專利名稱:閥標靶組件及控制閥組件的制作方法
【專利摘要】提供一種閥標靶組件及控制閥組件?？刂崎y組件包括具有耦接到流動控制元件的第一部分的縱向延伸的閥軸。閥標靶組件還包括外殼，所述外殼具有協(xié)作來限定密封的內(nèi)部的多個壁，閥軸的第二部分布置于所述內(nèi)部中。第一探測部件布置于外殼的所述內(nèi)部中。標靶支架耦接到閥軸的第三部分，所述標靶支架布置在所述內(nèi)部以外。第一標靶被耦接到標靶支架，其中，在第一軸位置上，第一標靶適于位于第一探測部件的探測范圍以內(nèi)。在第二軸位置上，第一標靶適于位于探測部件的探測范圍以外。通過如此布置，技術(shù)人員可重置部分或所有的標靶，而不需要打開外殼，由此將維護時間最小化，并且減小了外殼在再組裝時不會適當密封的可能性。
【專利說明】閥標靶組件及控制閥組件

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本公開大體上涉及控制閥，更具體地，涉及指示控制閥的位置的標靶組件。

【背景技術(shù)】
[0002]控制閥被用在過程控制系統(tǒng)中，以響應于從一個或多個閥控制器接收的信號來完全或部分打開或關(guān)閉以控制諸如流量、壓力、溫度和/或液位等條件。典型地，閥控制器被可操作地耦接于或者包括設(shè)置于系統(tǒng)中的一個或多個傳感器或開關(guān)，由此允許閥控制器來比較一個或多個“設(shè)定點”和對應的“過程變量”，該“過程變量”的值由開關(guān)或傳感器來提供?？刂崎y的打開或關(guān)閉通常通過電動、液壓或者氣動致動器來自動進行。另外，定位器可用來基于例如從閥控制器接收的電子或氣動信號來控制致動器的打開或關(guān)閉。
[0003]在典型的控制閥組件中，閥控制器的一個或多個開關(guān)(例如，接近開關(guān))或其它傳感器適用于探測耦接到閥的一部分(例如，閥桿)的標靶(例如，磁體)，以確定控制閥的一個或多個操作參數(shù)，例如，控制閥的閉合件的位置。更具體地，在包括圍繞其縱向軸線旋轉(zhuǎn)以打開和關(guān)閉閥(即，將閥閉合件從閥閉合件接合閥座的關(guān)閉位置旋轉(zhuǎn)到閥閉合件與閥座分離的打開位置)的軸的控制閥組件中，磁體和開關(guān)都布置在閥控制器的外殼的內(nèi)部中。為了相對于開關(guān)重新放置磁體，技術(shù)人員必須打開外殼并手動將磁體重新放置于固定到軸的固定裝置上。然而，典型地，外殼被密封，以保護組件免受周圍環(huán)境影響，例如包括惡劣高溫或過多的濕氣。因此，關(guān)閉外殼同時維持密封是耗時且精確的工藝，并且密封件的折衷可能導致布置在外殼中的一個或多個組件的全部失效。
實用新型內(nèi)容
[0004]本實用新型的目的在于解決上述現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺陷。
[0005]根據(jù)本實用新型的一個示例性方面，閥標靶組件包括沿著標靶縱向軸線延伸的標靶軸，所述標靶軸具有第一端和縱向上相對的第二端。所述標靶軸的第一端適于耦接到閥軸，閥軸被親接到流動控制元件。所述閥標革E組件還包括外殼，所述外殼具有協(xié)作來限定密封的內(nèi)部的多個壁，所述標靶軸的一部分布置在所述外殼的所述內(nèi)部中。第一探測部件布置在所述外殼的所述內(nèi)部中。標靶支架被耦接到所述標靶軸，所述標靶支架布置在所述外殼的所述內(nèi)部以外。第一標靶被耦接到所述標靶支架，其中在第一軸位置上，所述第一標靶適于位于所述第一探測部件的探測范圍以內(nèi)。在與所述第一軸位置旋轉(zhuǎn)偏離的第二軸位置上，所述第一標靶適于位于所述探測部件的所述探測范圍以外。
[0006]在某些優(yōu)選形式中，閥標靶組件還包括第二探測部件，其布置在所述外殼的所述內(nèi)部中；第二標靶，其可移除地耦接到所述標靶支架，其中，在第三軸位置上，所述第二標靶適于位于所述第二探測部件的探測范圍以內(nèi)，并且在與所述第二軸位置旋轉(zhuǎn)偏離的第四軸位置上，所述第二標靶適于位于所述第二探測部件的探測范圍以外。
[0007]在某些優(yōu)選形式中，所述第一軸位置與所述第三軸位置相同，并且所述第二軸位置與所述第四軸位置相同。
[0008]在某些優(yōu)選形式中，所述第一軸位置與所述第四軸位置相同，并且所述第二軸位置與所述第三軸位置相同。
[0009]在某些優(yōu)選形式中，所述外殼的所述多個壁中的一個布置在所述第一探測部件和所述第一標靶之間。
[0010]在某些優(yōu)選形式中，所述外殼的所述多個壁中的一個是非磁性的。
[0011]在某些優(yōu)選形式中，所述第一標靶包括上部分和下部分，并且其中所述標靶支架的一部分布置在所述上部分和所述下部分之間。
[0012]在某些優(yōu)選形式中，所述上部分和所述下部分中的至少一個包括磁體。
[0013]在某些優(yōu)選形式中，所述標靶支架包括平坦的連接部。
[0014]在某些優(yōu)選形式中，所述連接部包括第一調(diào)節(jié)狹槽，所述第一調(diào)節(jié)狹槽至少部分沿著具有沿著縱向軸線的中心點的圓形參考線延伸。
[0015]在某些優(yōu)選形式中，所述第一探測部件是磁力致動的接近開關(guān)。
[0016]在某些優(yōu)選形式中，所述標靶支架在所述標靶軸的所述第二端或者鄰近所述標靶軸的所述第二端被耦接到所述標靶軸。
[0017]在某些優(yōu)選形式中，所述第一標靶至少可移除地耦接到所述標靶支架或者可移位地耦接到所述標靶支架。
[0018]在某些優(yōu)選形式中，所述標靶縱向軸線與所述閥軸的縱向軸線同軸對齊。
[0019]在某些優(yōu)選形式中，所述閥軸具有第一端和第二端，所述閥軸的所述第一端被耦接到所述流動控制元件，并且所述閥軸的所述第二端與所述標靶軸的所述第二端一體地形成。
[0020]根據(jù)本實用新型的另一個示例性的方面，控制閥組件包括沿著縱向軸線延伸的閥軸，所述閥軸具有第一端和縱向上相對的第二端，流動控制元件被耦接到所述閥軸的第一部分。所述控制閥組件還包括閥體，所述閥體具有入口、出口以及布置在所述入口和所述出口之間的閥座。閥致動器被耦接到所述閥軸，所述閥致動器適于圍繞所述縱向軸線旋轉(zhuǎn)所述閥軸，使得所述流動控制元件從所述流動控制元件密封接合所述閥座的關(guān)閉位置旋轉(zhuǎn)到所述流動控制元件與所述閥座分離的打開位置。所述控制閥組件還包括耦接到所述閥體的外殼，所述外殼具有協(xié)作來限定密封的內(nèi)部的多個壁，所述閥軸的第二部分布置在所述外殼的所述內(nèi)部中。第一探測部件布置在所述外殼的所述內(nèi)部中，并且標靶支架被耦接到所述閥軸的第三部分。所述標靶支架布置在所述外殼的所述內(nèi)部以外，第一標靶被耦接到所述標靶支架。在第一軸位置上，所述第一標靶適于位于所述第一探測部件的探測范圍以內(nèi)。在與所述第一軸位置旋轉(zhuǎn)偏離的第二軸位置上，第一標靶適于位于所述第一探測部件的所述探測范圍以外。
[0021]在某些優(yōu)選形式中，所述第一軸位置對應于所述關(guān)閉位置，并且所述第二軸位置對應于所述打開位置。
[0022]本實用新型通過如此布置，技術(shù)人員可重置部分或所有的標靶，而不需要打開外殼，由此將維護時間最小化，并且減小了外殼在再組裝時不會適當密封的可能性。

【附圖說明】

[0023]圖1為包括控制閥、致動器以及閥標靶組件的實施例的控制閥組件的透視圖；
[0024]圖2為圖1的控制閥組件的實施例的截面圖；
[0025]圖3為第一探測部件的頂視圖；
[0026]圖4A為閥標靶組件的標靶支架的頂視圖；
[0027]圖4B為圖4A的標靶支架的側(cè)視圖；
[0028]圖5A是處于探測部件的探測范圍以內(nèi)的標靶的頂視圖；以及
[0029]圖5B是處于圖5A的探測部件的探測范圍以外的標靶的頂視圖。

【具體實施方式】
[0030]如圖2中所示，閥標靶組件10包括沿著標靶縱向軸線14延伸的標靶軸12，標靶軸12具有第一端16和縱向上相對的第二端18。標靶軸12的第一端16適于耦接到閥軸19，閥軸19被耦接到流動控制元件20。閥標靶組件10還包括外殼22，外殼22具有協(xié)作來限定密封的內(nèi)部26的多個壁24，標靶軸12的一部分布置在外殼22的內(nèi)部26中。第一探測部件28a布置在外殼22的內(nèi)部26中。標靶支架30被耦接到標靶軸12，標靶支架30布置在外殼22的內(nèi)部26以外。第一標革El 32a被親接到標革El支架30，在第一軸位置上，第一標靶32a適于處于第一探測部件28a的探測范圍102a以內(nèi)，如圖5A中所示。在與第一軸位置旋轉(zhuǎn)偏離的第二軸位置上，第一標靶32a適于處于第一探測部件28a的探測范圍102a以夕卜，如圖5B中所示。由于標靶支架30布置在外殼22的內(nèi)部26以外，所以第一標靶32a可相對于第一探測部件28a重置于標靶支架30上，而不需需要拆卸外殼22。因此，由于打開和再關(guān)閉外殼22而引起的對密封件的損壞能夠避免。
[0031]更詳細地參見閥標靶組件10，閥標靶組件10可以是包含于控制閥組件34中的部件，例如如圖1和圖2中所示?？刂崎y組件34可包括控制閥36，例如旋轉(zhuǎn)控制閥(例如，蝶形閥、控制盤閥、球閥或者偏心旋塞閥)?？刂崎y36可包括閥體38，閥體38具有入口 40、出口 42以及位于入口 40和出口 42之間的通路44。入口 40、出口 42和通路44可分別具有帶有相同或基本相同的直徑的圓形的橫截面形狀，如圖1和圖2中所示。然而，閥體38的入口 40、出口 42和通路44可分別具有任何適當形狀或形狀的組合。
[0032]再參見圖1和圖2，流動控制元件20可布置于通路44中并可耦接到閥軸19，使得閥軸19圍繞閥縱向軸線46的旋轉(zhuǎn)引起流動控制元件20的相應的旋轉(zhuǎn)。閥軸19可沿著閥縱向軸線46從第一端47延伸到縱向上相對的第二端49，閥軸19的第一端47可被直接或間接地耦接到流動控制元件20。閥軸19可形成為單個的、一體的部件，或者可由兩個或多個部分形成，這些部分被固定來形成閥軸19。閥縱向軸線46可沿著或平行于圖1和圖2的參考坐標系的Y軸。流動控制元件20的旋轉(zhuǎn)軸線可與閥縱向軸線46同軸地對齊。閥座48可沿著通路44布置，閥軸19可圍繞閥縱向軸線46旋轉(zhuǎn)，使得流動控制元件20從流動控制元件20密封接合閥座48的關(guān)閉位置(如圖2中實線所示)旋轉(zhuǎn)到流動控制元件20與閥座48分離的打開位置(如圖2中虛線所示)。即，在打開位置上，過程流體能夠經(jīng)由控制閥36的通路44從入口 40流到出口 42。在關(guān)閉位置上，通過流動控制元件20與閥座48的密封接合來阻止過程流體從入口 40流到出口 42。流動控制元件20可通過本領(lǐng)域內(nèi)已知的任何方式來密封接合閥座48。
[0033]如圖1中所示，控制閥組件34可包括閥致動器50，閥致動器50被直接或間接地耦接到閥軸19，以將流動控制元件20從關(guān)閉位置旋轉(zhuǎn)或者移動到打開位置(反之亦然)。閥致動器50可以是本領(lǐng)域內(nèi)已知的任何類型的閥致動器，例如氣動、液壓或者電動致動器。具體地，閥致動器50可包括殼體52，殼體52限定由隔膜56分隔開的第一腔室54a和第二腔室54b。致動器桿58可將隔膜56耦接到閥軸19，使得致動器桿58的縱向移位可通過本領(lǐng)域內(nèi)已知的方式引起閥軸19的旋轉(zhuǎn)。壓縮流體可被引入殼體52的第一腔室54a，以旋轉(zhuǎn)流動控制元件20來接合和脫離閥座48。S卩，當?shù)谝磺皇?4a中的壓力低于臨界水平時，布置在殼體52的第二腔室54b中的一個或多個彈簧60可朝著殼體52的頂部偏置隔膜56，并由此旋轉(zhuǎn)閥軸19使得流動控制元件20處于打開(或關(guān)閉)位置。然而，當?shù)谝磺皇?4a中的壓力處于或者高于臨界水平時，隔膜56上的力可克服一個或多個彈簧60的偏置力并遠離殼體52的頂部移動，并由此旋轉(zhuǎn)閥軸19使得流動控制元件20處于關(guān)閉(或打開)位置。
[0034]如圖1和圖2中所示，閥標靶組件10包括外殼22，外殼22可被耦接到控制閥組件34的一部分。如圖1中所示，例如，外殼22可被耦接到閥致動器50。如圖2中所示，外殼22可包括協(xié)作來限定密封的內(nèi)部26的多個壁24。更具體地，外殼22可以是兩部分組件，其包括被密封耦接到中空底部64來限定密封的內(nèi)部26的中空蓋部62。蓋部62可具有任何適當?shù)男螤睢＠?，蓋部62可具有方形、矩形、橢圓形、圓形的橫截面形狀或者任何橫截面形狀的組合。蓋部62可具有第一敞開端66和與第一敞開端66相對的第二封閉端68。蓋部62可包括布置于或者鄰近于第二封閉端68的頂壁70。頂壁70可具有任何適當?shù)男螤罨蛐螤畹慕M合，頂壁70可以是平坦的，并可平行于圖1和圖2中的參考坐標系的X-Z平面延伸。如圖2中所不，一個或多個側(cè)壁72可從頂壁70的每個周邊延伸，并且一個或多個側(cè)壁72可從第二封閉端68延伸到第一敞開端66。蓋法蘭74可沿著一個或多個側(cè)壁72中的每一個的端部延伸。蓋孔76可延伸穿過頂壁70，并且蓋孔76的尺寸可被設(shè)計成容納標靶軸12的一部分。
[0035]仍參見圖2，底部64可具有任何適當?shù)男螤?，并且底?4的形狀可大致對應于蓋部62的形狀。例如，底部64可具有方形、矩形、橢圓形、圓形的橫截面形狀或者任何橫截面形狀的組合。底部64可具有第一敞開端78和與第一敞開端78相對的第二封閉端80，底部64的第一敞開端78可被耦接到蓋部62的第一敞開端66。底部64可包括布置于或鄰近于第二封閉端80的底壁82。底壁82可具有任何適當?shù)男螤罨蛘咝螤畹慕M合，并且底壁82可以是平坦的并可平行于圖1和圖2中的參考坐標系的X-Z平面延伸。一個或多個側(cè)壁84可從底壁82的每個周邊延伸，并且一個或多個側(cè)壁84可從第二封閉端80延伸到第一敞開端78。底法蘭86可沿著一個或多個側(cè)壁84的每一個的端部延伸，并且當蓋部62被耦接到底部64時，底法蘭86可對接蓋法蘭74。任何適當?shù)拿芊饧?例如，墊圈88)可被布置在蓋法蘭74和底法蘭86之間來密封外殼22。底孔90可延伸穿過底壁82，并且底孔90可具有與蓋部62的蓋孔76的軸線縱向?qū)R(即，沿著圖2的參考坐標系的Y軸對齊)的軸線。底孔90的尺寸被設(shè)計成容納標靶軸12的一部分。蓋部62可通過例如機械固定(例如，如圖1中所示，多個螺栓92)等任何適當?shù)姆绞奖还潭ǖ降撞?4。如圖1中所示，底部64和/或蓋部62可具有允許進入密封的內(nèi)部26的一個或多個孔隙和/或壓坑94。底部64和/或蓋部62可由任何適當?shù)牟牧现瞥桑绶谴判圆牧?、非鐵材料和/或當暴露于外部磁場時其中不會感應出顯著磁場的任何材料(例如，塑料或鋁)。更具體地，蓋部62的頂壁70的全部或者部分可由非磁性材料、非鐵材料和/或當暴露于外部磁場時其中不會感應出顯著磁場的任何材料制成。
[0036]參見圖2，外殼22的密封的內(nèi)部26可包括一個或多個探測部件28 (例如，傳感器或開關(guān))，其適于與第一標靶32a配合來確定流動控制元件20的相對位置。例如，諸如磁力致動的接近開關(guān)等第一探測部件28a可布置在密封的內(nèi)部26中。第一探測部件28a可沿著平行于圖2的參考坐標系的Y軸的縱向軸線95a延伸，并且第一探測部件28a可從第一端96延伸到縱向上相對的第二端98。第一探測部件28a的第二端98可通過任何適當?shù)姆绞焦潭ǖ酵鈿?2中。例如，第一探測部件28a的第二端98可被固定到布置在外殼22的內(nèi)部26中的印刷電路板99。第一探測部件28a的第一端96可鄰近于外殼22的蓋部62的頂壁70布置。第一探測部件28a可與控制單元100通信，控制單元100可布置在任何適當?shù)奈恢?。例如，控制單?00可布置在外殼22的內(nèi)部26中，如圖2中所示。更具體地，控制單元100可通過形成于印刷電路板99上的一個或多個通信路徑可通信地耦接到第一探測部件28a?？商鎿Q地，控制單元100可布置在外殼22的內(nèi)部26以外，第一探測部件28a可例如通過一個或多個通信線路(未示出)等任何適當?shù)姆绞娇赏ㄐ诺伛罱拥娇刂茊卧?00，這些通信線路可延伸穿過外殼22的一個或多個孔隙或壓坑94。
[0037]通過將第一探測部件28a固定于外殼22的內(nèi)部26中，圍繞第一探測部件28a的區(qū)域限定第一探測范圍102a，如圖3中所示。第一探測范圍102a可被限定為其中標靶(例如第一標靶32a)的存在使得第一探測部件28a從第一狀態(tài)改變到第二狀態(tài)(或反之亦然)的區(qū)域。即，第一探測部件28a可具有在第一標靶32a移動進入或離開第一探測范圍102a時將切換或者改變狀態(tài)的內(nèi)部切換或感應組件。第一探測部件28a可以是任何適當類型的開關(guān)，例如，磁力觸發(fā)的接近開關(guān)(例如美國專利N0.8，400，241中公開的磁力觸發(fā)的接近開關(guān)，這里通過引用將其結(jié)合于此)。作為示例，第一探測部件28a的第一端96包括可移位的磁性元件(例如，由磁性材料或鐵材料制成的內(nèi)部元件)，其通過偏置磁體被偏置到第一位置，并且該第一位置可接通第一電路(即，第一狀態(tài))。然而，當?shù)谝粯税?2a在第一探測范圍102a中至少部分移動時(如圖5A中所示)，第一標靶32a和可移位的磁性元件之間的磁力比可移位的磁性元件和偏置磁體之間的磁力更強大。因此，磁性元件遠離偏置磁體移動到第二位置，由此斷開第一電路并接通第二電路(即，第二狀態(tài))。當?shù)谝粯税?2a移出第一探測范圍102a時(如圖5B中所示)，第一標靶32a和可移位的磁性元件之間的磁力變?nèi)?，并小于可移位的磁性元件和偏置磁體之間的磁力，可移位的磁性元件可移動到第一位置，由此斷開第二電路并接通第一電路。由于控制單元100與第一電路和第二電路通信，所以控制單元100可指示已經(jīng)發(fā)生的狀態(tài)變化(S卩，從第一狀態(tài)改變到第二狀態(tài)，反之亦然)。另外，布置在第一探測部件28a (例如，位于或者鄰近第一端96)上的LED可指示第一探測部件28a是處于第一狀態(tài)還是第二狀態(tài)。
[0038]任何適當數(shù)目的探測部件可布置在外殼22的內(nèi)部26中。例如，具有第一探測范圍102a的第一探測部件28a、具有第二探測范圍102b的第二探測部件28b、具有第三探測范圍102c的第三探測部件28c、具有第四探測范圍102d的第四探測部件28d可布置在外殼22中。第一、第二、第三和第四探測部件28a、28b、28c和28d可以是相同的，并且第一、第二、第三和第四探測范圍102a、102b、102c和102d的半徑可以相等或基本相等。
[0039]第一探測范圍102a可具有任何適當?shù)男螤睿⑶以撔螤羁梢酝ㄟ^例如可移位的磁性元件和偏置磁體之間的磁力的強度以及第一標靶32a和磁性元件之間的相對距離來決定。探測范圍102a可具有球形，其中心點沿著第一探測部件28a的縱向軸線95a布置。更具體地，第一探測范圍102a的中心點可布置于或者鄰近于磁力開關(guān)的一部分，該部分布置于或者鄰近于第一探測部件28a的第一端96。因此，當從沿著第一探測部件28a的縱向軸線95a的方向(即，平行于圖2的參考坐標系的Y軸的方向)觀察時，第一探測范圍102a可具有圓形，圓的直徑可取決于多個因素，例如第一標靶32a到第一探測部件28a的第一端96的距離(沿著Y軸)。
[0040]如圖2中所示，閥標靶組件10包括沿著標靶縱向軸線14延伸的標靶軸12。標靶軸12沿著標靶縱向軸線14從第一端16延伸到縱向上相對的第二端18。標靶軸12的一部分(即，第一標靶軸部分104)可經(jīng)由外殼22的蓋部62的蓋孔76來容納，標靶軸12的一部分(即，第二標靶軸部分106)可經(jīng)由外殼22的底部64的底孔90來容納。因此，標靶軸12的中間部分(S卩，中間標靶軸部分108)可布置在外殼22的內(nèi)部26中。第一標靶軸部分104可布置于或者鄰近于標靶軸12的第二端18。標靶軸12的第一端16可耦接到閥軸19，而閥軸19耦接到流動控制元件20，使得閥軸19圍繞閥縱向軸線46的旋轉(zhuǎn)引起標靶軸12圍繞標靶縱向軸線14的相應旋轉(zhuǎn)。更具體地，標靶軸12的第一端16可通過任何適當?shù)姆绞街苯踊蛘唛g接耦接到閥軸19的第二端49。例如，標靶軸12的第一端16可與閥軸19的第二端49 一體地形成，或者標靶軸12的第一端16可通過軸環(huán)(未示出)固定到閥軸19的第二端49。閥縱向軸線46和標靶縱向軸線14可同軸對齊、偏離或者成傾斜角度布置。標靶軸12的第二端18可從蓋孔76延伸出來并超出外殼22的蓋部62的頂壁70。標靶軸12可具有任何適當?shù)臋M截面形狀或者形狀的組合，例如圓形的橫截面形狀。
[0041]如圖1、2、4A和4B中所示，閥標靶組件10包括耦接到標靶軸12的標靶支架30。標靶支架30可耦接到在外殼22的內(nèi)部26以外的標靶軸12的一部分。例如，標靶支架30可耦接到在外殼22的內(nèi)部26以外的標靶軸12的一部分。更具體地，標靶支架30可耦接到從蓋孔76延伸出并超出外殼22的蓋部62的頂壁70 ( S卩，沿著Y軸在外殼22以外)的標靶軸12的外部110，外部110可布置于或鄰近于標靶軸12的第二端18。
[0042]如圖4A和4B中所示，標靶支架30可包括耦接部112和延伸部114。耦接部112可將標靶支架30固定到標靶軸12，延伸部114可耦接到耦接部112。在一些實施例中，延伸部114可與耦接部112—體地形成，并且耦接部112可以是形成在延伸部114中的孔。在其它的實施例中，耦接部112可以是一個或多個環(huán)形的軸環(huán)，其圍繞標靶軸12形成并且不可旋轉(zhuǎn)地固定到標靶軸12，使得耦接部112不會相對于標靶軸12(或延伸部114)旋轉(zhuǎn)。耦接部112可通過固定螺釘或任何其它適當?shù)姆绞焦潭ǖ綐税休S12。
[0043]延伸部114可以是細長的、剛性的，并可從耦接部112懸伸出以平行于或基本平行于圖4A的參考坐標系的X-Z平面延伸。延伸部114可具有任何適當形狀或形狀的組合，并且延伸部114的橫截面可具有平行于圖4B的X軸延伸的一個或多個部分，并可具有彎曲的、部分彎曲的或其它輪廓的一個或多個部分。例如，延伸部114可以是平坦的并可平行于圖4B的X軸延伸。如圖4A中所不，延伸部114可具有部分由第一橫向邊緣116和第二橫向邊緣118限定的外圍。第一橫向邊緣116和第二橫向邊緣118可以是線性的并且非平行的，第一橫向邊緣116和第二橫向邊緣118可形成在90°和45°之間的角度。第一末端邊緣120可從第一橫向邊緣116的末端延伸并朝著第二橫向邊緣118向內(nèi)延伸。第一末端邊緣120可延伸到第二橫向邊緣118或者第一末端邊緣120的一端可沒有延伸到第二橫向邊緣118。第一末端邊緣120可具有圓的區(qū)段的形狀，該圓的中心點與標靶縱向軸線14對齊。第二末端邊緣122可從第二橫向邊緣118的末端延伸，并朝著第一橫向邊緣116向內(nèi)延伸，但是沒有延伸到第一橫向邊緣116。第一末端邊緣120可延伸到鄰近于第一末端邊緣120的末端的點，過渡邊緣124可從第一末端邊緣120的末端延伸到第二末端邊緣122的末端。過渡邊緣124可沿著與標靶縱向軸線14相交的參考線延伸。第二末端邊緣122可具有圓的區(qū)段的形狀，該圓的中心點與標靶縱向軸線14對齊，并且第二末端邊緣122的圓形區(qū)段的半徑可大于第一末端邊緣120的圓形區(qū)段的半徑。
[0044]仍參見圖4A，延伸部114可具有適于容納標靶(例如，第一標靶32a)的一部分的多個狹槽126，每個狹槽126提供用于標靶的運動的預定路徑。多個狹槽126可包括任何數(shù)目的狹槽，例如第一狹槽128a、第二狹槽128b、第三狹槽128c和第四狹槽128d。例如，第一狹槽128a可容納第一標靶32a，第二狹槽128b可容納第二標靶32b，第三狹槽128c可容納第三標靶32c，第四狹槽128d可容納第四標靶32d。每個狹槽128a、128b、128c和128d可具有彎曲的中心線130a、130b、130c和130d，這些中心線具有圓的區(qū)段的形狀，該圓的中心點與標靶縱向軸線14對齊。
[0045]每個狹槽126可具有任何適當?shù)拈L度和寬度來提供用于相應的標靶的運動預定路徑。例如，第一狹槽128a可從鄰近于第一橫向邊緣116的第一端延伸到鄰近將延伸部114平分的參考線131布置的第二端，并且第一狹槽128a可沿著具有比第一末端邊緣120的半徑更小的第一半徑的第一中心線130a延伸。第二狹槽128b可從鄰近于第一橫向邊緣116的第一端延伸到鄰近參考線131布置的第二端，并且第二狹槽128b可沿著具有比第一中心線130a的第一半徑更小的第二半徑的第二中心線130b延伸。第三狹槽128c可從鄰近于過渡邊緣124(和/或參考線131)的第一端延伸到鄰近于第二橫向邊緣118布置的第二端。第三狹槽128c可沿著具有大于第一中心線130a的第一半徑并且小于第二末端邊緣122的半徑的第三半徑的第三中心線130c延伸。第四狹槽128d可從鄰近于參考線131的第一端延伸到鄰近于第二橫向邊緣118布置的第二端。第四狹槽128d可沿著具有大于第二中心線130b的第二半徑但是小于第一中心線130a的第一半徑的第四半徑的第四中心線130d延伸。延伸部114還可包括表面標記，其輔助將第一標靶32a(或任何標靶)定位于延伸部114上的理想位置，該表面標記可以是從標靶縱向軸線14向外徑向延伸的多條線。延伸部114可以由任何適當?shù)牟牧现瞥?，例如非磁性材料、非鐵材料和/或當暴露于外部磁場時其中不會感應出顯著磁場的任何材料(例如，塑料或鋁)。
[0046]如圖4A和4B中所示，閥標靶組件10可包括至少一個標靶，例如第一標靶32a。第一標靶32a可具有任何適當?shù)某叽绾托螤?，或者可由任何適當?shù)牟牧现瞥?，以允許當其至少部分位于第一探測部件28a的第一探測范圍102a以內(nèi)時通過第一探測部件28a來探測。例如，第一標靶32a可包括上部分132和下部分134，中間部分136可從上部分132的底部延伸到下部分134的頂部。中間部分136的尺寸被設(shè)計成裝配到一個或多個狹槽126中，例如，第一狹槽128a。下部分134可具有圓柱形形狀并可由鐵材料的磁性材料制成。上部分132可具有圓柱形形狀，其適于由技術(shù)人員抓持以例如沿著第一狹槽128a相對于標靶支架30來移動第一標靶32a。第一標靶32a可包括鎖定裝置(例如，螺紋鎖定件)，其將第一標靶32a可釋放地固定到標靶支架30的延伸部114。
[0047]在操作中，技術(shù)人員可最初將第一標靶32a布置到延伸部114上，使得當標靶軸12位于第一軸位置時，第一標靶32a布置在第一探測范圍102以內(nèi)。例如，第一軸位置可對應于流動控制元件20的關(guān)閉位置。技術(shù)人員可最初將第二標靶32b布置到延伸部114上，使得當標靶軸12位于與第一軸位置旋轉(zhuǎn)偏離的第二軸位置上時，第二標靶32b位于第二探測范圍102b以內(nèi)。在第二軸位置上，第一標靶32a可布置在第一探測范圍102a以外。例如，第二軸位置可對應于流動控制元件20的第一部分打開位置。技術(shù)人員可最初將第三標靶32c布置在延伸部114上，使得當標靶軸12位于與第一軸位置和第二軸位置旋轉(zhuǎn)偏離的第三軸位置上時，第三標靶32c布置在第三探測范圍102c以內(nèi)。在第三軸位置上，第一標靶32a可布置在第一探測范圍102a以外，并且第二標靶32b可布置在第二探測范圍102b以夕卜。例如，第三軸位置可對應于流動控制元件20的第二部分打開位置。技術(shù)人員可最初將第四標靶32d布置在延伸部114上，使得當標靶軸12位于與第一軸位置、第二軸位置和第三軸位置旋轉(zhuǎn)偏離的第四軸位置上時，第四標靶32d位于第四探測范圍102d以內(nèi)。在第四軸位置上，第一標靶32a、第二標靶32b和第三標靶32c可分別布置在第一探測范圍102a、第二探測范圍102b和第三探測范圍102c以外。例如，第四軸位置可對應于流動控制元件20的完全打開位置。
[0048]為了重置第一標靶32a、第二標靶32b、第三標靶32c和第四標靶32d，技術(shù)人員可首先分開鎖定裝置(如果需要)并在延伸部114上沿著各自的狹槽128a-128d將標靶滑動到所需的位置。該操作需要用來對準第一標靶32a、第二標靶32b、第三標靶32c、第四標靶32d和不同的探測部件(例如，第五探測部件28e，未示出)，以指示例如對應于流動控制元件20的第三部分打開位置的第五軸位置。如此布置，技術(shù)人員可重置部分或所有的第一標靶32a、第二標靶32b、第三標靶32c和第四標靶32d，而不需要打開外殼22，由此將維護時間最小化，并且減小了外殼在再組裝時不會適當密封的可能性。
[0049]盡管上面已經(jīng)描述了不同的實施例，但是本公開并不限于此。對于公開的實施例可進行不同的變形，這些變形都落入所附權(quán)利要求的保護范圍以內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.閥標靶組件，其適用于控制閥組件，其特征在于，所述閥標靶組件包括: 標靶軸，其沿著標靶縱向軸線延伸，所述標靶軸具有第一端和縱向上相對的第二端，其中所述標靶軸的所述第一端適于耦接到閥軸，所述閥軸被耦接到流動控制元件； 外殼，其具有協(xié)作來限定密封的內(nèi)部的多個壁，其中所述標靶軸的一部分布置在所述外殼的所述內(nèi)部中； 第一探測部件，其布置在所述外殼的所述內(nèi)部中； 標靶支架，其被耦接到所述標靶軸，其中所述標靶支架布置在所述外殼的所述內(nèi)部以夕卜；以及 第一標靶，其被耦接到所述標靶支架， 其中，在第一軸位置上，所述第一標靶適于位于所述第一探測部件的探測范圍以內(nèi)，并且在與所述第一軸位置旋轉(zhuǎn)偏離的第二軸位置上，所述第一標靶適于位于所述第一探測部件的所述探測范圍以外。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的閥標靶組件，其特征在于，還包括: 第二探測部件，其布置在所述外殼的所述內(nèi)部中； 第二標靶，其可移除地耦接到所述標靶支架， 其中，在第三軸位置上，所述第二標靶適于位于所述第二探測部件的探測范圍以內(nèi)，并且在與所述第二軸位置旋轉(zhuǎn)偏離的第四軸位置上，所述第二標靶適于位于所述第二探測部件的探測范圍以外。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的閥標靶組件，其特征在于，所述第一軸位置與所述第三軸位置相同，并且所述第二軸位置與所述第四軸位置相同。4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的閥標靶組件，其特征在于，所述第一軸位置與所述第四軸位置相同，并且所述第二軸位置與所述第三軸位置相同。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的閥標靶組件，其特征在于，所述外殼的所述多個壁中的一個布置在所述第一探測部件和所述第一標靶之間。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的閥標靶組件，其特征在于，所述外殼的所述多個壁中的一個是非磁性的。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的閥標靶組件，其特征在于，所述第一標靶包括上部分和下部分，并且其中所述標靶支架的一部分布置在所述上部分和所述下部分之間。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的閥標靶組件，其特征在于，所述上部分和所述下部分中的至少一個包括磁體。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的閥標靶組件，其特征在于，所述標靶支架包括平坦的連接部。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的閥標靶組件，其特征在于，所述連接部包括第一調(diào)節(jié)狹槽，所述第一調(diào)節(jié)狹槽至少部分沿著具有沿著縱向軸線的中心點的圓形參考線延伸。11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的閥標靶組件，其特征在于，所述第一探測部件是磁力致動的接近開關(guān)。12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的閥標靶組件，其特征在于，所述標靶支架在所述標靶軸的所述第二端或者鄰近所述標靶軸的所述第二端被耦接到所述標靶軸。13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的閥標靶組件，其特征在于，所述第一標靶至少可移除地耦接到所述標靶支架或者可移位地耦接到所述標靶支架。14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的閥標靶組件，其特征在于，所述標靶縱向軸線與所述閥軸的縱向軸線同軸對齊。15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的閥標靶組件，其特征在于，所述閥軸具有第一端和第二端，所述閥軸的所述第一端被耦接到所述流動控制元件，并且所述閥軸的所述第二端與所述標靶軸的所述第二端一體地形成。16.控制閥組件，其特征在于，包括: 閥軸，其沿著縱向軸線延伸，所述閥軸具有第一端和縱向上相對的第二端； 流動控制元件，其耦接到所述閥軸的第一部分； 閥體，其具有入口、出口以及布置在所述入口和所述出口之間的閥座； 閥致動器，其被耦接到所述閥軸，所述閥致動器適于圍繞所述縱向軸線旋轉(zhuǎn)所述閥軸，使得所述流動控制元件從所述流動控制元件密封接合所述閥座的關(guān)閉位置旋轉(zhuǎn)到所述流動控制元件與所述閥座分離的打開位置； 外殼，其被耦接到所述閥體，所述外殼具有協(xié)作來限定密封的內(nèi)部的多個壁，其中所述閥軸的第二部分布置在所述外殼的所述內(nèi)部中； 第一探測部件，其布置在所述外殼的所述內(nèi)部中； 標靶支架，其被耦接到所述閥軸的第三部分，其中所述標靶支架布置在所述外殼的所述內(nèi)部以外；以及 第一標靶，其被耦接到所述標靶支架， 其中，在第一軸位置上，所述第一標靶適于位于所述第一探測部件的探測范圍以內(nèi)，并且在與所述第一軸位置旋轉(zhuǎn)偏離的第二軸位置上，所述第一標靶適于位于所述第一探測部件的所述探測范圍以外。17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的控制閥組件，其特征在于，所述第一軸位置對應于所述關(guān)閉位置，并且所述第二軸位置對應于所述打開位置。
【文檔編號】F16K31-02GK204267833SQ201420435960
【發(fā)明者】J·S·吉寧斯 [申請人]通用設(shè)備和制造公司