專利名稱：一種用于流體點(diǎn)陣均勻分布的管路的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
一種用于流體點(diǎn)陣均勻分布的管路技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種流體均勻集散裝置，更具體的說(shuō)是一種用 于流體集散口平面點(diǎn)陣均勻分布的管路。背景技術(shù)：
水蓄冷項(xiàng)目的蓄冷水池的集散水管或其他工程或設(shè)備中對(duì)水、油 或氣等流體的多個(gè)進(jìn)出口的流量的均衡都有較高要求，現(xiàn)有的分布管 路有用多級(jí)一分為二的集散管路，從而達(dá)到在進(jìn)出口負(fù)載或壓力相同 的情況下，集散管路的每個(gè)進(jìn)出口能夠均勻或接近均勻地集散流體。 需較多級(jí)管路才能達(dá)到較多點(diǎn)的點(diǎn)陣分布，多級(jí)一分為二的管路占據(jù) 體積較大，使用材料多，成本高。而且較多級(jí)管路分布，流體能量損 失較大，浪費(fèi)資源。為了解決上述現(xiàn)有技術(shù)中的不足，本實(shí)用新型作了有益改進(jìn)。
實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型目的是克服了現(xiàn)有技術(shù)中管路占據(jù)體積較大，使用材 料多，成本高，流體能量損失較大，浪費(fèi)資源的不足，提供一種可以 分為四的節(jié)約材料和能量的集散管路。本實(shí)用新型是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的一種用于流體點(diǎn)陣均勻分布的管路，其包括多級(jí)x型管路單元，所述的X管路單元包括主管，在主管的一端連接有四根在同一平面內(nèi)等長(zhǎng)等截面且對(duì)稱分布的支管，主管與各支管互相連通，上一級(jí)x型 管路單元的支管與下一級(jí)x管路單元的主管相連通。如上所述的一種用于流體點(diǎn)陣均勻分布的管路，其特征在于所述 的主管與支管之間由五通接頭連接，所述的五通接頭包括主管接口和在同一平面成x型分布的支管接口，主管接口與支管接口所在的平面垂直。如上所述的一種用于流體點(diǎn)陣均勻分布的管路，其特征在于所述 的主管和支管為圓管。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型有如下優(yōu)點(diǎn)-本實(shí)用新型采用流體點(diǎn)陣均勻分布的管路，可以均勻的一分為 四，節(jié)約材料和資源，制作成本低，占據(jù)體積小，管阻減小，分流接 口減少，流體分流更均勻。
圖1是本實(shí)用新型的立體圖； 圖2是本實(shí)用新型的主視圖；圖3是本實(shí)用新型的仰視圖； 圖4是本實(shí)用新型的X型管路單元立體圖； 圖5是本實(shí)用新型的流體流向示意圖； 圖6是本實(shí)用新型的接頭立體圖。
具體實(shí)施方式
一種用于流體點(diǎn)陣均勻分布的管路，其包括多級(jí)X型管路單元1， 所述的X管路單元1包括主管2，在主管2的一端連接有四根在同一平面內(nèi)等長(zhǎng)等截面且成X型對(duì)稱分布的支管3，在X型平面內(nèi)相鄰兩 支管3之間夾角可以為任意角度，每個(gè)X管路單元1的流體口構(gòu)成矩 陣，主管2與各支管3互相連通，上一級(jí)X型管路單元1中的支管3 為下一級(jí)X管路單元1'的主管2'與下一級(jí)管路中的支管3'相連 通。所述的主管2與支管3之間由五通接頭4連接，所述的五通接頭 4包括主管接口 401和在同一平面成X型分布的支管接口 402，主管 接口 401與支管接口 402所在的平面垂直。所述的主管2和支管3為 圓管。本實(shí)用新型采用流體點(diǎn)陣均勻分布的X型管路，可以均勻的將流 體一分為四或者合四為一，較一分為二的H型管路相比大大節(jié)約材料 和資源，制作成本低，占據(jù)體積小，管阻減小，分流接口減少，流體 分流更均勻。
權(quán)利要求1. 一種用于流體點(diǎn)陣均勻分布的管路，其特征在于其包括多級(jí)X型管路單元(1)，所述的X管路單元(1)包括主管(2)，在主管(2)的一端連接有四根在同一平面內(nèi)等長(zhǎng)等截面且對(duì)稱分布的支管(3)，主管(2)與各支管(3)互相連通，上一級(jí)X型管路單元(1)的支管(3)與下一級(jí)X管路單元(1’)的主管(2’)相連通。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于流體點(diǎn)陣均勻分布的管 路，其特征在于所述的主管(2)與支管(3)之間由五通接頭(4) 連接，所述的五通接頭(4)包括主管接口 (401)和在同一平面成X 型分布的支管接口 (402),主管接口 (401)與支管接口 (402)所在 的平面垂直。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于流體點(diǎn)陣均勻分布的管 路，其特征在于所述的主管(2)和支管(3)為圓管。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種用于流體點(diǎn)陣均勻分布的管路，其技術(shù)方案的要點(diǎn)是，其包括多級(jí)X型管路單元，所述的X管路單元包括主管，在主管的一端連接有四根在同一平面內(nèi)等長(zhǎng)等截面且對(duì)稱分布的支管，主管與各支管互相連通，上一級(jí)X型管路單元的支管與下一級(jí)X管路單元的主管相連通。本實(shí)用新型目的是克服了現(xiàn)有技術(shù)中管路占據(jù)體積較大，使用材料多，成本高，流體能量損失較大，浪費(fèi)資源的不足，提供一種可以分為四的節(jié)約材料和能量的集散管路。
文檔編號(hào)F16L41/00GK201121788SQ20072005709
公開日2008年9月24日 申請(qǐng)日期2007年9月11日 優(yōu)先權(quán)日2007年9月11日
發(fā)明者楊宇楠 申請(qǐng)人:楊宇楠