沖洗、清洗、清潔、校準(zhǔn)等。在浸沒管5的下端區(qū)域6(因此朝向介質(zhì))處布置了封閉元件20用來密封使得與過程隔離。封閉元件20密封內(nèi)空間9使得與過程隔離，且因此與介質(zhì)7隔離。介質(zhì)7可以是熱的、有毒的、腐蝕性的或以其他方式對于人員和環(huán)境有害的介質(zhì)。因此，需要封閉元件20實現(xiàn)安全且耐久的密封。為此目的，在殼體8上/內(nèi)設(shè)置密封系統(tǒng)2，特別使用一個或多個成形的密封件12。這將在下文中詳細(xì)解釋。
[0035]在服務(wù)位置可執(zhí)行大多數(shù)種類的服務(wù)任務(wù)，例如清潔或校準(zhǔn)。在此情況下，通過連接件4可將清潔液體、沖洗液體、清洗液體和校準(zhǔn)液體引入到內(nèi)空間9內(nèi)。通過相應(yīng)的另外的出口又可將液體排出(在此方面，例如見圖3中的上連接件4，其中可收回組件I相對于垂直方向傾斜地安裝；注意沖洗、清洗方向也可反向)。
[0036]浸沒管5可由不同的材料制成。根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)，浸沒管5由不銹鋼、鈦和其他化學(xué)耐受性材料制成。浸沒管5也可由合成材料生產(chǎn)，例如聚醚醚酮(PEEK)、聚四氟乙烯(PTFE)、全氟烷氧基聚合物(PFA)或一些其他合成材料或耐受性金屬，例如Hastelloy。同樣材料適用于殼體8。
[0037]浸沒管5軸向可位移地被引導(dǎo)，使得沿中心軸線L朝向介質(zhì)7移動，或朝背離介質(zhì)7的方向移動。在此情況下，浸沒管5在進(jìn)入到殼體8內(nèi)的服務(wù)位置(如所描述，見圖1)和從殼體2離開的過程位置-即傳感器3與介質(zhì)7接觸的位置-之間移動。
[0038]浸沒管5的移動通過手動或自動驅(qū)動實現(xiàn)，例如借助于能量源(未詳細(xì)示出)。如果能量源通過連接件(未示出)來提供，則浸沒管5從服務(wù)位置移動到過程位置。另外的連接件(也未示出)則用作排放。如果能量源在相反的方向上引入，則浸沒管5從過程位置引導(dǎo)到服務(wù)位置。從現(xiàn)有技術(shù)已知?dú)鈮?、液壓和電動?qū)動。
[0039]測量在過程位置進(jìn)行。探頭或傳感器3已通過浸沒管5內(nèi)的球門狀開口獲得待測量的介質(zhì)7。替代地或補(bǔ)充地，浸沒管向上呈喇叭口(因此離開介質(zhì))，以實現(xiàn)浸沒管5特別是封閉元件20的沖洗、清洗、清潔或消毒(細(xì)節(jié)見圖3的描述)。
[0040]在下文中將詳細(xì)描述用于密封內(nèi)空間9使得與容納器或介質(zhì)7隔離的密封系統(tǒng)2。
[0041]密封系統(tǒng)2基本由三個部分形成:環(huán)形密封件12，殼體8內(nèi)的用于環(huán)形密封件12的溝槽10，和浸沒管5的端部區(qū)域6內(nèi)的封閉元件20，即可收回組件I的可移動部分。
[0042]殼體8通過過程連接件19和第二部分22形成。溝槽10通過過程連接件19中的、以及殼體8的第二部分22中的相應(yīng)的凹陷形成。溝槽10限定一平面，其中該平面的法線基本上平行于殼體8的縱向軸線延伸。通過將過程連接件19與第二部分22組裝(例如，通過螺紋連接組裝)，導(dǎo)致在殼體8內(nèi)開放到內(nèi)空間9的環(huán)繞的溝槽10。環(huán)形密封件12的更換可通過把過程連接件19和殼體8的第二部分22拆開來進(jìn)行。殼體8的兩部分的結(jié)構(gòu)便于簡單地進(jìn)行環(huán)形密封件的制造和安裝。溝槽10也能以要求的精度、特別是表面粗糙度來生產(chǎn)。
[0043]用于溝槽10的環(huán)形密封件12在圖2中詳細(xì)示出。環(huán)形密封件12包括面向內(nèi)空間9的第一分段13和背離內(nèi)空間9的第二分段14。在不例中，第一分段13的橫截面為矩形且第二分段14的橫截面為圓形。第一分段13和第二分段14在連接處形成臺階。大多數(shù)不同的形狀，例如楔形形狀，提供了其他的選擇。
[0044]溝槽10和環(huán)形密封件12被實施以形成動態(tài)密封表面15。動態(tài)密封表面15是位于內(nèi)部的、環(huán)形密封件12的包圍區(qū)。動態(tài)密封表面15基本與殼體8的內(nèi)部邊緣齊平。
[0045]內(nèi)空間9被無間隙地密封使得與容納器或介質(zhì)7隔離，特別地通過與浸沒管5相互作用的動態(tài)密封表面15，更確切地通過封閉元件20無間隙密封。因此，在殼體8和環(huán)形密封件12之間無間隙可形成。在實施例中，動態(tài)密封表面15突出到內(nèi)空間9內(nèi)；此區(qū)域當(dāng)浸沒管5在環(huán)形密封件12上方移動的情況下首先略微向外被壓。
[0046]另外，溝槽10實施為使得在第二分段14內(nèi)形成至少第一靜態(tài)密封表面16.1和另一個第二靜態(tài)密封表面16.2。第一靜態(tài)密封表面16.1布置在環(huán)形密封件12上方的第二分段14上，而第二靜態(tài)密封表面16.2布置在環(huán)形密封件12上的第二分段14下方。第一和第二靜態(tài)密封表面16.1,16.2無間隙地密封內(nèi)空間9使得與外部空間隔離。另外，第一和第二靜態(tài)密封表面16.1,16.2負(fù)責(zé)保證過程連接件19和殼體8的第二部分22相對于彼此的密封。
[0047]因此，作為整體存在至少三個無間隙的密封表面。為進(jìn)一步保證此無間隙性，溝槽10的橫截面實施為小于環(huán)形密封件12的橫截面。
[0048]環(huán)形密封件12例如包括乙丙橡膠橡膠(EPM)、三元乙丙橡膠(EPDM)、含氟橡膠(FKM)、全氟橡膠(FFKM)、聚四氟乙烯(PTFE)或硅膠。
[0049]用于擴(kuò)張溝槽10的擴(kuò)展空間11位于溝槽10的外部分處。優(yōu)選地，如在示例中所示，存在兩個擴(kuò)展空間11。擴(kuò)展空間的體積典型地達(dá)到環(huán)形密封件12的體積的5%至15%。環(huán)形密封件12的與動態(tài)密封表面相反對置的區(qū)域鄰接擴(kuò)展空間11。
[0050]在例如由于消毒過程所導(dǎo)致的溫度改變的情況中，環(huán)形密封件12可膨脹到擴(kuò)展空間11內(nèi)，而在動態(tài)的第一密封表面和靜態(tài)的第二密封表面15、16.1、16.2處的無間隙性不降低。換言之，在任何溫度下不形成間隙。取決于材料，環(huán)形密封件12可經(jīng)受-20°C到+140 °C的溫度改變。
[0051]為衛(wèi)生目的，需要清潔即沖洗、清洗、清潔且在需要時消毒環(huán)形密封件12。圖3圖示了此清潔過程。浸沒管5運(yùn)動到位于服務(wù)位置和過程位置之間的位置。這通過鎖定設(shè)備18鎖定。鎖定設(shè)備18在圖3中以符號表示，且例如是鎖定元件、自限制驅(qū)動或自動運(yùn)行的機(jī)構(gòu)。
[0052]通過下連接件4流入的沖洗、清潔或消毒介質(zhì)圍繞環(huán)形密封件12流動且因此將其沖洗、清潔或消毒。流入介質(zhì)可排放到介質(zhì)7內(nèi)(其流動在要求時關(guān)閉)或容納器內(nèi)。
[0053]在實施例中，在圖4中在殼體8內(nèi)在服務(wù)室17下方因此在服務(wù)室17和容納器之間布置了另一個室，即所謂的沖洗/清洗室21。正是在衛(wèi)生應(yīng)用的情況中，此室21可被消毒而作為介質(zhì)7和服務(wù)室17之間的另外的屏障。考慮到服務(wù)室17，則存在兩個不同的室以用于在探頭上執(zhí)行工作。其一個示例是探頭在服務(wù)室17內(nèi)的消毒或校準(zhǔn)?？纱嬖谄渌臎_洗清洗連接件4。服務(wù)室17和沖洗/清洗室21也通過本發(fā)明的密封系統(tǒng)相對于彼此密封。
[0054]附圖標(biāo)號列表
[0055]I 可收回組件
[0056]2 密封系統(tǒng)
[0057]3 傳感器
[0058]4 沖洗清洗連接件
[0059]5 浸沒管
[0060]6 浸沒管5的端部區(qū)域
[0061]7 介質(zhì)
[0062]8 殼體
[0063]9內(nèi)空間
[0064]10溝槽
[0065]11擴(kuò)展空間
[0066]12環(huán)形密封件
[0067]13環(huán)形密封件12的第一分段
[0068]14環(huán)形密封件12的第二分段
[0069]15動態(tài)密封表面
[0070]16.1第一靜態(tài)密封表面
[0071]16.2第二靜態(tài)密封表面
[0072]17服務(wù)室
[0073]18鎖定設(shè)備
[0074]19過程連接件
[0075]20封閉元件
[0076]21沖洗/清洗室
[0077]22殼體8的第二部分
[0078]L縱向軸線
【權(quán)利要求】
1.密封系統(tǒng)(2)，包括: -基本中空的柱形殼體(8)，所述殼體(8)具有內(nèi)空間(9)和開放到殼體(8)中的所述內(nèi)空間(9)的圓周溝槽(10)， 其中所述圓周溝槽(10)限定了殼體(8)內(nèi)的一平面且該平面的法線平行于所述殼體(8)的縱向軸線(L)， 其中所述溝槽(10)包括至少一個一一優(yōu)選兩個一一用于擴(kuò)張溝槽(10)的擴(kuò)展空間(11)， 其中所述擴(kuò)展空間(11)布置在所述溝槽(10)的背離所述內(nèi)空間(9)的一側(cè)； -環(huán)形密封件(12)，該環(huán)形密封件(12)對應(yīng)于所述溝槽(10)且布置在所述溝槽(10)內(nèi)， 其中所述環(huán)形密封件(12)至少由面向所述內(nèi)空間(9)的第一分段(13)和背離所述內(nèi)空間O)的第二分段(14)形成， 其中所述第一分段(13)包括動態(tài)密封表面(15);和 -平行于所述殼體(8)的縱向軸線(L)可移動的部件(5)，并且該可移動的部件(5)具有端部區(qū)域￠)，所述可移動的部件(5)被實施為使得在第一位置處它關(guān)閉且無間隙地密封所述殼體(8)的內(nèi)空間(9)，特別是當(dāng)所述可移動的部件(5)的端部區(qū)域(6)與所述環(huán)形密封件(12)位于相同的軸向位置時，特別是與所述動態(tài)密封表面(15)位于相同的軸向位置時。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的密封系統(tǒng)(2)，其中所述殼體(8)包括第一部分(19)和第二部分(22)， 其中所述第一部分(19)使得所述殼體(8)與容納器可連接， 其中所述第二部分(22)形成所述內(nèi)空間(9)， 其中所述溝槽(10)通過所述第一部分(19)與所述第二部分(22)的組裝而形成，且其中所述第二分段(14)包括第一靜態(tài)密封表面(16.1)和第二靜態(tài)密封表面(16.2)，其中所述環(huán)形密封件(12)被實施為使得所述溝槽(10)在至少所述第一靜態(tài)密封表面(16.1)和所述第二靜態(tài)密封表面(16.2)處無間隙地圍繞所述環(huán)形密封件(12)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的密封系統(tǒng)(2)，其中所述環(huán)形密封件(12)的橫截面由背離所述內(nèi)空間(9)的圓形截面和面向所述內(nèi)空間(9)的矩形截面的組合而形成。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中至少一項所述的密封系統(tǒng)(2)，其中所述溝槽(10)的橫截面小于所述環(huán)形密封件(12)的橫截面。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中至少一項所述的密封系統(tǒng)(2)，其中所述環(huán)形密封件(12)的材料是乙丙橡膠橡膠(EPM)、三元乙丙橡膠(EPDM)、含氟橡膠(FKM)、全氟橡膠(FFKM)、聚四氟乙烯(PTFE)或硅膠。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中至少一項所述的密封系統(tǒng)(2)，其中所述擴(kuò)展空間(11)的體積是所述環(huán)形密封件(12)的體積的3%至15%。
7.—種在分析過程技術(shù)中浸沒、流動和接附測量系統(tǒng)以測量容納器內(nèi)的介質(zhì)(7)的至少一個測量變量的可收回組件(1)，包括: -基本中空的柱形殼體，所述殼體具有形成在該殼體的內(nèi)空間中的服務(wù)室(17)， -具有端部區(qū)域的浸沒管，所述浸沒管在所述殼體內(nèi)、在從介質(zhì)(7)離開的服務(wù)位置和進(jìn)入到介質(zhì)⑵內(nèi)的過程位置之間軸向可移動， 其中，在所述服務(wù)位置，所述浸沒管定位在所述服務(wù)室(17)內(nèi)； -至少一個根據(jù)權(quán)利要求1至6中至少一項所述的密封系統(tǒng)， 其中所述殼體(8)由所述可收回組件的殼體形成， 其中所述可移動的部件(5)由所述浸沒管形成， 其中所述第一位置對應(yīng)于所述服務(wù)位置， 其中，在所述服務(wù)位置，所述環(huán)形密封件(12)關(guān)閉且無間隙地密封所述服務(wù)室(17)，使得所述浸沒管(5)的端部區(qū)域(6)抵靠所述環(huán)形密封件(12)的所述動態(tài)密封表面(15)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的可收回組件(I)， 其中設(shè)置沖洗/清洗室(21)，所述沖洗/清洗室(21)在所述殼體(8)內(nèi)布置在所述容納器和所述服務(wù)室之間， 其中根據(jù)權(quán)利要求1至6中至少一項所述的密封系統(tǒng)(2)密封所述服務(wù)室(17)使得與所述沖洗/清洗室(21)隔離。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的可收回組件(I)，其中在所述殼體(8)上布置用于所述服務(wù)室(17)和/或用于沖洗/清洗室(21)的至少一個沖洗清洗連接件(4)，所述沖洗清洗連接件被實施為使得當(dāng)所述浸沒管(5)的端部區(qū)域(6)在從所述服務(wù)位置移動到所述過程位置的情況下在環(huán)形密封件(12)上經(jīng)過時，流過所述沖洗清洗連接件(4)的清洗或沖洗介質(zhì)沖洗、清洗、清潔和/或消毒所述環(huán)形密封件(12)或多個環(huán)形密封件(12)，特別是所述動態(tài)密封表面(15)。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的可收回組件(I)，其中提供了鎖定設(shè)備(18)，所述鎖定設(shè)備把所述浸沒管(15)鎖定到一位置，在該位置可進(jìn)行所述環(huán)形密封件(12)的清潔。
【文檔編號】F16K3/30GK104514893SQ201410510674
【公開日】2015年4月15日 申請日期:2014年9月28日 優(yōu)先權(quán)日:2013年10月7日
【發(fā)明者】英格麗德·文德利希, 托馬斯·普福希 申請人:恩德萊斯和豪瑟爾測量及調(diào)節(jié)技術(shù)分析儀表兩合公司