專(zhuān)利名稱：電鍍掛架的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種電鍍掛架，特別是涉及一種可改善電鍍均一性的 電鍍掛架。
背景技術(shù)：
在工業(yè)上，電鍍是一種常見(jiàn)的表面處理方法，其可在物件的表面上沉積金屬鍍層，以改變物件的表面性質(zhì)或尺寸，例如提供金屬光澤美觀、防 銹性、防磨耗、提高導(dǎo)電度、潤(rùn)滑性、強(qiáng)度、耐熱性、耐候性、熱處理的 防止?jié)B碳、氮化、尺寸錯(cuò)誤或磨耗的另件的修補(bǔ)等。以高爾夫球桿頭的表面電鍍處理為例，現(xiàn)有高爾夫球桿頭為提升高爾 夫桿頭的美觀、防銹性及耐蝕性，通常需利用電鍍或無(wú)電解電鍍(Electroless Plating)方式在高爾夫桿頭的表面形成一鍍層，以避免高爾夫桿頭發(fā)生生銹 或腐蝕的缺陷，并增加高爾夫桿頭的美觀。當(dāng)進(jìn)行電鍍時(shí)，高爾夫球桿頭預(yù) 先插置于一電鍍掛架上，電鍍掛架再掛置于一電鍍槽內(nèi)來(lái)進(jìn)行電鍍。然而，當(dāng)鍍件(例如高爾夫桿頭)進(jìn)行電鍍時(shí)，容易發(fā)生鍍件的鍍層均 一性不佳的問(wèn)題，亦即鍍層厚度分布不均勻。例如高爾夫桿頭可能容易在 管柄處具較厚的鍍層，其主要因在進(jìn)行電鍍時(shí)高爾夫桿頭的管柄處具有較 高的電流密度，導(dǎo)致鍍件(高爾夫桿頭)的整體鍍層厚度分布不均，因而影 響電4度品質(zhì)。由此可見(jiàn)，上述現(xiàn)有的電鍍掛架在結(jié)構(gòu)與使用上，顯然仍存在有不便 與缺陷，而亟待加以進(jìn)一步改進(jìn)。為了解決上述存在的問(wèn)題,相關(guān)廠商莫不 費(fèi)盡心思來(lái)謀求解決之道，但長(zhǎng)久以來(lái)一直未見(jiàn)適用的設(shè)計(jì)被發(fā)展完成，而 一般產(chǎn)品又沒(méi)有適切的結(jié)構(gòu)能夠解決上述問(wèn)題，此顯然是相關(guān)業(yè)者急欲解 決的問(wèn)題。因此如何能創(chuàng)設(shè)一種新型的電鍍掛架，實(shí)屬當(dāng)前重要研發(fā)課題之 一，亦成為當(dāng)前業(yè)界極需改進(jìn)的目標(biāo)。有鑒于上述現(xiàn)有的電鍍掛架存在的缺陷，本設(shè)計(jì)人基于從事此類(lèi)產(chǎn)品 設(shè)計(jì)制造多年豐富的實(shí)務(wù)經(jīng)驗(yàn)及專(zhuān)業(yè)知識(shí)，并配合學(xué)理的運(yùn)用，積極加以研 究創(chuàng)新，以期創(chuàng)設(shè)一種新型的電鍍掛架，能夠改進(jìn)一般現(xiàn)有的電鍍掛架，使 其更具有實(shí)用性。經(jīng)過(guò)不斷的研究、設(shè)計(jì)，并經(jīng)過(guò)反復(fù)試作樣品及改進(jìn)后， 終于創(chuàng)設(shè)出確具實(shí)用價(jià)值的本實(shí)用新型。發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于，克服現(xiàn)有的電鍍掛架存在的缺陷，而提供一 種新型的電鍍掛架，所要解決的技術(shù)問(wèn)題是使其可形成均流結(jié)構(gòu)，借以改 善電鍍均一性和確保電鍍品質(zhì)，非常適于實(shí)用。本實(shí)用新型的目的及解決其技術(shù)問(wèn)題是采用以下的技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn) 的。為達(dá)到上述目的，依據(jù)本實(shí)用新型的電鍍掛架，用以承載至少一鍍件于一電鍍槽內(nèi)來(lái)進(jìn)行電鍍，該電鍍掛架至少包含 一主體，設(shè)有一掛鉤， 以掛置于該電鍍槽內(nèi)，并允許導(dǎo)入電流；至少一支承部，設(shè)置于該主體上， 用以承置該鍍件，并允許電流由該支承部導(dǎo)入該鍍件；以及至少一均流結(jié) 構(gòu)，形成于該支承部的至少一側(cè)，用以在進(jìn)行電鍍時(shí)改變?cè)撝С胁康闹車(chē)?的電流密度。前述的電鍍掛架，其中所述的電鍍掛架還至少包含 一絕緣層，形成 該主體的表面，其中該絕緣層是以塑膠材料、橡皮或蠟所形成。前述的電鍍掛架，其中該主體為直脊骨型、混合脊骨型、箱型或T型 主體。前述的電鍍掛架，其中該主體還設(shè)有二均流件，其分別設(shè)置于該主體 的上、下兩側(cè)，以均勻該電鍍槽內(nèi)的上、下側(cè)的電流密度。 前述的電鍍桂架，其中該支承部由二倒勾結(jié)構(gòu)所組成。 前述的電鍍掛架，其中該支承部與該主體之間具有 一預(yù)設(shè)角度。 前述的電鍍掛架，其中該鍍件為至少一高爾夫球桿頭。 前述的電鍍掛架，其中該均流結(jié)構(gòu)為至少一環(huán)狀結(jié)構(gòu)，其套置于該支 承部上。前述的電鍍桂架，其中該均流結(jié)構(gòu)為至少一棒狀結(jié)構(gòu)，其由該主體延 伸出，并平行于該支承部。前述的電鍍掛架，其中該均流結(jié)構(gòu)設(shè)置于該支承部上，并由該支承部 延伸出。前述的電鍍掛架，其中該均流結(jié)構(gòu)由二半圓環(huán)狀結(jié)構(gòu)所組成。 前述的電鍍掛架，其中該均流結(jié)構(gòu)是一弧形片狀結(jié)構(gòu)，其平行于該支 承部，并形成于該支承部的至少一側(cè)。前述的電鍍掛架，其中該均流結(jié)構(gòu)是一螺旋結(jié)構(gòu)，其套置于該支承部上。本實(shí)用新型的目的及解決其技術(shù)問(wèn)題還采用以下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)。為 達(dá)到上述目的，依據(jù)本實(shí)用新型的電鍍掛架，用以承載至少一高爾夫球桿 頭于一電鍍槽內(nèi)來(lái)進(jìn)行電鍍，其中該電鍍掛架至少包含 一主體，設(shè)有一 掛鉤，以掛置于該電鍍槽內(nèi)，并允許導(dǎo)入電流；至少一支承部，設(shè)置于該主體 上，用以供該高爾夫球桿頭的一管柄來(lái)套置，并允許電流由該支承部導(dǎo)入 該高爾夫球桿頭；以及至少一均流結(jié)構(gòu)，形成于該支承部的至少一側(cè)，用以在進(jìn)行電鍍時(shí)改變?cè)撝С胁康闹車(chē)碾娏髅芏取１緦?shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有明顯的優(yōu)點(diǎn)和有益效果。借由上述技 術(shù)方案，本實(shí)用新型電鍍掛架至少具有下列優(yōu)點(diǎn)及有益效果根據(jù)本新型的實(shí)施例，此電鍍掛架用以承載至少 一鍍件于電鍍槽內(nèi)來(lái)進(jìn)行電鍍，其中電鍍掛架至少包含有主體、支承部及均流結(jié)構(gòu)。主體設(shè)有 掛鉤，以掛置于電鍍槽內(nèi)，并允許導(dǎo)入電流。支承部設(shè)置于主體上，用以 承置鍍件，并允許電流由支承部導(dǎo)入鍍件。均流結(jié)構(gòu)形成于支承部的至少 一側(cè)，用以在進(jìn)行電鍍時(shí)改變支承部的周?chē)碾娏髅芏?。又，根?jù)本新型 的實(shí)施例，上述鍍件為至少一高爾夫球桿頭。因此，本新型的電鍍掛架可 形成均流結(jié)構(gòu)來(lái)改善電鍍均一性，確保電鍍品質(zhì)。上述說(shuō)明僅是本實(shí)用新型技術(shù)方案的概述，為能更清楚了解本實(shí)用新 型的技術(shù)手段，而可依照說(shuō)明書(shū)的內(nèi)容予以實(shí)施，并且為讓本實(shí)用新型的 上述和其他目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實(shí)施例，并配 合附圖，詳細(xì)說(shuō)明如下。


圖1繪示依照本新型的第一實(shí)施例的電鍍掛架在電鍍槽內(nèi)的剖面示意圖。圖2A和圖2B繪示依照本新型的第一實(shí)施例的電鍍掛架的局部剖面示 意圖。圖3繪示依照本新型的第二實(shí)施例的電鍍掛架的局部側(cè)面示意圖。 圖4A和圖4B繪示依照本新型的第三實(shí)施例的電鍍掛架的局部剖面示 意圖。圖5繪示依照本新型的第三實(shí)施例的電鍍掛架的局部側(cè)視示意圖。 圖6繪示依照本新型的第四實(shí)施例的電鍍掛架的局部側(cè)面示意圖。 圖7繪示依照本新型的第五實(shí)施例的電鍍掛架的局部側(cè)面示意圖。主要元件符號(hào)說(shuō)明101:導(dǎo)電棒 100:電鍍桂架 110:主體 111:掛鉤 112:均流件 113:提把 120:支承部130、 130a、 130b、 130c、 130d:均流結(jié)構(gòu)210:管柄300:電鍍槽具體實(shí)施方式
為更進(jìn)一步闡述本實(shí)用新型為達(dá)成預(yù)定發(fā)明目的所采取的技術(shù)手段及 功效，
以下結(jié)合附圖及較佳實(shí)施例，對(duì)依據(jù)本實(shí)用新型提出的電鍍掛架其具 體實(shí)施方式、結(jié)構(gòu)、特征及其功效，詳細(xì)說(shuō)明如后。請(qǐng)參照?qǐng)Dl至圖2B,圖l繪示本新型的第一實(shí)施例的電鍍掛架在電鍍槽 內(nèi)的剖面示意圖，圖2A和圖2B繪示本新型的第一實(shí)施例的電鍍掛架的局部 剖面示意圖。本實(shí)施例的電鍍桂架100用以承載至少一鍍件200于電鍍槽 300內(nèi)來(lái)進(jìn)行電鍍，以形成一鍍層于鍍件200的表面上。電鍍掛架100較佳 可同時(shí)承載多個(gè)鍍件200來(lái)進(jìn)行電鍍，以提升電鍍效率。電鍍掛架100至少 包含有主體110、至少一支承部120、至少一均流結(jié)構(gòu)130及絕緣層140。 支承部120設(shè)置于主體110上，以承置鍍件200。均流結(jié)構(gòu)130形成于支承 部120的至少一側(cè)，用以在進(jìn)行電鍍時(shí)改變支承部120的周?chē)碾娏髅芏龋?借以均勻化鍍件200的鍍層的厚度，提升電鍍均一性。絕緣層140較佳是以 電性絕緣材料(例如塑膠、橡皮或蠟)所形成，并形成于非預(yù)設(shè)電鍍處，例 如主體110的表面或部分均流結(jié)構(gòu)130的表面，以避免鍍層形成于非鍍 件200的表面，避免耗費(fèi)鍍層的材料。如圖1所示，本實(shí)施例的主體110可例如為直脊骨型、混合脊骨型、箱 型或T型主體。在本實(shí)施例中，電鍍掛架IOO是以T型主體來(lái)舉例說(shuō)明，然 不限于此。主體110較佳是導(dǎo)電材料所制成，例如銅、鋼、鉛、鎳或其 合金，以傳導(dǎo)電流至鍍件200。主體IIO設(shè)有掛鉤111、 二均流件1U及提 把113，掛鉤111用以掛置電鍍掛架100于一導(dǎo)電棒101上，而導(dǎo)電棒IOI電 性連接于電源(未繪示)，以提供電流。二均流件112分別設(shè)置于主體110的 上、下兩側(cè)，借以當(dāng)電鍍掛架IOO掛置于于電鍍槽300內(nèi)來(lái)進(jìn)行電鍍時(shí)，均 流件112可均勻電鍍掛架100的上下電流密度，提升電鍍掛架100的電鍍 均一性。其中導(dǎo)電棒101可電性連接電源的負(fù)極，而一待電鍍的材料(亦即 電鍍鍍層的材料)電性連接電源的正極，以進(jìn)行電化學(xué)反應(yīng)，而電鍍于鍍件 200的表面上。提把113設(shè)置于電鍍掛架100的上方，借以供握持，因而可 方便掛置或提起電鍍掛架100。如圖2A和圖2B所示，本實(shí)施例的支承部120連接于主體110,且較佳 是導(dǎo)電金屬材料所制成，以承置鍍件200,并傳導(dǎo)電流至鍍件200。在本實(shí) 施例中，支承部120是由二倒勾結(jié)構(gòu)所組成，借以供鍍件200來(lái)套置，并彈性抵撐鍍件200，以穩(wěn)固地支持鍍件200于電鍍掛架IOO上。支承部120 較佳是與主體IIO之間具有一預(yù)設(shè)角度，借以在電鍍時(shí)方便氣泡逸出。如圖2A和圖2B所示，本實(shí)施例的均流結(jié)構(gòu)130較佳是導(dǎo)電金屬材料 所制成，借以在電鍍時(shí)改變支承部120的周?chē)碾娏髅芏?，進(jìn)而均勻化鍍 件200所電鍍的鍍層厚度。在本實(shí)施例中，均流結(jié)構(gòu)130可為至少一環(huán)狀 結(jié)構(gòu)，其套置于支承部120上。因此，當(dāng)進(jìn)行電鍍時(shí)，鍍件200可承置于 電鍍掛架100的支承部120上，而掛置于電鍍槽300內(nèi)來(lái)進(jìn)行電鍍，并借 由支承部120周?chē)木鹘Y(jié)構(gòu)130來(lái)均勻化鍍件200所鍍上的鍍層厚度。以電鍍高爾夫球桿頭為例，鍍件200為至少一高爾夫球桿頭，高爾夫 球桿頭的管柄210可套置電鍍掛架100的支承部120上，此時(shí)，由于支承 部120周?chē)纬捎芯鹘Y(jié)構(gòu)130,因而可在進(jìn)行電鍍時(shí)改變支承部120的周 圍的電流密度，并均勻化高爾夫球桿頭(鍍件200)所鍍上的鍍層厚度，以確 保電鍍品質(zhì)和均一性。因此，本實(shí)施例的電鍍掛架IOO可承載鍍件200,并桂置于電鍍槽300 內(nèi)來(lái)進(jìn)行電鍍，且借由均流結(jié)構(gòu)130來(lái)改善電鍍均一性，以確保電鍍品質(zhì)。請(qǐng)參照?qǐng)D3,其繪示依照本新型的第二實(shí)施例的電鍍掛架的局部側(cè)面示 意圖。以下僅就本實(shí)施例與第一實(shí)施例的相異處進(jìn)行說(shuō)明，關(guān)于相似處在 此不再贅述。相較于第一實(shí)施例，第二實(shí)施例的均流結(jié)構(gòu)130a可為至少一 棒狀結(jié)構(gòu)，其可由主體110延伸出，并平行于支承部120,因而形成均流結(jié) 構(gòu)130a于支承部120的至少一側(cè)，以改變支承部120的周?chē)碾娏髅芏?，?勻化鍍件200的鍍層厚度。請(qǐng)參照?qǐng)D4A至圖5,圖4A和圖4B繪示依照本新型的第三實(shí)施例的電 鍍桂架的局部剖面示意圖，圖5繪示依照本新型的第三實(shí)施例的電鍍掛架的 局部側(cè)視示意圖。以下僅就本實(shí)施例與第 一 實(shí)施例或第二實(shí)施例的相異處 進(jìn)行說(shuō)明，關(guān)于相似處在此不再贅述。相較于第一實(shí)施例或第二實(shí)施例，第 三實(shí)施例的均流結(jié)構(gòu)130b設(shè)置于支承部120上(例如圖4A的環(huán)狀結(jié)構(gòu)或圖 4B的棒狀結(jié)構(gòu))，均流結(jié)構(gòu)130b可由支承部120延伸出，并形成于支承部 120的至少一側(cè)。當(dāng)均流結(jié)構(gòu)130b例如為環(huán)狀結(jié)構(gòu)時(shí)，均流結(jié)構(gòu)130b例如 可以由二半圓環(huán)狀結(jié)構(gòu)所組成(如圖5所示)。請(qǐng)參照?qǐng)D6，其繪示依照本新型的第四實(shí)施例的電鍍掛架的局部側(cè)面示 意圖。以下僅就本實(shí)施例與第一實(shí)施例的相異處進(jìn)行說(shuō)明，關(guān)于相似處在此不再贅述。相較于第一實(shí)施例，第四實(shí)施例的均流結(jié)構(gòu)noc可為弧形片狀結(jié)構(gòu)，例如由金屬薄片所制成，金屬薄片較佳設(shè)有多個(gè)孔，其平行于支 承部120，并形成于支承部120的至少一側(cè)，以改變支承部120的周?chē)碾?流密度，均勾化鍍件200的鍍層厚度。請(qǐng)參照?qǐng)D7，其繪示依照本新型的第五實(shí)施例的電鍍掛架的局部側(cè)面示意圖。以下僅就本實(shí)施例與第一實(shí)施例的相異處進(jìn)行說(shuō)明，關(guān)于相似處在 此不再贅述。相較于第一實(shí)施例，第五實(shí)施例的均流結(jié)構(gòu)130d可為一螺旋 結(jié)構(gòu)，其套置于支承部120上，因而環(huán)設(shè)于支承部120的周?chē)?，以改變?承部120的周?chē)碾娏髅芏?，均勻化鍍?00的鍍層厚度。由上述本實(shí)用新型的實(shí)施例可知，本實(shí)用新型的電鍍掛架可借由形成 均流結(jié)構(gòu)來(lái)改善電鍍均一性，以確保電鍍品質(zhì)。以上所述，僅是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并非對(duì)本實(shí)用新型作 任何形式上的限制，雖然本實(shí)用新型已以較佳實(shí)施例揭露如上，然而并非 用以限定本實(shí)用新型，任何熟悉本專(zhuān)業(yè)的技術(shù)人員，在不脫離本實(shí)用新型 技術(shù)方案范圍內(nèi)，當(dāng)可利用上述揭示的結(jié)構(gòu)及技術(shù)內(nèi)容作出些許的更動(dòng)或 修飾為等同變化的等效實(shí)施例，但是凡是未脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的內(nèi)化與修飾，^均仍屬于本實(shí)用1斤型技術(shù)^:的范圍內(nèi)、?？? ' 權(quán)利要求1.一種電鍍掛架，用以承載至少一鍍件于一電鍍槽內(nèi)來(lái)進(jìn)行電鍍，其特征在于該電鍍掛架至少包含一主體，設(shè)有一掛鉤，以掛置于該電鍍槽內(nèi)，并允許導(dǎo)入電流；至少一支承部，設(shè)置于該主體上，用以承置該鍍件，并允許電流由該支承部導(dǎo)入該鍍件；以及至少一均流結(jié)構(gòu)，形成于該支承部的至少一側(cè)，用以在進(jìn)行電鍍時(shí)改變?cè)撝С胁康闹車(chē)碾娏髅芏取?br> 2. 如權(quán)利要求1所述的電鍍掛架，其特征在于所述的電鍍掛架還至 少包含 一絕緣層，形成該主體的表面，其中該絕緣層是以塑膠材料、橡 皮或蠟所形成。
3. 如權(quán)利要求1所述的電鍍掛架，其特征在于其中該主體為直脊骨 型、混合脊骨型、箱型或T型主體。
4. 如權(quán)利要求1所述的電鍍掛架，其特征在于其中該主體還設(shè)有二 均流件，其分別設(shè)置于該主體的上、下兩側(cè)，以均勻該電鍍槽內(nèi)的上、下 側(cè)的電流密度。
5. 如權(quán)利要求1所述的電鍍掛架，其特征在于其中該支承部由二倒 勾結(jié)構(gòu)所組成。
6. 如權(quán)利要求1所述的電鍍掛架，其特征在于其中該支承部與該主 體之間具有一預(yù)設(shè)角度。
7. 如權(quán)利要求1所述的電鍍桂架，其特征在于其中該鍍件為至少一高爾夫球桿頭。
8. 如權(quán)利要求1所述的電鍍掛架，其特征在于其中該均流結(jié)構(gòu)為至 少一環(huán)狀結(jié)構(gòu)，其套置于該支承部上。
9. 如權(quán)利要求1所述的電鍍掛架，其特征在于其中該均流結(jié)構(gòu)為至 少一棒狀結(jié)構(gòu)，其由該主體延伸出，并平行于該支承部。
10. 如權(quán)利要求1所述的電鍍掛架，其特征在于其中該均流結(jié)構(gòu)設(shè) 置于該支承部上，并由該支承部延伸出。
11. 如權(quán)利要求1所述的電鍍掛架，其特征在于其中該均流結(jié)構(gòu)由 二半圓環(huán)狀結(jié)構(gòu)所組成。
12. 如權(quán)利要求1所述的電鍍掛架，其特征在于其中該均流結(jié)構(gòu)是 一弧形片狀結(jié)構(gòu)，其平行于該支承部，并形成于該支承部的至少一側(cè)。
13. 如權(quán)利要求1所述的電鍍掛架，其特征在于其中該均流結(jié)構(gòu)是 一螺旋結(jié)構(gòu)，其套置于該支承部上。
14. 一種電鍍掛架，用以承載至少一高爾夫球桿頭于一電鍍槽內(nèi)來(lái)進(jìn)行電鍍，其特征在于其中該電鍍掛架至少包含一主體，設(shè)有一掛鉤，以掛置于該電鍍槽內(nèi)，并允許導(dǎo)入電流； 至少一支承部，設(shè)置于該主體上，用以供該高爾夫球桿頭的一管柄來(lái)套置，并允許電流由該支承部導(dǎo)入該高爾夫球桿頭；以及至少一均流結(jié)構(gòu)，形成于該支承部的至少一側(cè)，用以在進(jìn)行電鍍時(shí)改變?cè)撝С胁康闹車(chē)碾娏髅芏取?br> 專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型是有關(guān)于一種電鍍掛架，用以承載至少一鍍件于電鍍槽內(nèi)來(lái)進(jìn)行電鍍。此電鍍掛架至少包含有主體、支承部及均流結(jié)構(gòu)。主體用以掛置于電鍍槽內(nèi)，并允許導(dǎo)入電流。支承部設(shè)置于主體上，用以承置鍍件，并允許電流由支承部導(dǎo)入鍍件。均流結(jié)構(gòu)形成于支承部的至少一側(cè)，用以在進(jìn)行電鍍時(shí)改變支承部的周?chē)碾娏髅芏取１緦?shí)用新型的電鍍掛架可形成均流結(jié)構(gòu)來(lái)改善電鍍均一性，確保電鍍品質(zhì)。
文檔編號(hào)C25D17/08GK201169648SQ200820001860
公開(kāi)日2008年12月24日 申請(qǐng)日期2008年1月21日 優(yōu)先權(quán)日2008年1月21日
發(fā)明者曾永富 申請(qǐng)人:楠盛股份有限公司;復(fù)盛股份有限公司