一種制備高純石墨的超細(xì)高壓研磨裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及非金屬材料生產(chǎn)加工設(shè)備領(lǐng)域，尤其涉及一種制備高純石墨的超細(xì)高壓研磨裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]超細(xì)石墨粉體材料是八十年代中期才開始發(fā)展起來(lái)的一種高新技術(shù)材料，它的用途十分廣泛，可應(yīng)用于油墨、靜電碳粉、涂料、纖維、塑料、橡膠、電極等領(lǐng)域?，F(xiàn)代化工業(yè)生產(chǎn)中，制備超細(xì)石墨粉的常用設(shè)備有機(jī)械球磨機(jī)和氣流粉碎機(jī)。然而，機(jī)械球磨機(jī)的缺點(diǎn)是能耗大、效率低，用此設(shè)備生產(chǎn)出來(lái)的石墨粉的粒徑一般不會(huì)低于10微米，并且在石墨粉中易混入雜質(zhì)，氣流粉碎機(jī)雖然能將石墨粉體粉碎至微米級(jí)，但是能耗也大。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]為了克服現(xiàn)有技術(shù)中的缺陷，提供一種制備高純石墨的超細(xì)高壓研磨裝置。
[0004]本實(shí)用新型通過(guò)下述方案實(shí)現(xiàn):
[0005]—種制備高純石墨的超細(xì)高壓研磨裝置，包括為中空密閉腔體的罐體，在所述罐體內(nèi)設(shè)有隔離板，在所述隔離板上設(shè)有電動(dòng)開關(guān)閥，所述隔離板上部的罐體為射線照射室，在所述射線照射室頂部設(shè)有石墨原料投入口，在所述射線照射室內(nèi)設(shè)有多個(gè)射線發(fā)生器，所述隔離板下部的罐體為研磨室，在所述研磨室內(nèi)壁設(shè)有耐磨塊，在所述研磨室的側(cè)壁開設(shè)有多個(gè)高壓氣體管，在所述研磨室的下端設(shè)有出料口。
[0006]在所述研磨室的側(cè)壁設(shè)有多個(gè)水平的高壓氣體管，在所述高壓氣體管的出口處設(shè)有導(dǎo)流板，在所述導(dǎo)流板的導(dǎo)流方向上設(shè)有研磨構(gòu)件。
[0007]所述研磨構(gòu)件包括與研磨室內(nèi)壁連接的連桿，在所述連桿上設(shè)有多組螺旋槳狀的研磨部件。
[0008]在所述研磨室的下端設(shè)有漏斗狀的收集斗，在所述收集斗的最低端設(shè)有出料口。
[0009]所述罐體的側(cè)壁還與支腿對(duì)應(yīng)連接。
[0010]本實(shí)用新型的有益效果為:
[0011]1.本實(shí)用新型一種制備高純石墨的超細(xì)高壓研磨裝置在射線照射室使用射線對(duì)石墨原料先進(jìn)行照射，打斷石墨中碳碳原子之間的結(jié)合鍵，然后經(jīng)在研磨室進(jìn)行氣流粉碎，縮短了粉碎時(shí)間，提高了粉碎效率，降低了能耗，且與現(xiàn)有技術(shù)相比，粉碎效果也更好；
[0012]2.本實(shí)用新型一種制備高純石墨的超細(xì)高壓研磨裝置在罐體內(nèi)設(shè)有隔離板，隔離板的上部為射線照射室，下部為研磨室，使得在一個(gè)罐體內(nèi)就實(shí)現(xiàn)了照射和氣體粉碎的過(guò)程，節(jié)約了設(shè)備和工作流程；
[0013]3.本實(shí)用新型一種制備高純石墨的超細(xì)高壓研磨裝置在高壓氣體管的出口處設(shè)有導(dǎo)流板，在所導(dǎo)流板的導(dǎo)流方向上設(shè)有研磨構(gòu)件，高壓氣體管與氣栗相接，高壓氣體通過(guò)導(dǎo)流板導(dǎo)流后與研磨構(gòu)件進(jìn)行碰壓，然后與研磨室內(nèi)壁的耐磨塊進(jìn)行摩擦，使得石墨材料研磨為顆粒更小的粉體。
【附圖說(shuō)明】
[0014]圖1為本實(shí)用新型一種制備高純石墨的超細(xì)高壓研磨裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0015]圖中:1為罐體，2為隔離板，3為射線照射室，4為射線發(fā)生器，5為研磨室，6為耐磨塊，7為石墨原料投入口，8為高壓氣體管，9為出料口，10為電動(dòng)開關(guān)閥，11為導(dǎo)流板，12為研磨構(gòu)件，121為連桿，122為研磨部件，13為支腿，14為收集斗。
【具體實(shí)施方式】
[0016]下面結(jié)合圖1和具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步說(shuō)明:
[0017]—種制備高純石墨的超細(xì)高壓研磨裝置，包括為中空密閉腔體的罐體1，在所述罐體I內(nèi)設(shè)有隔離板2，在所述隔離板2上設(shè)有電動(dòng)開關(guān)閥10，所述隔離板2上部的罐體I為射線照射室3，在所述射線照射室3頂部設(shè)有石墨原料投入口 7，在所述射線照射室3內(nèi)設(shè)有多個(gè)射線發(fā)生器4，所述隔離板2下部的罐體I為研磨室5，在所述研磨室5內(nèi)壁設(shè)有耐磨塊6，在所述研磨室5的側(cè)壁開設(shè)有多個(gè)高壓氣體管8，在所述研磨室5的下端設(shè)有出料口 9。在罐體內(nèi)設(shè)有隔離板，隔離板的上部為射線照射室，下部為研磨室，使得在一個(gè)罐體內(nèi)就實(shí)現(xiàn)了照射和氣體粉碎的過(guò)程，節(jié)約了設(shè)備和工作流程。
[0018]本實(shí)用新型一種制備高純石墨的超細(xì)高壓研磨裝置在罐體內(nèi)設(shè)有隔離板，隔離板的上部為射線照射室，下部為研磨室，使得在一個(gè)罐體內(nèi)就實(shí)現(xiàn)了照射和氣體粉碎的過(guò)程，節(jié)約了設(shè)備和工作流程。
[0019]所述射線發(fā)生器4為現(xiàn)有公知技術(shù)，其結(jié)構(gòu)和原理，在此，不再贅述。高壓氣體管8與高壓氣栗(圖中未畫出)連接，向研磨室5噴射高壓氣體。
[0020]在所述研磨室5的側(cè)壁設(shè)有多個(gè)水平的高壓氣體管8，在所述高壓氣體管8的出口處設(shè)有導(dǎo)流板11，在所述導(dǎo)流板11的導(dǎo)流方向上設(shè)有研磨構(gòu)件12。在高壓氣體管的出口處設(shè)有導(dǎo)流板，在所導(dǎo)流板的導(dǎo)流方向上設(shè)有研磨構(gòu)件，高壓氣體管與氣栗相接，高壓氣體通過(guò)導(dǎo)流板導(dǎo)流后與研磨構(gòu)件進(jìn)行碰壓，然后與研磨室內(nèi)壁的耐磨塊進(jìn)行摩擦，使得石墨材料研磨為顆粒更小的粉體。
[0021]所述研磨構(gòu)件12包括與研磨室5內(nèi)壁連接的連桿121，在所述連桿121上設(shè)有多組螺旋槳狀的研磨部件122。螺旋槳狀的研磨部件122可以提高石墨原料與研磨部件的碰撞效率，有效的降低石墨原料的直徑。
[0022]在所述研磨室5的下端設(shè)有漏斗狀的收集斗14，在所述收集斗13的最低端設(shè)有出料口 9。所述罐體I的側(cè)壁還與支腿13對(duì)應(yīng)連接。
[0023]本實(shí)用新型的工作原理簡(jiǎn)述如下:石墨原料從石墨原料投入口 7進(jìn)入射線照射室3，開啟射線發(fā)生器4對(duì)石墨原料進(jìn)行照射，關(guān)閉電動(dòng)開關(guān)閥10，打斷碳原子之間的結(jié)合鍵，然后打開電動(dòng)開關(guān)閥10，讓石墨原料進(jìn)入研磨室，在研磨室內(nèi)通過(guò)高壓氣體管內(nèi)噴射出來(lái)的高壓氣體的噴射作用，使得石墨原料與耐磨塊和研磨構(gòu)件進(jìn)行碰壓，變?yōu)轭w粒更小的粉體，然后通過(guò)收集斗收集，最后通過(guò)收集斗最低端的出料口排出。
[0024]盡管已經(jīng)對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案做了較為詳細(xì)的闡述和列舉，應(yīng)當(dāng)理解，對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，對(duì)上述實(shí)施例做出修改或者采用等同的替代方案，這對(duì)本領(lǐng)域的技術(shù)人員而言是顯而易見，在不偏離本實(shí)用新型精神的基礎(chǔ)上所做的這些修改或改進(jìn)，均屬于本實(shí)用新型要求保護(hù)的范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種制備高純石墨的超細(xì)高壓研磨裝置，包括為中空密閉腔體的罐體(1)，其特征在于:在所述罐體(1)內(nèi)設(shè)有隔離板(2)，在所述隔離板(2)上設(shè)有電動(dòng)開關(guān)閥(10)，所述隔離板(2)上部的罐體(1)為射線照射室(3)，在所述射線照射室(3)頂部設(shè)有石墨原料投入口(7)，在所述射線照射室(3)內(nèi)設(shè)有多個(gè)射線發(fā)生器(4)，所述隔離板(2)下部的罐體(1)為研磨室(5 )，在所述研磨室(5 )內(nèi)壁設(shè)有耐磨塊(6 )，在所述研磨室(5 )的側(cè)壁開設(shè)有多個(gè)高壓氣體管(8 )，在所述研磨室(5 )的下端設(shè)有出料口( 9 )。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制備高純石墨的超細(xì)高壓研磨裝置，其特征在于:在所述研磨室(5 )的側(cè)壁設(shè)有多個(gè)水平的高壓氣體管(8 )，在所述高壓氣體管(8 )的出口處設(shè)有導(dǎo)流板(11 )，在所述導(dǎo)流板(11)的導(dǎo)流方向上設(shè)有研磨構(gòu)件(12)。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種制備高純石墨的超細(xì)高壓研磨裝置，其特征在于:所述研磨構(gòu)件(12)包括與研磨室(5)內(nèi)壁連接的連桿(121 )，在所述連桿(121)上設(shè)有多組螺旋槳狀的研磨部件(122)。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制備高純石墨的超細(xì)高壓研磨裝置，其特征在于:在所述研磨室(5)的下端設(shè)有漏斗狀的收集斗(14)，在所述收集斗(13)的最低端設(shè)有出料口(9)05.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制備高純石墨的超細(xì)高壓研磨裝置，其特征在于:所述罐體(1)的側(cè)壁還與支腿(13)對(duì)應(yīng)連接。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種制備高純石墨的超細(xì)高壓研磨裝置，包括為中空密閉腔體的罐體，在所述罐體內(nèi)設(shè)有隔離板，在所述隔離板上設(shè)有電動(dòng)開關(guān)閥，所述隔離板上部的罐體為射線照射室，在所述射線照射室頂部設(shè)有石墨原料投入口，在所述射線照射室內(nèi)設(shè)有多個(gè)射線發(fā)生器，所述隔離板下部的罐體為研磨室，在所述研磨室內(nèi)壁設(shè)有耐磨塊，在所述研磨室的側(cè)壁開設(shè)有多個(gè)高壓氣體管，在所述研磨室的下端設(shè)有出料口。本實(shí)用新型在射線照射室使用射線對(duì)石墨原料先進(jìn)行照射，打斷石墨中碳碳原子之間的結(jié)合鍵，然后經(jīng)在研磨室進(jìn)行氣流粉碎，縮短了粉碎時(shí)間，提高了粉碎效率，降低了能耗，且與現(xiàn)有技術(shù)相比，粉碎效果也更好。
【IPC分類】B02C19/06, B02C18/16, B02C18/14
【公開號(hào)】CN204974092
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520637318
【發(fā)明人】田家利, 李海航, 李江標(biāo), 鄧達(dá)琴
【申請(qǐng)人】江西寧新碳素有限公司
【公開日】2016年1月20日
【申請(qǐng)日】2015年8月24日