防止殘留液體滴落的裝置的制造方法
【技術領域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及溶液供應裝置，尤其涉及一種防止殘留液體滴落的裝置。
【背景技術】
[0002]在半導體器件制造過程中，通常會用到各種溶液(例如去離子水、各種化學液等)對晶圓表面進行處理。如圖4所示，為現有的溶液供應裝置的結構示意圖，該裝置包括溶液供應管道101及設置在溶液供應管道101上的氣動閥102。供應溶液時，打開氣動閥102，溶液從溶液供應管道101的進液口處進入溶液供應管道101,然后從溶液供應管道101的出液口流出，一般會在溶液供應管道101的出液口處安裝噴頭，溶液通過噴頭噴灑在晶圓表面，以對晶圓表面進行處理。晶圓處理結束后，停止溶液供應并關閉氣動閥102。此時，雖然已停止溶液供應，然而，溶液供應管道101內仍會有殘留的溶液,殘留的溶液從溶液供應管道101的出液口流出并滴落，如果晶圓還沒有被取走，殘留的溶液將滴落在晶圓表面，在對精度要求較高的工藝中，這種現象是不希望發(fā)生的。如果晶圓已被取走，殘留的溶液滴落在機臺上，會對機臺及其他電子器件造成腐蝕，如果維護人員不小心碰觸，也會對維護人員造成危害。
[0003]因此，需要提出新的裝置以解決上述裝置存在的殘留液體滴落的技術問題。

【發(fā)明內容】

[0004]本發(fā)明的目的是提供一種防止殘留液體滴落的裝置，以避免工藝處理結束后管道內有殘留液體滴落的問題。
[0005]為實現上述目的，本發(fā)明提出的防止殘留液體滴落的裝置，包括:管道、腔室、隔膜、柱塞及氣缸。管道具有進液口和出液口 ；腔室與管道連通；隔膜設置在腔室與管道的連接處，隔膜將腔室與管道隔開；柱塞設置在腔室內，柱塞與隔膜之間形成密封空間；氣缸與柱塞連接，氣缸能夠帶動柱塞在腔室內運動，以改變柱塞與隔膜之間形成的密封空間的體積。
[0006]在一個實施例中，隔膜由彈性材料制成。
[0007]在一個實施例中，腔室鄰近管道的出液口。
[0008]在一個實施例中，供液前，氣缸帶動柱塞運動，以使柱塞的壁與隔膜貼合。
[0009]在一個實施例中，供液停止時，氣缸帶動柱塞向上運動至腔室的頂部，柱塞與隔膜之間形成的密封空間的體積達到最大，此時密封空間內的氣壓小于大氣壓，在管道的出液口處形成空氣空隙。
[0010]綜上所述，本發(fā)明通過設置腔室、隔膜、柱塞及氣缸，當供液結束后，氣缸帶動柱塞運動，使柱塞與隔膜之間形成的密封空間的氣壓小于大氣壓，從而使得隔膜向腔室內凸起，進而使管道內的液體回流，避免了管道內的液體滴落。
【附圖說明】
[0011]圖1揭示了本發(fā)明防止殘留液體滴落的裝置的一實施例的結構示意圖。
[0012]圖2揭示了本發(fā)明防止殘留液體滴落的裝置在供液時的結構示意圖。
[0013]圖3揭示了本發(fā)明防止殘留液體滴落的裝置在供液停止時的結構示意圖。
[0014]圖4為現有的溶液供應裝置的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0015]為詳細說明本發(fā)明的技術內容、構造特征、所達成目的及功效，下面將結合實施例并配合圖式予以詳細說明。
[0016]參閱圖1，揭示了本發(fā)明防止殘留液體滴落的裝置的一實施例的結構示意圖。根據該實施例的防止殘留液體滴落的裝置包括:管道201、開關閥202、腔室203、隔膜204、柱塞205及氣缸206。具體地，管道201具有進液口和出液口，管道201的出液口處的管徑較小，通常為4暈米。開關閥202設置在管道201上,開關閥202鄰近管道201的進液口，開關閥202可以是氣動閥。腔室203設置在管道201的一側，腔室203鄰近管道201的出液口，腔室203與管道201連通。隔膜204設置在腔室203與管道201的連接處，隔膜204將腔室203與管道201隔開，防止管道201內的液體進入腔室203內，隔膜204由彈性材料制成，且該材料具有良好的氣密性。柱塞205設置在腔室203內，柱塞205與隔膜204之間形成密封空間。氣缸206與柱塞205連接，氣缸206能夠帶動柱塞205在腔室203內上下運動，以改變柱塞205與隔膜204之間形成的密封空間的體積。
[0017]參閱圖2，揭示了本發(fā)明的防止殘留液體滴落的裝置在供液時的結構示意圖。如圖2所示,供液時,打開開關閥202,液體從管道201的進液口進入管道201內，然后從管道201的出液口流出。為了防止液體流經隔膜204時，使隔膜204產生形變，從而導致液體流量波動，在供液前，氣缸206帶動柱塞205向下運動，使柱塞205的壁與隔膜204貼合。
[0018]參閱圖3，揭示了本發(fā)明的防止殘留液體滴落的裝置在供液停止時的結構示意圖。如圖3所示，供液結束后，關閉開關閥202，與此同時，氣缸206帶動柱塞205向上運動至腔室203的頂部，柱塞205與隔膜204之間形成的密封空間的體積達到最大，且密封空間內的氣壓小于大氣壓，由于管道201通過其出液口與外界連通，因此管道201內的液壓大于密封空間內的氣壓，隔膜204由于壓力差向腔室203內凸起，管道201內的液體回流，從而在管道201的出液口處形成空氣空隙207，由于管道201的出液口處的管徑較小，管道201出液口處的液體受表面張力的作用而不會滴落。
[0019]由上述可知，本發(fā)明通過在靠近管道201的出液口處設置腔室203、隔膜204、柱塞205及氣缸206，當供液結束后，氣缸206帶動柱塞205運動，使柱塞205與隔膜204之間形成的密封空間的氣壓小于大氣壓，從而使得隔膜204向腔室203內凸起，進而使管道201內的液體回流，避免了管道201內的液體滴落。
[0020]綜上所述，本發(fā)明通過上述實施方式及相關圖式說明，己具體、詳實的揭露了相關技術，使本領域的技術人員可以據以實施。而以上所述實施例只是用來說明本發(fā)明，而不是用來限制本發(fā)明的，本發(fā)明的權利范圍，應由本發(fā)明的權利要求來界定。至于本文中所述元件數目的改變或等效元件的代替等仍都應屬于本發(fā)明的權利范圍。
【主權項】
1.一種防止殘留液體滴落的裝置，其特征在于，包括: 管道，所述管道具有進液口和出液口 ； 腔室，所述腔室與管道連通； 隔膜，所述隔膜設置在腔室與管道的連接處，隔膜將腔室與管道隔開； 柱塞，所述柱塞設置在腔室內，柱塞與隔膜之間形成密封空間 '及 氣缸，所述氣缸與柱塞連接，氣缸能夠帶動柱塞在腔室內運動，以改變柱塞與隔膜之間形成的密封空間的體積。
2.根據權利要求1所述的防止殘留液體滴落的裝置，其特征在于，所述隔膜由彈性材料制成。
3.根據權利要求1所述的防止殘留液體滴落的裝置，其特征在于，所述腔室鄰近管道的出液口。
4.根據權利要求1所述的防止殘留液體滴落的裝置，其特征在于，供液前，所述氣缸帶動柱塞運動，以使柱塞的壁與隔膜貼合。
5.根據權利要求1所述的防止殘留液體滴落的裝置，其特征在于，供液停止時，氣缸帶動柱塞向上運動至腔室的頂部，柱塞與隔膜之間形成的密封空間的體積達到最大。
6.根據權利要求5所述的防止殘留液體滴落的裝置，其特征在于，柱塞與隔膜之間形成的密封空間的體積達到最大時密封空間內的氣壓小于大氣壓，在管道的出液口處形成空氣空隙。
【專利摘要】本發(fā)明揭示了一種防止殘留液體滴落的裝置，包括：管道、腔室、隔膜、柱塞及氣缸。管道具有進液口和出液口；腔室與管道連通；隔膜設置在腔室與管道的連接處，隔膜將腔室與管道隔開；柱塞設置在腔室內，柱塞與隔膜之間形成密封空間；氣缸與柱塞連接，氣缸能夠帶動柱塞在腔室內運動，以改變柱塞與隔膜之間形成的密封空間的體積。本發(fā)明通過設置腔室、隔膜、柱塞及氣缸，當供液結束后，氣缸帶動柱塞運動，使柱塞與隔膜之間形成的密封空間的氣壓小于大氣壓，從而使得隔膜向腔室內凸起，進而使管道內的液體回流，避免了管道內的液體滴落。
【IPC分類】B05B15-04
【公開號】CN104624430
【申請?zhí)枴緾N201310566899
【發(fā)明人】代迎偉, 金一諾, 王堅, 王暉
【申請人】盛美半導體設備（上海）有限公司
【公開日】2015年5月20日
【申請日】2013年11月14日