帶有除鐵離子裝置的漏斗的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種帶有除鐵離子裝置的漏斗，屬于化工設(shè)備領(lǐng)域，解決了現(xiàn)有技術(shù)中大量鐵離子無法被吸收，導(dǎo)致產(chǎn)品純度不高的問題。主要包括進(jìn)料口、漏斗斗體、出料口，所述漏斗斗體內(nèi)設(shè)有若干除鐵離子裝置，所述除鐵離子裝置包括方框支架，方框支架上設(shè)有若干并列排放的磁棒套，每個(gè)磁棒套內(nèi)設(shè)有磁棒。本實(shí)用新型鐵離子吸收充分，產(chǎn)品的純度大幅度提高，本實(shí)用新型適用范圍廣，可廣泛用于需要除鐵離子的化工場所。
【專利說明】帶有除鐵離子裝置的漏斗
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型屬于化工設(shè)備領(lǐng)域，具體地說，尤其涉及一種帶有除鐵離子裝置的漏斗。
【背景技術(shù)】
[0002]傳統(tǒng)除鐵離子漏斗是將磁棒豎立著設(shè)置在漏斗內(nèi)，但這種設(shè)置方式溶劑與磁棒的接觸面積比較小，去除鐵離子不充分，尤其是當(dāng)物料下料比較快的時(shí)候，大量鐵離子無法被吸收，鐵離子的混入，導(dǎo)致產(chǎn)品純度不高。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型公開了一種帶有除鐵離子裝置的漏斗，用于解決現(xiàn)有技術(shù)中大量鐵離子無法被吸收，導(dǎo)致產(chǎn)品純度不高的問題。
[0004]本實(shí)用新型是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:
[0005]帶有除鐵離子裝置的漏斗，包括進(jìn)料口、漏斗斗體、出料口，所述漏斗斗體內(nèi)設(shè)有若干除鐵離子裝置，所述除鐵離子裝置包括方框支架，方框支架上設(shè)有若干并列排放的磁棒套，每個(gè)磁棒套內(nèi)設(shè)有磁棒。
[0006]所述除鐵離子裝置的數(shù)量最佳值為兩個(gè)，分別為除鐵離子裝置甲和除鐵離子裝置乙。
[0007]所述磁棒套與方框支架采用電焊接連接。
[0008]所述磁棒套一端封閉，另一端開放。
[0009]所述除鐵離子裝置甲和除鐵離子裝置乙在不同的平面呈90°交叉放置。
[0010]所述除鐵離子裝置甲上磁棒套的數(shù)量最佳值為12。
[0011]所述除鐵離子裝置乙上磁棒套的數(shù)量最佳值為9。
[0012]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是:
[0013]1、本實(shí)用新型鐵離子吸收充分，產(chǎn)品的純度大幅度提高；
[0014]2、本實(shí)用新型構(gòu)思巧妙，制造成本低，結(jié)構(gòu)簡單，只需在傳統(tǒng)除鐵離子漏斗的基礎(chǔ)上略加改動(dòng)即可；
[0015]3、本實(shí)用新型適用范圍廣，可廣泛用于需要除鐵離子的化工場所。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0016]圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0017]圖2是除鐵離子裝置示意圖。
[0018]圖中:1、進(jìn)料口 ；2、漏斗斗體；3、出料口 ；4、方框支架；5、磁棒套；6、除鐵離子裝
置甲；7、除鐵離子裝置乙；8、磁棒。
【具體實(shí)施方式】[0019]下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步說明:
[0020]帶有除鐵離子裝置的漏斗，包括進(jìn)料口 1、漏斗斗體2、出料口 3，所述漏斗斗體2內(nèi)設(shè)有若干除鐵離子裝置，所述除鐵離子裝置包括方框支架4，方框支架4上設(shè)有若干并列排放的磁棒套5，每個(gè)磁棒套5內(nèi)設(shè)有磁棒8。
[0021]所述除鐵離子裝置的數(shù)量最佳值為兩個(gè)，分別為除鐵離子裝置甲6和除鐵離子裝置乙7。
[0022]所述磁棒套5與方框支架4采用電焊接連接。
[0023]所述磁棒套5 —端封閉，另一端開放。
[0024]所述除鐵離子裝置甲6和除鐵離子裝置乙7在不同的平面呈90°交叉放置。
[0025]所述除鐵離子裝置甲6上磁棒套5的數(shù)量最佳值為12。
[0026]所述除鐵離子裝置乙7上磁棒套5的數(shù)量最佳值為9。
[0027]帶有鐵離子的溶劑從進(jìn)料口 1進(jìn)入本裝置，經(jīng)過除鐵離子裝置甲6和除鐵離子裝置乙7的吸附，溶劑中的鐵離子基本被吸收，尤其是實(shí)用新型的兩個(gè)除鐵離子裝置甲6和除鐵離子裝置乙7是呈90°交叉放置的，吸收效果更明顯。吸收完的溶劑從出料口 3落下。當(dāng)磁棒套上吸滿鐵離子后，取出除鐵離子裝置甲6和除鐵離子裝置乙7，再取出里面的磁棒，鐵離子脫磁后自然下落。
[0028]上述，僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并非用來限定本實(shí)用新型實(shí)施的范圍，凡依本實(shí)用新型權(quán)利要求范圍所述的形態(tài)、構(gòu)造、特征所為的均等變化與修飾，均應(yīng)包括于本實(shí)用新型的權(quán)利要求范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種帶有除鐵離子裝置的漏斗，包括進(jìn)料口(1)、漏斗斗體(2)、出料口(3)，其特征在于:所述漏斗斗體(2)內(nèi)設(shè)有若干除鐵離子裝置，所述除鐵離子裝置包括方框支架(4)，方框支架(4)上設(shè)有若干并列排放的磁棒套(5)，每個(gè)磁棒套(5)內(nèi)設(shè)有磁棒(8)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶有除鐵離子裝置的漏斗，其特征在于:所述除鐵離子裝置的數(shù)量最佳值為兩個(gè)，分別為除鐵離子裝置甲(6)和除鐵離子裝置乙(7)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶有除鐵離子裝置的漏斗，其特征在于:所述磁棒套(5)與方框支架(4)采用電焊接連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的帶有除鐵離子裝置的漏斗，其特征在于:所述磁棒套(5)一端封閉，另一端開放。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的帶有除鐵離子裝置的漏斗，其特征在于:所述除鐵離子裝置甲(6)和除鐵離子裝置乙(7)在不同的平面呈90°交叉放置。
6.根據(jù)權(quán)利要求2或5所述的帶有除鐵離子裝置的漏斗，其特征在于:所述除鐵離子裝置甲(6)上磁棒套(5)的數(shù)量最佳值為12。
7.根據(jù)權(quán)利要求2或5所述的帶有除鐵離子裝置的漏斗，其特征在于:所述除鐵離子裝置乙(7)上磁棒套(5)的數(shù)量最佳值為9。
【文檔編號(hào)】B03C1/26GK203540700SQ201320668349
【公開日】2014年4月16日 申請日期:2013年10月24日 優(yōu)先權(quán)日:2013年10月24日
【發(fā)明者】秦正琦, 呂桂棟, 秦國玲, 呂寶松, 曹慧, 顏業(yè)余 申請人:高郵市助劑廠