專利名稱：一種用于校準(zhǔn)瞬變電磁場場均勻性的支架的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種支撐裝置，特別涉及一種用于校準(zhǔn)瞬變電磁場場均勻性的支架。
背景技術(shù)：
用于校準(zhǔn)瞬變電磁場的場均勻性的系統(tǒng)通常需要測試多個位置。校準(zhǔn)瞬變電磁場的場均勻性時，不但需要支架支撐和固定測試探頭，而且需要通過支架調(diào)節(jié)測試探頭的位置和角度。具體地，校準(zhǔn)瞬變電磁場的場均勻性時，通常需要通過調(diào)節(jié)支架來改變固定有探頭的測試桿的角度和長度，甚至需要通過調(diào)節(jié)支架實現(xiàn)測試桿繞固定軸的轉(zhuǎn)動?，F(xiàn)有技術(shù)中的支架都不能直接實現(xiàn)上述功能，因此在用于校準(zhǔn)瞬變電磁場的場均勻性時非常不便。目前，非常需要一種能夠用于校準(zhǔn)瞬變電磁場的場均勻性的支架
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種用于校準(zhǔn)瞬變電磁場場均勻性的支架。本發(fā)明提供的用于校準(zhǔn)瞬變電磁場場均勻性的支架包括底座、轉(zhuǎn)軸、圓拱形的第一拱襯、圓拱形的第二拱襯、第一測試桿、第二測試桿、第一旋鈕、第二旋鈕、第一探頭固定裝置和第二探頭固定裝置；所述底座的上表面設(shè)有凸起，所述轉(zhuǎn)軸固定于所述凸起上，所述第一拱襯和所述第二拱襯設(shè)于所述底座的上表面，且所述凸起和所述轉(zhuǎn)軸穿過所述第一拱襯和所述第二拱襯的中空部分，所述第一拱襯所在的平面和所述第二拱襯所在的平面分別與所述底座的上
表面垂直；所述第一測試桿和所述第二測試桿的底端分別呈“h”字形，所述第一測試桿和所述第二測試桿的底端分別與所述轉(zhuǎn)軸鉸接，且所述第一測試桿和所述第二測試桿分別能夠繞所述轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動，所述第一拱襯被設(shè)置為穿過所述第一測試桿的底端的缺口，所述第二拱襯被設(shè)置為穿過所述第二測試桿的底端的缺口；所述第一拱襯上設(shè)有圓拱形的第一凹槽，所述第一旋鈕上設(shè)有螺紋，所述第一測試桿底端的第二側(cè)板上設(shè)有與所述第一旋鈕配合的螺紋，所述第一旋鈕穿過所述第一測試桿底端的第一側(cè)板和所述第一凹槽與所述第一測試桿底端的第二側(cè)板配合，通過旋緊所述第一旋鈕能夠使所述第一測試桿的位置固定；所述第二拱襯上設(shè)有圓拱形的第二凹槽，所述第二旋鈕上設(shè)有螺紋，所述第二測試桿底端的第四側(cè)板上設(shè)有與所述第二旋鈕配合的螺紋，所述第二旋鈕穿過所述第二測試桿底端的第三側(cè)板和所述第二凹槽與所述第二測試桿底端的第四側(cè)板配合，通過旋緊所述第二旋鈕能夠使所述第二測試桿的位置固定；所述第一探頭固定裝置設(shè)于所述第一測試桿上；所述第二探頭固定裝置設(shè)于所述第二測試桿上，所述第一探頭固定裝置能夠沿所述第一測試桿自由滑動，所述第二探頭固定裝置能夠沿所述第二測試桿自由滑動，所述第一探頭固定裝置上設(shè)有第三旋鈕，所述第二探頭固定裝置上設(shè)有第四旋鈕，通過旋緊所述第三旋鈕能夠使所述第一探頭固定裝置的位置固定，通過旋緊所述第四旋鈕能夠使所述第二探頭固定裝置的位置固定。優(yōu)選地，所述第一拱襯和所述第二拱襯上分別設(shè)有角度刻度。優(yōu)選地，所述第一測試桿的底端設(shè)有第一角度觀察窗，所述第二測試桿的底端設(shè)
有第二角度觀察窗。優(yōu)選地，所述第一測試桿和所述第二測試桿上分別設(shè)有長度刻度。優(yōu)選地，所述第一探頭固定裝置上設(shè)有第一長度觀察窗，所述第二探頭固定裝置上設(shè)有第二長度觀察窗。優(yōu)選地，所述凸起呈圓拱形。本發(fā)明具有如下有益效果 (I)當(dāng)校準(zhǔn)瞬變電磁場的場均勻性的系統(tǒng)中采用所述支架時，所述支架不僅能夠用于支撐和固定探頭，而且能夠用于調(diào)節(jié)探頭的位置和角度；(2)所述支架對探頭的位置和角度的調(diào)節(jié)精度高；(3)所述支架制作成本低，使用方便。


圖I為本發(fā)明實施例提供的用于校準(zhǔn)瞬變電磁場場均勻性的支架的示意圖；圖2為本發(fā)明實施例提供的用于校準(zhǔn)瞬變電磁場場均勻性的支架的第一拱襯的示意圖；圖3為本發(fā)明實施例提供的用于校準(zhǔn)瞬變電磁場場均勻性的支架的第二拱襯的示意圖；圖4為本發(fā)明實施例提供的用于校準(zhǔn)瞬變電磁場場均勻性的支架的第一測試桿的側(cè)視圖；圖5為本發(fā)明實施例提供的用于校準(zhǔn)瞬變電磁場場均勻性的支架的第一測試桿的正視圖；圖6為本發(fā)明實施例提供的用于校準(zhǔn)瞬變電磁場場均勻性的支架的第二測試桿的側(cè)視圖；圖7為本發(fā)明實施例提供的用于校準(zhǔn)瞬變電磁場場均勻性的支架的第二測試桿的正視圖。
具體實施例方式下面結(jié)合附圖及實施例對本發(fā)明的發(fā)明內(nèi)容作進一步的描述。本實施例提供的用于校準(zhǔn)瞬變電磁場場均勻性的支架包括底座I、轉(zhuǎn)軸2、圓拱形的第一拱襯31、圓拱形的第二拱襯32、第一測試桿41、第二測試桿42、第一旋鈕51、第二旋鈕52、第一探頭固定裝置61和第二探頭固定裝置62，如圖I所示。底座I的上表面設(shè)有凸起7，轉(zhuǎn)軸2固定于凸起7上，如圖I所示。在本實施例中，凸起7呈例如圓拱形。第一拱襯31和第二拱襯32設(shè)于底座I的上表面，且凸起7和轉(zhuǎn)軸2穿過第一拱襯31和第二拱襯32的中空部分，第一拱襯31所在的平面和第二拱襯32所在的平面分別與底座I的上表面垂直。第一測試桿41和第二測試桿42的底端分別呈“h”字形，如圖4和圖6所示。第一測試桿41和第二測試桿42的底端分別與轉(zhuǎn)軸2鉸接，且第一測試桿41和第二測試桿42分別能夠繞轉(zhuǎn)軸2轉(zhuǎn)動。第一拱襯31被設(shè)置為穿過例如第一測試桿41的底端的缺口 412 ;第二拱襯32被設(shè)置為穿過例如第二測試桿42的底端的缺口422。第一拱襯31上設(shè)有圓拱形的第一凹槽311，如圖I和圖2所示。第一旋鈕51上設(shè)有螺紋，第一測試桿41底端的第二側(cè)板414上設(shè)有與第一旋鈕51配合的螺紋。第一旋鈕51穿過第一測試桿41底端的第一側(cè)板413和第一凹槽311與第一測試桿41底端的第二側(cè)板414配合，通過旋緊第一旋鈕51能夠使第一測試桿41的位置固定。第二拱襯32上設(shè)有圓拱形的第二凹槽321，如圖I和圖3所示。第二旋鈕52上設(shè)有螺紋，第二測試桿42底端的第四側(cè)板424上設(shè)有與第二旋鈕52配合的螺紋。第二旋鈕52穿過第二測試桿42底端的第三側(cè)板423和第二凹槽321與第二測試桿42底端的第四側(cè)板424配合，通過旋緊第二旋鈕52能夠使第二測試桿42的位置固定。第一探頭固定裝置61設(shè)于第一測試桿41上；第二探頭固定裝置62設(shè)于第二測試桿42上，如圖I所示。第一探頭固定裝置61能夠沿第一測試桿41自由滑動；第二探頭固定裝置62能夠沿第二測試桿42自由滑動。第一探頭固定裝置61上設(shè)有例如第三旋鈕611 ;第二探頭固定裝置62上設(shè)有例如第四旋鈕621，如圖5和圖7所示。通過旋緊第三旋 鈕611能夠使第一探頭固定裝置61的位置固定；通過旋緊第四旋鈕621能夠使第二探頭固定裝置62的位置固定。在本實施例中，第一探頭固定裝置61用于固定例如測試探頭81，第二探頭固定裝置62用于固定例如參考探頭82。在本實施例中，第一拱襯31和第二拱襯32上分別設(shè)有角度刻度。如圖5和圖7所不，第一測試桿41的底端設(shè)有例如第一角度觀察窗411,第二測試桿42的底端設(shè)有例如第二角度觀察窗421，用于觀察角度刻度值。第一測試桿41和第二測試桿42上分別設(shè)有長度刻度。第一探頭固定裝置61上設(shè)有第一長度觀察窗612，第二探頭固定裝置62上設(shè)有第二長度觀察窗622，用于觀察長度刻度。當(dāng)校準(zhǔn)瞬變電磁場的場均勻性的系統(tǒng)中采用所述支架時，所述支架不僅能夠用于支撐和固定探頭，而且能夠用于調(diào)節(jié)探頭的位置和角度。所述支架對探頭的位置和角度的調(diào)節(jié)精度高。所述支架制作成本低，使用方便。應(yīng)當(dāng)理解，以上借助優(yōu)選實施例對本發(fā)明的技術(shù)方案進行的詳細(xì)說明是示意性的而非限制性的。本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員在閱讀本發(fā)明說明書的基礎(chǔ)上可以對各實施例所記載的技術(shù)方案進行修改，或者對其中部分技術(shù)特征進行等同替換；而這些修改或者替換，并不使相應(yīng)技術(shù)方案的本質(zhì)脫離本發(fā)明各實施例技術(shù)方案的精神和范圍。
權(quán)利要求
1.用于校準(zhǔn)瞬變電磁場場均勻性的支架，其特征在于， 該支架包括底座(I)、轉(zhuǎn)軸(2)、圓拱形的第一拱襯(31)、圓拱形的第二拱襯(32)、第一測試桿(41)、第二測試桿(42)、第一旋鈕(51)、第二旋鈕(52)、第一探頭固定裝置￠1)和第二探頭固定裝置(62)； 所述底座(I)的上表面設(shè)有凸起(7)，所述轉(zhuǎn)軸(2)固定于所述凸起(7)上，所述第一拱襯(31)和所述第二拱襯(32)設(shè)于所述底座(I)的上表面，且所述凸起(7)和所述轉(zhuǎn)軸(2)穿過所述第一拱襯(31)和所述第二拱襯(32)的中空部分，所述第一拱襯(31)所在的平面和所述第二拱襯(32)所在的平面分別與所述底座(I)的上表面垂直； 所述第一測試桿(41)和所述第二測試桿(42)的底端分別呈“h”字形，所述第一測試桿(41)和所述第二測試桿(42)的底端分別與所述轉(zhuǎn)軸(2)鉸接，且所述第一測試桿(41)和所述第二測試桿(42)分別能夠繞所述轉(zhuǎn)軸(2)轉(zhuǎn)動，所述第一拱襯(31)被設(shè)置為穿過所述第一測試桿(41)的底端的缺口(412)，所述第二拱襯(32)被設(shè)置為穿過所述第二測試桿(42)的底端的缺口 (422)； 所述第一拱襯(31)上設(shè)有圓拱形的第一凹槽(311)，所述第一旋鈕(51)上設(shè)有螺紋，所述第一測試桿(41)底端的第二側(cè)板(414)上設(shè)有與所述第一旋鈕(51)配合的螺紋，所述第一旋鈕(51)穿過所述第一測試桿(41)底端的第一側(cè)板(413)和所述第一凹槽(311)與所述第一測試桿(41)底端的第二側(cè)板(414)配合，通過旋緊所述第一旋鈕(51)能夠使所述第一測試桿(41)的位置固定； 所述第二拱襯(32)上設(shè)有圓拱形的第二凹槽(321)，所述第二旋鈕(52)上設(shè)有螺紋，所述第二測試桿(42)底端的第四側(cè)板(424)上設(shè)有與所述第二旋鈕(52)配合的螺紋，所述第二旋鈕(52)穿過所述第二測試桿(42)底端的第三側(cè)板(423)和所述第二凹槽(321)與所述第二測試桿(42)底端的第四側(cè)板(424)配合，通過旋緊所述第二旋鈕(52)能夠使所述第二測試桿(42)的位置固定； 所述第一探頭固定裝置￠1)設(shè)于所述第一測試桿(41)上；所述第二探頭固定裝置(62)設(shè)于所述第二測試桿(42)上，所述第一探頭固定裝置￠1)能夠沿所述第一測試桿(41)自由滑動，所述第二探頭固定裝置￠2)能夠沿所述第二測試桿(42)自由滑動，所述第一探頭固定裝置￠1)上設(shè)有第三旋鈕￠11)，所述第二探頭固定裝置￠2)上設(shè)有第四旋鈕(621)，通過旋緊所述第三旋鈕(611)能夠使所述第一探頭固定裝置￠1)的位置固定，通過旋緊所述第四旋鈕￠21)能夠使所述第二探頭固定裝置￠2)的位置固定。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的用于校準(zhǔn)瞬變電磁場場均勻性的支架，其特征在于，所述第一拱襯(31)和所述第二拱襯(32)上分別設(shè)有角度刻度。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的用于校準(zhǔn)瞬變電磁場場均勻性的支架，其特征在于，所述第一測試桿(41)的底端設(shè)有第一角度觀察窗(411)，所述第二測試桿(42)的底端設(shè)有第二角度觀察窗(421)。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的用于校準(zhǔn)瞬變電磁場場均勻性的支架，其特征在于，所述第一測試桿(41)和所述第二測試桿(42)上分別設(shè)有長度刻度。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的用于校準(zhǔn)瞬變電磁場場均勻性的支架，其特征在于，所述第一探頭固定裝置￠1)上設(shè)有第一長度觀察窗￠12)，所述第二探頭固定裝置￠2)上設(shè)有第二長度觀察窗(622)。
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的用于校準(zhǔn)瞬變電磁場場均勻性的支架，其特征在于，所述凸起(7)呈圓拱形。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種用于校準(zhǔn)瞬變電磁場場均勻性的支架，該支架包括底座(1)、轉(zhuǎn)軸(2)、圓拱形的第一拱襯(31)、圓拱形的第二拱襯(32)、第一測試桿(41)、第二測試桿(42)、第一旋鈕(51)、第二旋鈕(52)、第一探頭固定裝置(61)和第二探頭固定裝置(62)。當(dāng)校準(zhǔn)瞬變電磁場的場均勻性的系統(tǒng)中采用所述支架時，所述支架不僅能夠用于支撐和固定探頭，而且能夠用于調(diào)節(jié)探頭的位置和角度。所述支架對探頭的位置和角度的調(diào)節(jié)精度高。所述支架制作成本低，使用方便。
文檔編號F16M11/06GK102840427SQ20121030858
公開日2012年12月26日 申請日期2012年8月27日 優(yōu)先權(quán)日2012年8月27日
發(fā)明者姚利軍, 沈濤, 黃建領(lǐng) 申請人:北京無線電計量測試研究所