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一種機(jī)械密封沖洗裝置制造方法

文檔序號:5469803閱讀:186來源:國知局
一種機(jī)械密封沖洗裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種機(jī)械密封沖洗裝置,屬于機(jī)械密封領(lǐng)域?,F(xiàn)有的沖洗孔過大,使得機(jī)械密封內(nèi)部壓力過大,且分布不均勻,容易造成密封環(huán)等磨損過快。本實(shí)用新型所述的裝置包括泵端蓋,設(shè)在泵端蓋上的機(jī)械密封端蓋,設(shè)在機(jī)械密封端蓋上的機(jī)械密封沖洗孔和安裝在該機(jī)械密封沖洗孔內(nèi)的機(jī)械密封沖洗管,還包括安裝在所述機(jī)械密封沖洗孔內(nèi)的阻力件,所述的阻力件的軸向設(shè)有液體流通的孔道。采用本實(shí)用新型所述的機(jī)械密封沖洗裝置,可以減小機(jī)械密封沖洗流量和壓力,防止或減小因機(jī)械密封零件磨損、老化引起的泄漏,同時,能減小機(jī)械密封內(nèi)部壓力,使壓力分布變得均勻,延長設(shè)備使用壽命。
【專利說明】一種機(jī)械密封沖洗裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型屬于機(jī)械密封領(lǐng)域,具體涉及一種機(jī)械密封沖洗裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]機(jī)械密封是指由至少一對垂直于旋轉(zhuǎn)軸線的端面在流體壓力和補(bǔ)償機(jī)構(gòu)彈力(或磁力)的作用下以及輔助密封的配合下保持貼合并相對滑動而構(gòu)成的防止流體泄漏的裝置。而機(jī)械密封泄漏是泵類設(shè)備存在的普遍現(xiàn)象,泄漏原因也是多種多樣,分析原因比較困難,更換或檢修不但花費(fèi)大量資金、影響工作進(jìn)度,并且往往達(dá)不到理想效果。
[0003]典型的帶外沖洗管的泵用機(jī)械密封結(jié)構(gòu)中,高壓介質(zhì)由泵出口,經(jīng)外沖洗管、壓蓋上的沖洗孔至機(jī)械密封內(nèi)部冷卻并沖洗密封環(huán),再回到泵葉輪進(jìn)口低壓處。
[0004]機(jī)械密封生產(chǎn)企業(yè)為了確保密封環(huán)的冷卻,通常將沖洗孔設(shè)計(jì)的比較大,以保證有足夠的流量,通過計(jì)算機(jī)模擬計(jì)算和實(shí)踐驗(yàn)證,這樣做實(shí)際是不必要的,尤其是泵轉(zhuǎn)速不高或輸送常溫介質(zhì)時,較小的流量即可將動、靜環(huán)摩擦產(chǎn)生的熱量帶走。另外沖洗孔過大會使機(jī)械密封內(nèi)部壓力過大,且分布不均勻,容易造成密封環(huán)磨損過快,在泵組裝精度不夠高、泵運(yùn)轉(zhuǎn)振動較大或0型密封圈老化的情況下,容易造成機(jī)械密封泄漏。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0005]針對現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺陷,本實(shí)用新型的目的是提供一種機(jī)械密封沖洗裝置。該裝置能夠防止或減小因機(jī)械密封零件磨損、老化引起的泄漏,同時,能減小機(jī)械密封內(nèi)部壓力,使壓力分布變得均勻,延長設(shè)備使用壽命。
[0006]為達(dá)到以上目的,本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:一種機(jī)械密封沖洗裝置,包括泵端蓋,設(shè)在泵端蓋上的機(jī)械密封端蓋,設(shè)在機(jī)械密封端蓋上的機(jī)械密封沖洗孔和安裝在該機(jī)械密封沖洗孔內(nèi)的機(jī)械密封沖洗管,其特征在于:該裝置還包括安裝在所述機(jī)械密封沖洗孔內(nèi)的阻力件,所述的阻力件的軸向設(shè)有液體流通的孔道。
[0007]進(jìn)一步,所述的阻力件安裝在所述的機(jī)械密封沖洗孔的機(jī)械密封沖洗口處。
[0008]進(jìn)一步,所述的阻力件套在所述的機(jī)械密封沖洗管的下端,所述的機(jī)械密封沖洗管壓住所述的阻力件。
[0009]進(jìn)一步,所述的阻力件的尺寸根據(jù)機(jī)械密封沖洗孔的大小和所需沖洗流量改變。
[0010]進(jìn)一步,所述的阻力件套入沖洗管內(nèi)的部分為圓柱形,其外徑與沖洗管的內(nèi)徑相匹配。
[0011]本實(shí)用新型的效果在于:采用本實(shí)用新型所述的裝置,通過在機(jī)械密封沖洗口增加阻力件,減小機(jī)械密封沖洗流量和壓力,可以防止或減小因機(jī)械密封零件磨損、老化引起的泄漏,同時,能減小機(jī)械密封內(nèi)部壓力,使壓力分布變得均勻,改善了機(jī)械密封運(yùn)行條件,延長設(shè)備使用壽命。
【專利附圖】

【附圖說明】[0012]圖1是本實(shí)用新型【具體實(shí)施方式】中一種機(jī)械密封沖洗裝置的結(jié)構(gòu)圖;
[0013]其中:1泵端蓋;2機(jī)械密封沖洗管;3阻力件;4機(jī)械密封端蓋。
【具體實(shí)施方式】
[0014]下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對本實(shí)用新型作進(jìn)一步描述。
[0015]如圖1所示,本實(shí)用新型所述的一種機(jī)械密封沖洗裝置,包括泵端蓋1,設(shè)在泵端蓋I上的機(jī)械密封端蓋4,設(shè)在機(jī)械密封端蓋4上的機(jī)械密封沖洗孔和安裝在該機(jī)械密封沖洗孔內(nèi)的機(jī)械密封沖洗管2,該裝置還包括安裝在所述機(jī)械密封沖洗孔內(nèi)的阻力件3,所述的阻力件3的軸向設(shè)有液體流通的孔道。
[0016]其中,本實(shí)施方式中的機(jī)械密封沖洗裝置連接到泵用機(jī)械密封結(jié)構(gòu),泵用機(jī)械密封結(jié)構(gòu)上有一個機(jī)械密封端蓋4,機(jī)械密封沖洗孔位于機(jī)械密封端蓋4上,阻力件3和機(jī)械密封沖洗管2均安裝在機(jī)械密封沖洗孔內(nèi)。
[0017]優(yōu)選的,所述的阻力件3安裝在機(jī)械密封沖洗孔的機(jī)械密封沖洗口處,即機(jī)械密封沖洗孔的底部;所述的阻力件3套在所述的機(jī)械密封沖洗管2的下端,阻力件3套入沖洗管2內(nèi)的部分為圓柱形,其外徑與沖洗管2的內(nèi)徑相匹配。機(jī)械密封沖洗管壓住阻力件3 ;阻力件3的尺寸根據(jù)機(jī)械密封沖洗孔的大小和所需沖洗流量改變。
[0018]需要說明的是,本實(shí)用新型中所指的阻力件3可以是任何一種截流裝置,目的在于減小機(jī)械密封沖洗流量和壓力。
[0019]實(shí)際安裝時,首先將機(jī)械密封沖洗孔上的機(jī)械密封沖洗管2拆掉,然后將加工好的阻力件3放到機(jī)械密封沖洗孔內(nèi),再將機(jī)械密封沖洗管2裝回機(jī)械密封沖洗孔內(nèi),并壓住阻力件即可,I?2人30分鐘內(nèi)即可完成阻力件的安裝,阻力件3的尺寸和規(guī)格可根據(jù)機(jī)械密封沖洗孔的大小和所需沖洗流量改變。安裝完畢機(jī)械密封沖洗裝置運(yùn)行時,高壓介質(zhì)由泵出口,經(jīng)外沖洗管、端蓋上的機(jī)械密封沖洗孔至機(jī)械密封內(nèi)部冷卻并沖洗密封環(huán),再回到泵葉輪進(jìn)口低壓處。
[0020]通過本實(shí)施方式可以看出,采用本實(shí)用新型所述的裝置,通過在機(jī)械密封沖洗口增加阻力件,減小機(jī)械密封沖洗流量和壓力,可以防止或減小因機(jī)械密封零件磨損、老化引起的泄漏,同時,能減小機(jī)械密封內(nèi)部壓力,使壓力分布變得均勻,改善了機(jī)械密封運(yùn)行條件,延長設(shè)備使用壽命。
[0021]本實(shí)用新型所述的裝置并不限于【具體實(shí)施方式】中所述的實(shí)施例,本領(lǐng)域技術(shù)人員根據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)方案得出其他的實(shí)施方式,同樣屬于本實(shí)用新型的技術(shù)創(chuàng)新范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種機(jī)械密封沖洗裝置,包括泵端蓋(1),設(shè)在泵端蓋(1)上的機(jī)械密封端蓋(4),設(shè)在機(jī)械密封端蓋(4)上的機(jī)械密封沖洗孔和安裝在該機(jī)械密封沖洗孔內(nèi)的機(jī)械密封沖洗管(2),其特征在于:該裝置還包括安裝在所述機(jī)械密封沖洗孔內(nèi)的阻力件(3),所述的阻力件(3)的軸向設(shè)有液體流通的孔道。
2.如權(quán)利要求1所述的一種機(jī)械密封沖洗裝置,其特征在于:所述的阻力件(3)安裝在所述的機(jī)械密封沖洗孔的機(jī)械密封沖洗口處。
3.如權(quán)利要求1或2所述的一種機(jī)械密封沖洗裝置,其特征在于:阻力件(3)套在所述的機(jī)械密封沖洗管(2)的下端,所述的機(jī)械密封沖洗管(2)壓住所述的阻力件(3)
4.如權(quán)利要求3所述的一種機(jī)械密封沖洗裝置,其特征在于:所述的阻力件(3)的尺寸根據(jù)機(jī)械密封沖洗孔的大小和所需沖洗流量改變。
5.如權(quán)利要求3所述的一種機(jī)械密封沖洗裝置,其特征在于:所述的阻力件(3)套入沖洗管(2)內(nèi)的部分為圓柱形,其外徑與沖洗管(2)的內(nèi)徑相匹配。
【文檔編號】F04D29/70GK203627336SQ201320660175
【公開日】2014年6月4日 申請日期:2013年10月24日 優(yōu)先權(quán)日:2013年10月24日
【發(fā)明者】寧波, 王殿清, 黃秀寬, 李圖林, 張立軍, 楊彤 申請人:中國原子能科學(xué)研究院
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