專利名稱：：把電磁能送入溶液的方法與設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及一種把電磁能送入膠體懸浮液，即溶液的方法與設(shè)備，用于改良溶液特性。眾所周知，有多種用電能或磁能處理水或其他溶液的系統(tǒng)。僅作為例子，請參閱下述美國專利4,865,747；4,865,748；4,963,268；5,036,170；5,074,998；5,113,751；5,139,675；5,171,431；5,173,169；5,183,512；5,183,565；5,217,607；5,230,807；5,236,670；5,304,289；5,306,887；5,320,726；和5,326,446。此外，據(jù)一家Z-電勢監(jiān)測設(shè)備制造商，即Zeta-Meter公司的一篇文章報道“Z-電勢能夠幫助你了解和控制膠體懸浮液。實例包括復雜的生物系統(tǒng)，例如像油漆的血液與機能系統(tǒng)。膠體懸浮液可稠如漿糊(像膠合劑)，亦可稀如混濁顆粒湖水。有用膠體系統(tǒng)的恰當實例包括水，牛奶，酒，粘土，染料，墨水，紙和藥物。雖然亦用無水液體，但水是一種常用懸浮液。在許多情況下，若認識膠體行為對粘度、沉降和有效顆粒尺寸之類性質(zhì)的影響，即可改良懸浮液性能?！闭埧础癦-電勢一門5分鐘的成套課程”，謹在此編入，供參考。本發(fā)明指向一種把RF調(diào)制電磁能，即磁場和電場送入溶液的設(shè)備，用于改良溶液特性。此外，本發(fā)明還指向一種用于改良第二溶液特性的方法和設(shè)備把RF調(diào)制電磁能，即磁場和電場送入第一溶液，然后使第一溶液接近所述的第二溶液。根據(jù)本發(fā)明的發(fā)送設(shè)備的優(yōu)選實施例包括1)一個管狀外殼，它具有一些閉合端，且形成一個不透水的容器；2)一個裝示該容器內(nèi)的線圈，用于把磁場送入溶液；3)至少一個耦合于該線圈的電場探頭，用于把電場送入溶液；和4)耦合裝置，用于把電磁信號耦合于該線圈。在一個優(yōu)選的實施例中，把該電場探頭(此后叫作“電壓”探頭)裝在一個容納第一溶液的容器內(nèi)，第一溶液是與人們希望處理的第二溶液電絕緣的。用一個耦合于該線圈的信號發(fā)生器去激勵傳送設(shè)備，以產(chǎn)生磁場和電場。最好把信號發(fā)生器配置成，可調(diào)節(jié)激勵信號的振幅和工作循環(huán)。通常用一個根據(jù)本發(fā)明的傳送設(shè)備去接近一個能通過施加RF調(diào)制能量而改良其特性的溶液，這些特性可用它的Z-電勢或任何其他的溶液改良特性的適當測量來表示。根據(jù)本發(fā)明的一個方面，控制所施中RF能量，即功率水平、持續(xù)時間和工作循環(huán)，使溶液處理最佳化。此外，還選擇溶液內(nèi)傳送設(shè)備單元的分布，使溶液處理最佳化。一種處理第二溶液的優(yōu)選方法包括下述步驟1)把RF調(diào)制能量加入第一溶液；和2)使所述第一溶液接近第二溶液，以處理所述的第二溶液。在優(yōu)選方法的又一個方面，把第一溶液從一個把RF調(diào)制能量加入第一溶液的處理站運送到一個裝有第二溶液的加工站。然后在加工站，移動第一溶液，使之接近第二溶液，以處理第二溶液。一種根據(jù)本發(fā)明的傳送設(shè)備最好實行一種優(yōu)選的方法在一個同第二溶液隔離的閉合管內(nèi)再循環(huán)第一溶液。在處理溶液的另一優(yōu)選方法中，把第二溶液從一個加工站運送到一個裝有已用RF調(diào)制能量處理過的第一溶液的處理站。當?shù)诙芤涸诮咏谝蝗芤禾幰苿右院螅训诙芤悍祷丶庸ふ?。在所附?quán)利要求書中詳細地提出本發(fā)明的新穎特點。最好從結(jié)合附圖閱讀下面描述中了解本發(fā)明。圖1包括一個傳送系統(tǒng)的優(yōu)選實施例的方框圖，用于把RF調(diào)制電磁能量送入溶液；圖2是一個示意圖，說明溶液的Z-電勢是如何隨著振幅和用RF能量處理的持續(xù)時間的變化而改良的；圖3是一個試驗臺的方框圖，用于確定處理參數(shù)裝置；圖4是一個槽的上水平面視圖，說明傳送設(shè)備的分布及相關(guān)RF能量分布；圖5包括一個沿平面5-5的圖4槽的側(cè)立視圖；圖6是一個圖1優(yōu)選實施例的信號發(fā)生器的方框圖；圖7是槽內(nèi)分布設(shè)備以及監(jiān)測處理參數(shù)效率的傳感器的優(yōu)選分布的側(cè)立視圖；圖8A是傳送設(shè)備的第一優(yōu)選實施例的透視圖；圖8B是圖8A實施例的示意截面圖；圖9A是傳送設(shè)備的第二優(yōu)選實施例的透視圖；圖9B是圖9A實施例的示意截面圖；圖10是傳送設(shè)備的第三優(yōu)選實施例的透視圖；圖11是沿平面11-11的圖10實施例的截面視圖；圖12是傳送設(shè)備的第四優(yōu)選實施例的部分截面視圖；圖13是傳送設(shè)備的第五實施例的部分截面視圖；圖14包括一個遠程傳送系統(tǒng)的優(yōu)選實施例的方框圖，用于通過在傳送設(shè)備與含有二次溶液的加工站之間再循環(huán)所處理的一次溶液，把RF調(diào)制能量送入二次溶液；圖15A-15C是另一些輻射器的方框圖，用于以來自一次溶液的輻射來處理二次溶液；圖16是圖14傳送系統(tǒng)的方框圖，說明傳送設(shè)備的反饋控制；圖17是遠程傳送系統(tǒng)的第二個優(yōu)選實施例的方框圖，其中處理站裝有一個在加工站與處理站之間再循環(huán)的一次溶液的槽；圖18是遠程傳送系統(tǒng)的第三個優(yōu)選實施例的方框圖，其中二次溶液是從加工站再循環(huán)到處理站的，在處理站中，在接近傳送設(shè)備內(nèi)盛裝的一次溶液處流過二次溶液；圖19是遠程傳送系統(tǒng)的第四個優(yōu)選實施例的方框圖，其中二次溶液是從加工站再循環(huán)到處理站內(nèi)一個槽中的，處理站具有一個傳送設(shè)備和一個裝于其中的處理一次溶液；圖20是遠程傳送系統(tǒng)的第五個優(yōu)選實施例的方框圖，其中一次溶液經(jīng)過處理站中的一個傳送設(shè)備單方向地流到一個裝有二次溶液的加工站；圖21是一個示范性的系統(tǒng)，用于通過在接近二次溶液處再循環(huán)經(jīng)處理的一次溶液，實行處理二次溶液的所述方法；圖22是沿著平面22-22的圖21傳送設(shè)備的截面端視圖；和圖23A-23F是一些論證附加設(shè)計準則的示意圖，這些準則能夠用來建造傳送設(shè)備，以便處理一種以后要用來處理二次溶液的一次溶液。本發(fā)明涉及一種用于把電磁能量以磁場和電場形式送入一種膠體懸浮液，即溶液中以改良其特性的設(shè)備。正如ZeTaMeter公司在上述文章中所描述，當改良溶液的Z-電勢時，就能合乎需要地變更溶液的特性。大家相信，當溶液受到一個RF調(diào)制磁場和一個RF調(diào)制電場作用時，就能改善一種改良溶液特性，例如它的Z-電勢或任何其他適當?shù)臏y量參數(shù)的能力。這樣，本發(fā)明之目的在于提供一個改進的系統(tǒng)以便把RF調(diào)制電磁能送入溶液中。圖1示出一個傳送系統(tǒng)10的方框圖，它主要包括一個信號發(fā)生器12，和一個裝于溶液16，例如一個液體或氣體中的傳送設(shè)備14。信號發(fā)生器12生成一個驅(qū)動傳送設(shè)備14的RF調(diào)制信號18。傳送設(shè)備14在由RF調(diào)制信號18激發(fā)時，就生成一個磁場20和一個電場22。如圖2所示，某些溶液特性，例如它的Z-電勢，隨著把RF調(diào)制能量送入溶液的持續(xù)時間和/或振幅而改變。然而，溶液Z-電勢隨RF調(diào)制能量而改良的情況是所傳送RF調(diào)制能量的持續(xù)時間和振幅的函數(shù)，曲線下降到一凹部24，當能量水平超出一個最佳處理點26時，則情況相反。認為溶液的改良是受時間限制的，會隨時間而減小。因此，本發(fā)明的優(yōu)選實施例都在第一時間周期施加RF調(diào)制能量，在第二時間周期移去RF調(diào)制能量，然后重復這種施加和移去模式，以確定一個工作循環(huán)。工作循環(huán)和振幅共同確定送入溶液的功率的比率。正如大多數(shù)電磁能一樣，從傳送設(shè)備14測量的能量強度是隨距離而變的。因此，為了均勻地處理溶液16，必須同時使用離傳送設(shè)備14的距離和RF調(diào)制信號18的特征，去選擇處理參數(shù)，例如持續(xù)時間，工作循環(huán)，振幅和距離，它們確定加到大部分溶液中的功率比率，從而實現(xiàn)期望的改良。表1</tables>圖3示出一個用于確定處理參數(shù)的試驗臺28。試驗臺28包括一個充滿試驗流體32的槽30，流體32相當于要處理的溶液16。傳送設(shè)備14被浸入流體32中，由信號發(fā)生器12通過RF調(diào)制信號18驅(qū)動。一個主要由線圈組成的傳感器34，在離傳送設(shè)備14一段距離36處浸入流體32中。傳感器34經(jīng)過信號通道38耦合于一個電壓表40，以測量從傳送設(shè)備14通過流體32耦合于傳感器34的RF能量的大小。認為由電壓表40測得的電壓相當于流體32的改良特性，例如它的Z-電勢。用試驗臺28進行測量，以確定上面在表1所列的試驗數(shù)據(jù)，它們相當于傳送設(shè)備14的各種優(yōu)選實施例(在下面要進一步討論)。因此，如圖4和5所示，在一個三維矩陣內(nèi)的實際處理系統(tǒng)槽42中，分布多個傳送設(shè)備14。通過適當?shù)胤植紓魉驮O(shè)備14，能夠把有一個期望RF能量容許范圍的處理距離44的輻射狀弧定位成，包圍要處理的大部分溶液16。在選擇期望的處理距離44以后，就根據(jù)試驗數(shù)據(jù)選擇其余的處理參數(shù)，持續(xù)時間和RF調(diào)制信號18的振幅，以實現(xiàn)期望的溶液改良特性。圖6說明一個示范性信號發(fā)生器12的方塊圖，它主要包括一個生成例如27.225MHz的固定RF頻率的RF發(fā)生器46，一個工作循環(huán)控制器48和一個功率放大器50。功率放大器50在一個功率/振幅調(diào)節(jié)器52的控制之下，按照從RF發(fā)生器46輸入的一個RF信號54操作，并且根據(jù)所選擇的處理參數(shù)通過RF調(diào)制信號18向傳送設(shè)備14輸出一個固定的振幅信號。工作循環(huán)控制器48通過調(diào)制它輸出的通斷，控制功率放大器50。根據(jù)一個通調(diào)節(jié)器56和一個斷調(diào)節(jié)器58設(shè)置工作循環(huán)控制器48，以便根據(jù)所選擇的處理參數(shù)來生成工作循環(huán)。通斷調(diào)節(jié)器56，58最好可按照增量，例如一分鐘增量，直至60分鐘持續(xù)時間，進行調(diào)節(jié)。因此，可以典型地設(shè)置10分鐘通和60分鐘斷。雖然圖6示出一個示范性信號發(fā)生器12，但認為任何其他的可向傳送設(shè)備提供RF調(diào)制信號的儀器，都處于本發(fā)明的信號發(fā)生器的范圍之內(nèi)。在一個優(yōu)選實施例中，如圖7所示，有多個傳感器34，允許確認在其實際環(huán)境中設(shè)置處理參數(shù)的功效。然而，一般公認，傳感器34只讀出那些顯示傳送系統(tǒng)10效率的電壓，系統(tǒng)10是以開路方式操作的。這樣，在另一個實施例中，用一些直接確定溶液改良特性，例如它的Z-電勢值的傳感器來取代傳感器34。在這個替代實施例中，一個電勢處理器60(見圖6)讀出已實現(xiàn)的溶液改良特性，例如它的Z-電勢；并且通過相互作用地確定通調(diào)節(jié)器56，斷調(diào)節(jié)器58和功率振幅調(diào)節(jié)器52的優(yōu)選設(shè)置，相應(yīng)地改良工作循環(huán)控制器48和功率放大器50。因此，在這個替代實施例中實現(xiàn)閉路控制。如上面在表1討論中所述，由根據(jù)溶液16中所選傳送設(shè)備14特征而設(shè)置的處理參數(shù)，確定傳送系統(tǒng)10的效率。一個在表1中表達成DA1的第一個優(yōu)選傳送設(shè)備70示于圖8A中。傳送設(shè)備70主要包括1)一個不透水的管狀外殼72，最好是圓筒狀的；2)一個變壓器74，裝于外殼72內(nèi)；3)第一和第二電壓探測盤76和78，耦合于變壓器74；和4)一個同軸電纜80，通過第一個不透水密封件82耦合于外殼72中的變壓器74，并且從信號發(fā)生器12傳送RF調(diào)制信號18。亦如圖8B示意圖所示，變壓器74包括一個感應(yīng)地耦合于一個次級線圈86的初級線圈84，且有最好在其端部耦合于次級線圈86的電壓探測盤76和78。初級和次級線圈84和86圍繞一個最好由非傳導材料，例如PVC制作的管88纏繞。初級線圈84最好圍繞一段次級線圈86纏繞，并且用一個絕緣器90維持與次級線圈86的電絕緣，或者替代地用絕緣的導體作成線圈來維持其絕緣。RF調(diào)制信號最好通過一個高“Q”可調(diào)電容器92耦合于初級線圈84，電容器92被置成一個可使傳送設(shè)備70的阻抗匹配于信號發(fā)生器12的數(shù)值。當用RF調(diào)制信號18來驅(qū)動初級線圈84時，則磁場20，也叫作H場，主要由次級線圈86生成，并且伸出傳送設(shè)備70，進入溶液16。次級線圈86由于感應(yīng)地耦合于初級線圈84而生成一個電壓(在電終端94與96之間測量)，該電壓的振幅大于初級線圈84從RF調(diào)制信號18產(chǎn)生的電壓振幅。來自電終端94，96的電壓分別耦合于電壓探測盤76和78。在外殼72第一端形成的第一個不導電不透水腔98內(nèi)安裝電壓探測盤76。在外殼72的第一個內(nèi)部位置用一個第一不導電內(nèi)端板100進行密封；并且在外殼72的第一端，用貼緊外殼72的第一端的第一個不導電薄外端板102密封，以形成腔98。次級線圈86的電終端94通過第二個不透水密封件104而耦合于電壓探測盤76。同樣，在外殼72的第二端，在第二內(nèi)端板108與第二外端板110之間形成第二個不導電不透水腔106，在腔106內(nèi)裝有第二個電壓探測盤78，盤78通過第二內(nèi)端板108內(nèi)的第三個不透水密封件112而耦合于電終端96、腔98，106最好充滿一種流體114，例如去離子水(DI)。人們相信，在把電場22耦合到溶液16之前，把電場22耦合到充滿流體的腔98，106中，并且穿過薄的外端板102，110，可改進把電場22送入溶液16。此外，通過使電壓探測盤76，78和溶液維持電絕緣，可減小信號負載。形成第一和第二不透水腔98，106的外殼72段，最好由不導電的材料，例如PVC制成。然而，圍繞變壓器74的壁段，即在內(nèi)端板100與108之間的段，是既能用象PVC之類的不導電材料制作，又能用象銅之類的導電材料制作。圖9A和9B示出傳送設(shè)備14的第二個替代實施例120，在表1中用DAII表示。傳送設(shè)備120主要包括1)一個不透水的管狀外殼72，最好是圓筒狀的；2)一個抽頭線圈122，裝于該外殼內(nèi)；3)一個電壓探測盤124，耦合于抽頭線圈122的第一端；和4)一個同軸電纜80，通過第一個不透水密封件82耦合于外殼72內(nèi)的抽頭線圈122，并且傳送RF調(diào)制信號18。同軸電纜80最好耦合于抽頭線圈122的第二端，并且通過一個高“Q”可調(diào)電容器92耦合于一個中間抽頭點126；調(diào)節(jié)電容器126以便把傳送設(shè)備120的阻抗匹配信號發(fā)生器12。抽頭線圈122生成一個磁場20，磁場20伸入圍繞傳送設(shè)備120的溶液16中。在點128與130之間測得的電壓是由抽頭線圈122感應(yīng)生成的，它在振幅上大于輸入到抽頭線圈122的RF調(diào)制信號18。在點128的電壓耦合于電壓探測盤124，盤124裝于不透水外殼72第一端的不透水腔132之內(nèi)。在外殼72的第一個內(nèi)部位置用一個不導電的內(nèi)端板134來密封；在外殼72的第一端用一個貼緊外殼72第一端的一個不導電薄外端板136來密封，以形成不透水的腔132。在抽頭線圈122第一端生成的電壓通過第二個不透水密封件138耦合于電壓探測盤124。腔132最好充滿流體114，例如去離子水(DI)。正象前面所述實施例一樣，認為這種結(jié)構(gòu)在使電負載減至最小的同時，改善電場22進入溶液的耦合。如前所述，形成不透水腔132的外殼72段最好由不導電的材料，例如PVC制作。然而，圍繞抽頭線圈122的外殼72壁段是既能用象PVC之類的不導電材料制作，又能用象銅之類的導電材料制作。圖10和11示出傳送設(shè)備14的第三個替代實施例140。傳送設(shè)備140主要包括1)一個不透水管狀外殼72，最好是圓筒狀的；2)一個抽頭線圈122，裝于外殼內(nèi)；3)一個裝有一塊電壓耦合板144的電壓耦合結(jié)構(gòu)142，該板耦合于抽頭線圈122的第一端146；和4)一個同軸電纜80，通過第一個不透水密封件82耦合于外殼72內(nèi)的抽頭線圈122，且傳送RF調(diào)制信號18。不透水外殼72和抽頭線圈122是基本上相同于圖9A所示的上述實施例120的。然而，在這個實施例中，附加的電壓耦合結(jié)構(gòu)142包括第二個外殼148，它耦合于一個軟外殼150，最好是柔韌的軟外殼，它與位于其間的一個流體耦合通道152一起形成一個不透水的組件。電壓耦合板144裝于第二個外殼148內(nèi)，并且使用一個穿過第二個不透水密封件156的傳導體154電耦合于抽頭線圈122的第一端146。最好使用一個充注器管和帽158把電壓耦合結(jié)構(gòu)142充滿流體114，例如去離子水(DI)。在電壓耦合結(jié)構(gòu)142充滿流體的，通過一個排氣口160排出其中的空氣。電壓耦合結(jié)構(gòu)142，尤其是軟外殼150，最好作成弓形表面162，以匹配一個外表面，例如一個彎曲槽或管，以有利于其中所裝溶液16的處理。因此，在這個實施例中，在傳送設(shè)備140不接觸溶液16的情況下，分別用磁場和電場20和22處理溶液16。如前所述，外殼72即可用象PVC之類的不導電材料制作，亦可用象銅之類的導電材料制作。圖12示出傳送設(shè)備14的第四個替代實施例170。傳送設(shè)備主要包括1)一個RF發(fā)生器組件(72；2)一個螺旋共振器(74；和3)一個電壓探測組件176；它們?nèi)b在一個不透水的外殼178內(nèi)。RF發(fā)生器組件172在它生成一個RF調(diào)制信號方面，頗類似上述信號發(fā)生器12。一個功率控制電纜180向RF發(fā)生器組件172傳送一個調(diào)制的功率，即電壓上可調(diào)節(jié)的功率，和工作循環(huán)，使RF發(fā)生器組件通過傳導體182，184把RF調(diào)制能量傳送到螺旋共振器174，即抽頭線圈。RF發(fā)生器組件172緊靠螺旋共振器174，可改善信號的傳送。螺旋共振器174在它的到電壓探測組件176的端部186，以類似于上述抽頭線圈122的方式生成一個高壓信號。螺旋共振器174最好由一根長導線(例如銅線)制作的金屬圈形成，其未卷繞長度為RF信號波長(例如約8.62英尺，相當于27.225MHz)的四分之一。一根不導電的，例如由聚碳酸酯作的調(diào)節(jié)桿188耦合于螺旋共振器174的端部186，且可調(diào)地穿過端板190。通過變更調(diào)節(jié)桿188的相對位置，使螺旋共振器174的線性尺寸變更，以調(diào)節(jié)共振器174的阻抗，且改善匹配于RF發(fā)生器組件172的信號。電壓探測組件176主要包括1)一個不導電的，例如聚四氟乙烯的外空心殼192，最好是球狀的，在其內(nèi)形成一個匹配腔194；2)一個導電的，例如鍍金黃銅的電壓探頭196，裝于外殼192內(nèi)；和3)一個導電的托腳198，例如通過一種螺旋連接而在第一端連接于電壓探頭196，并且對外殼192形成不透水的密封。導電托腳198的第二端連接于螺旋共振器174的端部186，以便在共振器174與電壓探頭196之間提供一個導電通路。一種流體200，例如去離子水(DI)，在腔194內(nèi)圍繞電壓探頭196。不透水的外殼178的結(jié)構(gòu)分成三段。在圍繞電壓探測組件176和RF發(fā)生器組件172的第一和第二段202，204，外殼178壁是由不導電材料，例如塑料制作的。然而，外殼178的第三段206形成一個屏蔽，最好是圓筒，并由導電材料，例如銅制作，以容納電場。圖13示出傳送設(shè)備14的第五個替代實施例210。本實施例主要包括一個通過屏蔽電纜212耦合的上述電壓探測組件176，電纜長度最好等于到RF發(fā)生器/匹配網(wǎng)絡(luò)214的RF信號波長的四分之一(例如信號波長約為7.9英尺，相當于27.225MHz，且由于電纜特征而不同于先前的實施例)；其RF發(fā)生器組件在功能和結(jié)構(gòu)上類似于RF發(fā)生器組件172，但物理上遠離電壓探測組件。如上所透露，用RF調(diào)制能量處理溶液，能夠合乎需要地改變?nèi)芤?，例如流體或氣體的特性。業(yè)已表明，用RF凋制能量處理溶液的效應(yīng)可持續(xù)一段相當長的時期，即幾分鐘，而不是幾微秒。這樣，進一步作實驗，以確定這種處理的任何附加的方面。因此確定，如果第一溶液，即原始溶液受到處理，然后運送到一個遠程位置，并放在緊靠第二溶液處；則第二溶液的特性同樣受到作用，例如來自原始溶液的次級發(fā)射會影響第二溶液的特性。曾進行下述實驗溶液P(原始溶液)是通過把一個高壓電磁信號送入一個裝有溶液P的容器中來處理的。然后把一部分處理過的溶液P運送到約50英尺以外的另一室中，并裝到一個瓶內(nèi)，這個瓶放在一個裝有硝酸溶液S(第二溶液)的燒杯附近。在該實驗期間把一個pH電極放在第二溶液燒杯中。在把溶液P放到裝有溶液S的燒杯附近之前，pH值以4.341±0.002恒定值維持至少30分鐘。在把溶液P放到裝有溶液S的燒杯附近15分鐘以后，pH值波動，且此后開始連續(xù)向下漂移，在照射2小時以后，pH值變到4.128。這個實驗被重復三次。在一個類似的實驗中，在燒杯(溶液S)中放有20mg金紅石。24小時以后，測量它的Z-電勢。Z-電勢以7±2mv維持至少一小時。此后，把一個已用高電壓的電磁信號處理的溶液P的容器放入一個靠近溶液S的瓶中。溶液S中金紅石的Z-電勢，在照射以后，即在緊靠地放入溶液P以后，開始隨時間而波動于22與6mv之間。這種波動持續(xù)至少2小時。用原子力顯微法測量，在鋅膠體原子界面和固體硅石表面的表面力。一種非激勵的溶液(溶液S)，在超出其表面30nm的距離時，一直呈現(xiàn)正力矢量。在處理水瓶(溶液P)近旁照射同樣的溶液，照射一段20分鐘的時期，且其力矢量方向相反，在9nm范圍內(nèi)變成負方向，在超出100nm的距離處它被維持在0。在另一個實驗中，把自來水放入兩個相同直徑的玻璃燒杯(#1和#2)中。測量各個燒杯中水量，并均分為100±0.011g。雖然燒杯#1保持與處理水相隔離，但燒杯#2卻在處理水(溶液P)近旁受到照射(例如用次級輻射)。使兩個燒杯維持原狀，并且在兩個受控環(huán)境(30℃，沒有通風，但敞開于大氣中)中用一小時的間隔測量其重量。燒杯#1(未處理的燒杯)以1.84倍于燒杯#2速率的速率損失重量。實驗在三小時內(nèi)重復10次，其結(jié)果重復率在±3％以內(nèi)。在又一個實驗中，用次級水記錄表面張力，其擺動范圍是從75mN/m(毫牛/米)到77.5mN/m。在又一個類似的實驗中，測量碳酸鈣的沉淀，其方法是在把0.003M硝酸鈣溶液3ml和0.005M碳酸鈉溶液10ml相混合時，測量其混濁度。混濁度先是隨時間而增加，在達到一個穩(wěn)定狀態(tài)以后，又隨時間而降低(例如，一種成核和沉淀反應(yīng))。在下一個實驗中，在混合以前，在一個類似處理的溶液P的近旁照射硝酸鈣和碳酸鈉溶液(溶液S)，照射一段10分鐘的時期。在有次級發(fā)射的情況下，觀察到最大混濁度明顯下降。在溶液P照射下沉淀的顆粒呈現(xiàn)較大的平均顆粒尺寸(用光學顯微術(shù)測量)。還研究了屏蔽對來自溶液P的次級發(fā)射的影響。從這些研究確定，最好使用一種金屬屏蔽，例如銅，μ金屬屏蔽等，去限制那種在處理除了二次溶液之外的任何溶液中引起的次級發(fā)射。為了估計次級發(fā)射的強度，還測量了溶液S中pH值隨時間的變化。在一個實驗中，用電磁能處理溶液P，并且用三張鋁箔包裝其中盛有溶液P的瓶。溶液S的pH值以4.349±0.002的恒定值保持至少30分鐘。在附近放置一個有溶液P的瓶以后，溶液S的pH值在2小時以后從4.349變到4.193。這個實驗以±0.01pH單位的再現(xiàn)性重復3次。在又一個實驗中，把裝有處理溶液P的瓶放在有1/8英寸壁厚的鋁制容器內(nèi)。溶液S的pH值最初處于4.160恒定值，但在附近放置溶液P(在容器內(nèi))以后一小時，它變到4.195，并且繼續(xù)上升。在又一個實驗中，把裝有處理溶液P的瓶放在有1/8英寸壁厚的不銹鋼制容器內(nèi)。溶液S的pH值處于4.420恒定值。在把裝于該溶器內(nèi)的溶液P放在附近以后，溶液S的pH值從pH4.420變到4.469。從這些實驗得出結(jié)論，在用電磁輻射處理原始溶液以后出現(xiàn)一種機理把原始溶液運送到二次溶液附近，可通過例如來自原始溶液的次級發(fā)射，處理二次溶液。圖14示出一個實施本發(fā)明的處理系統(tǒng)310的方塊圖，它主要包括1)一個處理站312，用于處理原始溶液314；2)一個加工站316，裝有要處理的二次溶液318，加工站316最好遠離處理站312；和3)一個運送設(shè)備320，用于把處理過的原始溶液314運送到二次溶液318附近。處理站312最好裝有一個傳送設(shè)備322，用于生成電磁能，且處理原始溶液314。一個示范性傳送設(shè)備140(見圖11)把電磁能送入一個能量接收原始溶液(見圖11中流體114)中，溶液裝于軟外殼150內(nèi)，軟外殼最好圍繞一個管道324(見圖14)。裝于管道324內(nèi)的原始溶液314接收可改良原始溶液314的輻射326。因此，原始溶液314能夠隨后放出次級輻射328(實際上，相對于進入能量接收原始溶液114的初級輻射來說是第三級輻射)，以處理來自輻射器回路330的二次溶液318。原始溶液314最好在處理站312與加工站316之間進行再循環(huán)，方法是用一個可維持原始溶液流動的設(shè)備，例如循環(huán)泵332，使原始溶液314在管道324內(nèi)傳送。雖然最好是再循環(huán)原始溶液314，但不一定要實施本發(fā)明。還認為那些把原始溶液314從處理站312均勻地運送到加工站316的實施例屬于本發(fā)明的范圍以內(nèi)。認為再循環(huán)原始溶液的實施例是比較有效的。當溶液314a運送到二次溶液附近時，不是全部送入原始溶液314的能量都能夠給予二次溶液318的。這樣，原始溶液仍會保持一些由傳送設(shè)備322給它的RF調(diào)制能量。因此，使部分耗盡的原始溶液314b再循環(huán)，返回傳送設(shè)備，會花較少的能量再處理原始溶液314b。二次溶液的處理程度頗依賴于原始溶液314對二次溶液318的靠近程度和照射持續(xù)時間。圖15A-15C示了示范性輻射器334，336，338，用于使來自原始溶液314的輻射328照射二次溶液318。輻射器334包括一個延伸的輻射回路330，它可提高耦合程度，即從原始溶液處理二次溶液的功效，這是因為它同輻射回路裝置330的單回路相比，可增加路徑長度和/或多路傳送。輻射器336增加路徑的數(shù)目，從而由來自原始溶液314的次級發(fā)射328直接處理的二次溶液318的數(shù)量得以增加。然而，由于路徑數(shù)目增加，溶液的速度也相應(yīng)降低。這種速度上的降低使各部分原始溶液314可照射二次溶液318一段較長的時間。輻射器338由于有大的截面表面面積(例如本例所示的六邊形)而有較大的照射體積，它還使大量的二次溶液能夠直接受到來自原始溶液314的次級輻射328的作用。此外，這樣增加照射面積還使輻射器338內(nèi)原始溶液314的速度降低。本專業(yè)的普通技術(shù)人員還能夠設(shè)想出一些其他的輻射器結(jié)構(gòu)，以選擇照射量和原始溶液速度。如上所述，最好用一種反饋機構(gòu)去確定溶液的最佳處理水平。在本發(fā)明中，正是根據(jù)處理二次溶液318的次級效應(yīng)更好地改良原始溶液處理水平的。因此，如圖16所示，最好把一個傳感器340放在二次溶液318中，并且通過反饋信號342把它耦合于驅(qū)動電子器件344(例如，見圖6中信號發(fā)生器12)，該器件驅(qū)動傳送設(shè)備322。傳感器340還能替代地測量pH值，Z-電勢，或任何其他可確定所需處理量的測量參數(shù)。如上所述，驅(qū)動電子器件344能夠改變那些加到傳送設(shè)備322中的RF調(diào)制能量的工作循環(huán)，頻率，振幅等。此外，通過根據(jù)反饋信號342改變循環(huán)泵332的速度，能夠改變原始溶液314的再循環(huán)速度。雖然把反饋傳感器340放入二次溶液318中是優(yōu)選的，但把反饋傳感器放入原始溶液314中去測量原始溶液314的處理量(它相當于二次溶液318的處理量)，是也能實現(xiàn)反饋控制的。在處理二次溶液以后，就能在各種加工中有利地改良其特性。下面結(jié)合圖14描述一組示范性例子。1.在冷卻/工業(yè)用水系統(tǒng)中改變膠體行為(水垢控制)，例如冷卻塔去垢能源，例如傳送322，使用一個磁場、電磁場、電場，可見或不可見寬頻帶光或單色光、或任何其他能源，激勵原始溶液314。于是使原始溶液314處于一種變更的能量狀態(tài)，并且通過閉路管324、管道系統(tǒng)等，用一個泵332或其他裝置，把原始溶液送入一個裝有冷卻劑二次溶液318的水池或貯水槽316中。然后使從原始溶液314放出的能量射入二次溶液318，從而改變二次溶液318的物理物性，即pH值、導電率、Z-電勢、表面張力、水合力、或二次溶液318的任何其他特性，以便影響二次溶液318中膠體顆粒對該系統(tǒng)中表面的吸引性。采用適當?shù)哪芰糠植?，會使水垢顆粒從接觸二次溶液318的表面排斥離開，從而抑制新水垢的形成，且有利于去除以前存在的水垢積累物。2.印刷油墨處理(改變鉛印/表面附著特性)能源，例如傳送設(shè)備322，使用一個磁場、電磁場、電場、可見或不可見寬頻帶光或單色光、或任何其他能源，激勵原始溶液314。于是使原始溶液314處于一種變更的能量狀態(tài)，并且通過閉路管324、管道系統(tǒng)等，用一個泵332或其他裝置，把原始溶液送入裝有油墨或鉛印二次溶液318的貯池或貯槽316中。然后使從原始溶液314放出的能量射入二次溶液318，從而改變二次溶液318的物理特性，即pH值、導電率、Z-電勢、表面張力、水合力、或二次溶液318的任何其他特征，以便影響二次溶液318中膠體顆粒對印刷介質(zhì)的吸引性。采用適當?shù)哪芰糠植?，會把油墨或調(diào)色劑顆粒吸引到印刷介質(zhì)上，從而改善印片密度，或更經(jīng)濟地使用油墨或鉛印。3.紙漿去油墨/硬紙再循環(huán)處理/從紙漿去除油墨或其他顆粒能源，例如傳送設(shè)備322，使用一個磁場、電磁場、電場、可見或不可見寬頻帶光或單色光、或任何其他能源，激勵原始溶液314。于是使原始溶液314處于一種變更的能量狀態(tài)，并且通過閉路管324、管道系統(tǒng)等，用一個泵332或其他裝置，把原始溶液送入裝有加工漿液318的加工容器槽316中。然后使從原始溶液314放出的能量射入二次溶液318中，從而改變二次溶液318的物理特性，即pH值、導電率、Z-電勢、粘度、表面張力、水合力、或二次溶液318的任何其他特性，以便影響二次溶液318中膠體顆粒相互之間或?qū)^濾器、撇沫器或其他加工元素的吸引性。采用適當?shù)哪芰糠植迹湍?調(diào)色劑或其他顆粒會或者吸引到過濾介質(zhì)上，或者在表面聚集成泡沫而被撇去或處置。4.工業(yè)化學加工強化/化學加工綜合處理能源，例如傳送設(shè)備322，使用一個磁場、電磁場、電場、可見或不可見寬頻帶光或單色光、或任何其他能源，激勵原始溶液314。于是使原始溶液314處于一種改變的能量狀態(tài)，并且通過閉路管324、管道系統(tǒng)等，用一個泵332或其他裝置，把原始溶液送入裝有加工溶液318的加工容器槽316中。然后使從原始溶液314放出的能量射入二次溶液318中，從而改變二次溶液318的物理特性，即pH值、Z-電勢、粘度、表面張力、水合力、或二次溶液318的任何其他特性，以便刺激某些化學反應(yīng)，或引起催化劑的某種強化，或其他期望的化學變化。5.用于改進混凝土/集料混合物的強度的處理水能源，例如傳送設(shè)備322，使用一個磁場、電磁場、電場、可見或不可見寬頻帶光或單色光、或任何其他能源，激勵原始溶液314。于是使原始溶液314處于一種改變的能量狀態(tài)，并且通過閉路管324、管道系統(tǒng)等，用一個泵332或其他裝置，把原始溶液送入裝有混合水318的加工容器/槽316中。然后使從原始溶液314放出的能量射入二次溶液318中，從而改變二次溶液318的物理特性，即pH值、導電率、Z-電勢、粘度、表面張力、水合力、或二次溶液318的任何其他特性，以便改變固化時間、固化強度、滲透性、孔隙度、或最終混凝土的任何其他可期望的效應(yīng)，包括免除食鹽類添加劑，這些添加劑能夠在澆注中腐蝕和減弱增強構(gòu)件和金屬構(gòu)件。6.強化植物生長周期的水處理/農(nóng)業(yè)水處理/植物生物學能源，例如傳送設(shè)備322，使用一個磁場、電磁場、電場、可見或不可見寬頻帶光或單色光、或任何其他能源，激勵原始溶液314。于是使原始溶液314處于一種改變的能量狀態(tài)，并且通過閉路管324、管道系統(tǒng)等，用一個泵332或其他裝置，把原始溶液送入裝有灌溉水318的加工容器/槽316中。然后使從原始溶液314放出的能量射入二次溶液318，從而改變二次溶液318的物理特性，即pH值、導電率、Z-電勢、粘度、表面張力、水合力、或二次溶液318的任何其他特性，以便改變植物生長速率、植物大小、果實大小和/或質(zhì)量、植物對病或蟲害的可接受性、植物水和養(yǎng)料需求、和對植物類的任何其他可期望影響。7.醫(yī)學/生物學轉(zhuǎn)移和處理技術(shù)能源，例如傳送設(shè)備322，使用一個磁場、電磁場、電場、可見或不可見寬頻帶光或單色光、或任何其他能源，激勵原始溶液314。于是使原始溶液314處于一種改變的能量狀態(tài)，并且通過閉路管324、管道系統(tǒng)等，用一個泵332或其他裝置，把原始溶液送入處理源頭/培養(yǎng)生長區(qū)/移植物316中。然后使從原始溶液314放出的能量射入二次溶液318中，從而改變二次溶液318的物理特性，即pH值、導電率、Z-電勢、粘度、表面張力、水合力、或二次溶液318的任何其他特性，以便改變細胞生長速率，抑制損傷或異常細胞的生長，激勵免疫系統(tǒng)功能，激勵骨折修復，可去除鈣沉積、例如骨刺，或可去除動脈疾病。8.用能量交換系統(tǒng)的廢水/廢液處理能源，例如傳送設(shè)備322，使用一個磁場、電磁場、電場、可見或不可見寬頻帶光或單色光、或任何其他能源、激勵原始溶液322。于是使原始溶液314處于一種改變的能量狀態(tài)，并且通過閉路管324、管道系統(tǒng)等，用一個泵332或其他裝置，把原始溶液送入處理池/槽/水流316中。然后使從原始溶液314放出的能量射入二次溶液318中，從而改變二次溶液318的物理特性，即pH值、導電率、Z-電勢、粘度、表面張力、水合力、或二次溶液318的任何其他特性，以便影響廢水/廢液中懸浮顆粒的沉淀、絮凝或成團，使顆粒從溶液中沉淀、以渣沫撇去或過濾掉。9.用于改進燃燒的液態(tài)碳氫化合物處理能源，例如傳送設(shè)備322，使用一個磁場、電磁場、電場、可見可不可見寬頻帶光或單色光、或任何其他能源，激勵原始溶液314。于是使原始溶液314處于一種改變的能量狀態(tài)，并且通過閉路管324、管道系統(tǒng)等，用一個泵322或其他裝置，把原始溶液送入作為一個在線燃料處理單元的燃料貯槽，或送入增碳或誘導系統(tǒng)。然后使從原始溶液314放出的能量射入二次溶液318中，從而改變二次溶液318的物理特性，即pH值、導電率、Z-電勢、粘度、表面張力、水合力、或二次溶液318的任何其他特性，它們通過裂化、分子重組或附加OH根而改良復雜碳氫化合物鏈，以便改進可燃性、改良燃燒時間，或以任何其他方式改善燃料經(jīng)濟性或減少記者污染物的有害排放，包括減少氮的氧化物，未燃燒的碳，或任何其他不希望的燃燒副產(chǎn)物。10.用于制冰供水/加工的能量處理能源，例如傳送設(shè)備322，使用一個磁場、電磁場、電場、可見或不可見寬頻帶光或單色光、或任何其他能源，激勵原始溶液314。于是使原始溶液314處于一種改變的能量狀態(tài)，并且通過閉路管324、管道系統(tǒng)等，用一個泵332或其他裝置，把原始溶液送入制冰供水貯槽316或制冰水槽。然后使從原始溶液314放出的能量射入二次溶液318，從而改變二次溶液318的物理特性，即pH值、導電率、Z-電勢、粘度、表面張力、水合力、或二次溶液318的任何其他特性，以便影響冰的結(jié)晶體結(jié)構(gòu)，用于改變冰的外觀質(zhì)量、融化時間、氣體卷吸、或冰的其他質(zhì)量。11.用于控制水垢和腐蝕的蒸汽/水汽/冷凝液系統(tǒng)的高能處理能源，例如傳送設(shè)備322，使用一個磁場、電磁場、電場、可見或不可見寬頻帶江或單色光、或任何其他能源，激勵原始溶液322。于是使原始溶液314處于一種改變的能量狀態(tài)，并且通過閉路管324、管道系統(tǒng)等，用一個泵332或其他裝置，把原始溶液送入水池。然后使從原始溶液314放出的能量射入二次溶液318，從而改變二次溶液18的物理特性，即pH值、導電率、Z-電勢、粘度、表面張力、水合力、或二次溶液318的任何其他特性，以便在鍋爐內(nèi)鍋爐管道/蒸汽/冷凝液系統(tǒng)中、工業(yè)蒸汽/低壓蒸汽系統(tǒng)中、或其他熱傳遞表面上，影響水垢的形成或腐蝕。12.用于注入燃料添加劑的高能處理的系統(tǒng)能源，例如傳送設(shè)備322，使用一個磁場、電磁場、電場、可見或不可見寬頻帶光或單色光、或任何其他能源，激勵原始溶液314。于是使原始溶液314處于一種改變的能量狀態(tài)，并且通過閉路管324、管道系統(tǒng)等，用一個泵332或其他裝置，把原始溶液送入注入溶液添加劑貯槽316中。然后使從原始溶液314放出的能量射入二次溶液318中，從而改變二次溶液318的物理特性，即pH值、導電率、Z-電勢、粘度、表面張力、水合力、或二次溶液318的任何其他特性，以便在把這種溶液注入燃料源、誘導系統(tǒng)或燃燒室時影響它的特性，用于改善燃料特性，減少有害的排氣輻射，改良燃料燃燒特性，減少爆嗚聲和發(fā)爆聲，或者換句話說，改進發(fā)動機性能。13.脫鹽系統(tǒng)中水處理能源，例如傳送設(shè)備322，使用一個磁場、電磁場、電場、可見或不可見寬頻帶光或單色光、或任何其他能源，激勵原始溶液314。于是使原始溶液314處于一種改變的能量狀態(tài)，并且通過閉路管324、管道系統(tǒng)等，用一個泵332或其他裝置，把原始溶液送入脫鹽系統(tǒng)入口水318中。然后使從原始溶液314放出的能量射入二次溶液318中，從而改變二次溶液318的物理特性，即pH值、導電率、Z-電勢、粘度、表面張力、水合力、或二次溶液318的任何其他特性，以便這樣影響鹽水特性膠體顆粒會絮凝或成團，從而可以用大篩孔機械過濾器或離心器之類裝置來預(yù)先過濾水。14.半導體淀積系統(tǒng)中化學處理能源，例如傳送設(shè)備322，使用一個磁場、電磁場、電場、可見或不可見寬頻帶光或單色光、或任何其他能源，激勵原始溶液314。于是使原始溶液314處于一種改變的能量狀態(tài)，并且通過閉路管324、管道系統(tǒng)等，用一個泵332或其他裝置，把原始溶液送入淀積系統(tǒng)貯槽316中。然后使從原始溶液314放出的能量射入二次溶液318中，從而改變二次溶液318的物理特性，即pH值、導電率、Z-電勢、粘度、表面張力、水合力、或二次溶液318的任何其他特性，以便影響對淀積溶液膠體顆粒的表面吸引特性，于是能夠涂上一些較薄較均勻的涂層。15.改進感光乳劑/光顯影循環(huán)，例如半導體淀積系統(tǒng)能源，例如傳送設(shè)備322，使用一個磁場、電磁場、電場?？梢娀虿豢梢妼掝l帶光或單色光，或任何其他能源，激勵原始溶液314。于是使原始溶液314處于一種改變的能量狀態(tài)，并且通過閉合管324，管道系統(tǒng)等，用一個泵332或其他裝置，把原始溶液送入淀積系統(tǒng)貯槽316中。然后使從原始溶液314放出的能量射入二次溶液318中，從而改變二次溶液318的物理特性，即pH值、導電率、Z-電勢、粘度、表面張力、水合力、或二次溶液318的任何其他特性；以便影響感光乳劑中膠體顆粒的質(zhì)量和尺寸分布的特征，從而改善顆粒尺寸和彩色再現(xiàn)，并且處理顯影和加工中使用的各種溶液，從而改善吸收率/顯影均勻性，改良圖像質(zhì)量和生產(chǎn)時間。16.改進涂料涂敷附著力和固化能源，例如傳送設(shè)備322，使用一個磁場、電磁場、電場、可見或不可見寬頻帶光或單色光，或任何其他能源，激勵原始溶液314。于是使原始溶液314處于一種改變的能量狀態(tài)，并且通過閉路管324、管道系統(tǒng)等，用一個泵332或其他裝置，把原始溶液送入系統(tǒng)貯槽316。然后使從原始溶液314放出的能量射入二次溶液318，從而改變二次溶液318的物理特性，即pH值、導電率、Z-電勢、粘度、表面張力、水合力、或二次溶液318的任何其他特性，以便在涂料的制作和涂敷期間，影響涂料中膠體顆粒的質(zhì)量和尺寸分布的特性，從而控制色料尺寸分布、底漆聚合物特性、以及凹陷、涂敷厚度、干燥時間、完工質(zhì)量和硬度。17.改進電鍍加工能源，例如傳送設(shè)備322，使用一個磁場、電磁場、電場、可見或不可見寬頻帶光或單色光、或任何其他能源、激勵原始溶液314。于是使原始溶液314處于一種改變的能量狀態(tài)，并且通過閉路管324、管道系統(tǒng)等，用一個泵332或其他裝置，把原始溶液送入電鍍?nèi)芤?電鍍槽316中。然后便從原始溶液314放出的能量射入二次溶液318中，從而改變二次溶液318的物理特性，即pH值、導電率、Z-電勢、粘度、表面張力、水合力、或二次溶液318的任何其他特性，以便影響電鍍?nèi)芤旱奶匦?，從而控制被電鍍表面的純度、密度和孔隙度?8.在農(nóng)業(yè)灌溉中減小蒸發(fā)損失的水處理能源，例如傳送設(shè)備322，使用一個磁場、電磁場、電場、可見或不可見寬尖帶光或單色光、或任何其他能源，激勵原始溶液314。于是使原始溶液314處于一種改變的能量狀態(tài)，并且通過閉路管324、管道系統(tǒng)等，用一個泵332或其他裝置，把原始溶液送入裝有灌溉水的加工容器/槽316中。然后使從原始溶液出的能量射入二次溶液318中，從而改變二次溶液318的物理特性，即pH值、導電率、Z-電勢、粘度、表面張力、水合力、或二次溶液318的任何其他特性，以便影響土壤生長媒體用來吸收水份的速率，并減少水的用量，從而增加農(nóng)業(yè)綜合企業(yè)利潤。雖然最好是在處理站312與加工站316之間對一個與二次溶液318隔離的原始溶液314進行再循環(huán)，但認為任何在站312與站316之間運送一種溶液以促進利用二次發(fā)射的處理的系統(tǒng)，均應(yīng)屬于本發(fā)明的范圍以內(nèi)。圖17-20是一些系統(tǒng)的示范性實施例，它們都通過使經(jīng)處理的原始溶液314處于二次溶液318的附近來處理二次溶液318。圖17只作為例子示出一個處理系統(tǒng)310，在此，把原始溶液314裝在處理站312內(nèi)。在處理站312與處理二次溶液318的加工站316之間的管道324中，再循環(huán)經(jīng)處理的原始溶液314。在這個實例中，原始溶液314和二次溶液318是互相隔離的。相反地，圖18示出一個處理系統(tǒng)310，在此，在加工站316與處理站312之間的管道324中，再循環(huán)二次溶液318。在處理站312，用來自原始溶液314的二次發(fā)射來處理二次溶液318。在這個實例中，選擇原始溶液314裝于處理站312中一個槽內(nèi)，即它就是裝在傳送設(shè)備322內(nèi)的溶液(例如，見圖11中流體114)。在兩種情況下，原始溶液314和二次溶液318都是互相隔離的。圖19示出一個處理系統(tǒng)310，在此，使用一對循環(huán)泵332a和332b使二次溶液318在加工站316與處理站312之間雙向流動。在這個實例中，原始溶液314就是裝在傳送設(shè)備322內(nèi)的溶液(見圖11中流體114)是與二次溶液318隔離的。把在處理站312的槽內(nèi)處理過的二次溶液同在加工站316的槽內(nèi)未處理的二次溶液進行混合，從而處理剩下的二次溶液。圖20示出一個處理系統(tǒng)310，在此，使原始溶液314從一個使用具有RF調(diào)制能量的傳送設(shè)備322來處理它的處理站312，均勻地傳送到一個使用來自原始溶液314的二次輻射326來處理二次溶液318的加工站316中。圖21示出一個用于實施上述方法的示范性系統(tǒng)350。在這個系統(tǒng)中，一個類似于參照圖12所示設(shè)備的傳送設(shè)備352，被改進成容許一個再循環(huán)管354，可以通過一個圍繞電壓探頭196的腔194來傳送原始溶液314。(參看圖22，這是傳送設(shè)備352的截面端視圖，可看出再循環(huán)管354與腔194之間的關(guān)系)。如前所述，電壓探頭196受到處理該腔194中周圍溶液的RF調(diào)掉能量的作用。然而，在這個實施例中，周圍的原始溶液314是用循環(huán)泵332通過管道354和324進行再循環(huán)的。再循環(huán)的原始溶液314是通過一個遠程原始溶液槽356進行循環(huán)的，頗為類似于上述的輻射器回路330，槽356位于緊挨著一個裝有二次溶液318的加工溶液槽358的地方。在這個實施例中，把原始溶液槽356與加工溶液槽358結(jié)合起來，形成加工站316。由于原始溶液槽356中所裝的經(jīng)處理的原始溶液314的數(shù)量大和它緊靠加工溶液槽358，就足以使二次輻射能夠處理加工站316中的二次溶液318。業(yè)已透露，來自經(jīng)處理的原始溶液的二次輻射能夠改良一種緊挨著放置的二次溶液的特性。此外，也已透露，屏蔽能夠影響這種二次輻射傳遞。因此，認為在處理站312與裝有再循環(huán)處理原始溶液的加工站316(見圖16)之間，以及在處理站312與驅(qū)動電子器件344之間的管道324部分，最好加以屏蔽，以便對可能放置于處理系統(tǒng)310附近的任何額外的溶液，限制其二次輻射引起的照射。雖然上面描述了傳送設(shè)備的目前優(yōu)選實施例，但圖23A-23F示出一些附加的設(shè)計準則，它們能夠用于建造附加的傳送設(shè)備，這些設(shè)備可處理一種流體，即以后用來處理二次溶液318的原始溶液314。在圖23A中，在由RF調(diào)制信號376與378獨立地驅(qū)動的兩個金屬板372與374之間容納或循環(huán)一種流體370。每個板都最好覆蓋一個薄的絕緣材料涂層380，使流體370與電場板372或374之間沒有電連接。在圖23B中，在由RF調(diào)制信號376與378獨立地驅(qū)動的兩個金屬板372與374之間容納或循環(huán)一種流體370。在這個實施例中，只有一個板，例如板372是覆蓋一個薄的絕緣材料涂層380的，使流體370與一個電場板，例如只有板374之間有電連接。在圖23C中，在由RF調(diào)制信號376與378獨立地驅(qū)動的兩個金屬板372與374之間容納或循環(huán)一種流體370。然而，在這個實施例中，兩個板都不覆蓋絕緣材料涂層，從而每個板都具有同流體370的電連接。在圖23D中，在由RF調(diào)制信號376與375獨立地驅(qū)動的兩個金屬板372與374之間容納或循環(huán)一種流體370。在這個實施例中，靠近流體370的金屬板的表面積被擴大，使來自信號376和378的RF調(diào)制能量對流體370的照射量增加。金屬板，可能還有涂層，如參照圖23A-23C所述。在圖23E中，通過一個有中央電極的導電管或管道382容納或循環(huán)一種流體370。導電管382和中央電極384是獨立地由RF調(diào)制信號376和378驅(qū)動的。導電管382和中央電極384可以有涂層，如參照圖23A-23C所述。在圖23F中，在RF調(diào)制信號394、396、398和400獨立地驅(qū)動的多個金屬板386、388、390和392之間，容納或循環(huán)一種流體370。金屬板可以具有絕緣材料涂層，如參照圖23A-23C所述。多個RF調(diào)制信號中的兩個信號最好是相移的，以便在泫體370中建立一個旋轉(zhuǎn)電場。雖然只參照這些現(xiàn)在優(yōu)選的實施例詳細地描述了本發(fā)明，但本專業(yè)的普通技術(shù)人員會了解能夠作出各種修正而不背離本發(fā)明。例如本專業(yè)的普通技術(shù)人員可以設(shè)想使原始溶液314和二次溶液318互相靠近地運送，以便遙控地處理二次溶液。此外，還可以設(shè)想結(jié)合任何透露輻射器或相當裝置的任何透露實施例，以改進傳送設(shè)備的功效。因此，由下述權(quán)利要求書確定本發(fā)明。權(quán)利要求1.一種用于把電磁能送入一種溶液的設(shè)備，包括一個第一管狀殼，具有確定一個第一不透水腔的一些封閉端；線圈裝置，裝于所述第一腔之內(nèi)；所述線圈裝置把一個磁場送入該溶液中；電壓探測裝置，耦合于所述線圈裝置，用于把一個電場送入該溶液中；和用于把電磁信號耦合到所述線圈裝置的裝置。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述的電壓探測裝置裝于所述設(shè)備之內(nèi)，且和溶液保持電絕緣。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其中所述的電壓探測裝置包括一個不導電的內(nèi)板，耦合于所述第一殼的內(nèi)表面，并且確定所述第一腔的一個第一端；一個不導電的外表面，耦合于所述和一殼的一個第一端，并且在所述內(nèi)板和外板與所述第一殼之間確定一個第二不透水腔；一個導電板，裝于所述第二腔之內(nèi)，用于把一個電場送入該溶液中；一個導體，用于把所述板耦合于所述線圈裝置；和密封裝置，用于把所述的導體從裝有所述線圈裝置的所述第一腔，轉(zhuǎn)到裝有所述板的所述第二腔。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其中所述的第二腔充滿一種流體。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的設(shè)備，其中所述的流體是去離子水。6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其中所述的線圈裝置包括一個導電抽頭線圈，該線圈具有一個第一端，一個第二端和一個內(nèi)抽頭；所述的電磁信號耦合于所述第一端和所述內(nèi)抽頭，而所述的電壓探測裝置耦合于所述第二端。7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其中所述的線圈裝置包括一個電耦合于所述電磁信號的導電初級線圈，和一個電感地耦合于所述初級線圈的導電次級線圈；所述的電壓探測裝置耦合于所述次級線圈。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述的線圈裝置包括一個電耦合于所述電磁信號的導電初級線圈，和一個電感地耦合于所述初級線圈的導電次級線圈；所述的電壓探測裝置耦合于所述次級線圈。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述的線圈裝置包括一個導電抽頭線圈，該線圈具有一個第一端，一個第二端和一個內(nèi)抽頭；所述的電磁信號耦合于所述第一端和所述內(nèi)抽頭，而所述的電壓探測裝置耦合于所述第二端。10.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其中所述的電壓探測裝置包括一個第二不透水殼，耦合于所述第一殼的一個外表面；所述的第二殼具有確定一個第二腔的一個內(nèi)表面；一個導電板，裝于所述第二腔之內(nèi)，用于把一個電場送入溶液中；一個導體，用于把所述板耦合于所述線圈裝置；和密封裝置，用于把所述的導體從裝有所述線圈裝置的所述第一腔，轉(zhuǎn)到裝有所述板的所述第二腔。11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的設(shè)備，其中所述的第二腔充滿一種流體。12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的設(shè)備，其中所述的流體是去離子水。13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的設(shè)備，還另外包括一個第三不導電不透水殼，耦合于所述第二殼；所述的第三殼確定一個第三腔，該腔通過一個公共通道而耦合于所述第二腔。14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的設(shè)備，其中所述的第二腔和第三腔都充滿一種流體。15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的設(shè)備，其中所述的流體是去離子水。16.根據(jù)權(quán)利要求13所述的設(shè)備，其中所述的第三殼具有一個弓形的外表面，用于在外部耦合于一個管道、槽、或其他彎曲表面。17.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述的線圈裝置對耦合于所述電7壓探測裝置的所述電磁信號，提高其振幅。18.一種用于把電磁能送入一種溶液的系統(tǒng)，包括一個信號發(fā)生器，用于生成一個調(diào)制的RF信號輸出；一個第一管狀殼，具有確定一個第一不透水腔的一些封閉端；線圈裝置，裝于所述第一腔之內(nèi)，用于把一個磁場送入溶液中；電壓探測裝置，耦合于所述線圈裝置，用于把一個電場送入溶液中；和用于把所述調(diào)制的RF信號耦合于所述線圈裝置的裝置。19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的電磁傳送系統(tǒng)，其中所述的信號發(fā)生器包括用于設(shè)置所述RF信號振幅的裝置；和用于設(shè)置所述RF信號工作循環(huán)的裝置；所述的振幅和工作循環(huán)設(shè)置裝置生成所述的調(diào)制RF信號。20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的電磁傳送系統(tǒng)，其中所述的振幅和所述的工作循環(huán)都是根據(jù)試驗數(shù)據(jù)設(shè)置的。21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的電磁傳送系統(tǒng)，另外包括傳感裝置，用于測量溶液中的電磁能；所述的傳感裝置耦合于所述的振幅和工作循環(huán)設(shè)置裝置，以便確定所述RF信號的所述振幅和工作循環(huán)。22.一種用于把電磁能送入一種溶液的設(shè)備，包括一個電壓探測組件，包含一個第一不導電空心殼，用于確定一個第一不透水腔；一個導電探頭，中心地裝于所述第一腔內(nèi)；和一個流體，大體上圍繞所述第一腔內(nèi)的所述導電探頭；用于生成一個RF調(diào)制信號的裝置；和用于把所述RF調(diào)制信號耦合于所述電壓探測組件的裝置。23.根據(jù)權(quán)利要求22所述的設(shè)備，另外包括一個第二管狀殼，它具有確定一個第二不透水腔的一些封閉端，其中所述電壓探測組件和所述RF調(diào)制信號發(fā)生裝置都裝在所述第二殼之內(nèi)。24.根據(jù)權(quán)利要求23所述的設(shè)備，其中所述的RF調(diào)制信號發(fā)生裝置包括一個螺旋形線圈，具有第一和和二端和一個中心抽頭；和一個RF發(fā)生器，耦合于所述螺旋形線圈的所述第一端和所述中心抽頭，其中所述電壓探測組件耦合于所述螺旋形線圈的所述第二端。25.根據(jù)權(quán)利要求25所述的設(shè)備，其中所述的第二不透水腔被基本上分成三段一個第一不導電段，圍繞所述電壓探測組件；一個第二不導電段，基本上圍繞所述的RF發(fā)生器；和一個第三導電段，基本上圍繞所述的螺旋形線圈。26.一種用于處理一種溶液的方法，包括下述步驟把RF調(diào)制能量加到一個第一溶液中；和使所述的第一溶液靠近一個第二溶液，以處理所述的第二溶液。27.一種用于處理一種溶液的方法，包括下述步驟在一個處理站把RF調(diào)制能量加到一個第一溶液中；把所述的第一溶液從所述處理站運送到一個裝有一個第二溶液的加工站中；和使所述的第一溶液靠近所述的第二溶液，以處理所述的第二溶液。28.根據(jù)權(quán)利要求27所述的方法，其中所述的運送步驟另外包括在所述處理站與所述加工站之間再循環(huán)所述的第一溶液。29.一種用于處理一種溶液的方法，包括下述步驟在一個處理站把RF調(diào)制能量加到一個第一溶液中；把一個第二溶液從一個加工站運送到所述的處理站中；使所述的第二溶液靠近所述處理過的第一溶液，以處理所述的第二溶液；和使所述的第二溶液返回到所述的加工站。30.一種用于處理一個溶液的系統(tǒng)，包括一個傳送設(shè)備，用于把RF調(diào)制能量送入一個原始溶液中，以處理所述的溶液；一個處理站，裝有所述的傳送設(shè)備；一個加工站，裝有一個要用所述系統(tǒng)處理的第二溶液；和一個閉合回路管道設(shè)備，用于在所述處理站與所述加工站之間，對與所述二次溶液隔離的所述處理過的原始溶液，進行再循環(huán)；所述的閉合回路管道設(shè)備具有一個貼近所述傳送設(shè)備的第一端通道，和一個貼近所述加工站內(nèi)所述二次溶液的第二端通道，并且其中所述的二次溶液是通過把它貼近所述處理過原始溶液來處理的。31.根據(jù)權(quán)利要求30所述的系統(tǒng)，其中所述的閉合回路管道設(shè)備包括一個閉合回路管道，裝有所述的原始溶液；和一個循環(huán)泵，用于維持所述處理過的原始溶液在所述的閉合回路管道之內(nèi)流動。32.根據(jù)權(quán)利要求30所述的系統(tǒng)，其中所述的閉合回路管道設(shè)備是受到保護，不受所述處理過原始溶液中所含二次輻射影響的。33.根據(jù)權(quán)利要求30所述的系統(tǒng)，其中所述的處理站是受到保護，不受所述處理過原始溶液中所含二次輻射影響的。34.根據(jù)權(quán)利要求30所述的系統(tǒng)，其中所述的閉合回路管道設(shè)備另外包括，一個裝在所述加工站內(nèi)的輻射器，用于分配所述二次溶液內(nèi)的所述處理過原始溶液。35.根據(jù)權(quán)利要求30所述的系統(tǒng)，其中所述的傳送設(shè)備包含一個由所述設(shè)備處理的能量接收溶液；所述的原始溶液由于它貼近所述能量接收溶液而受到處理。36.根據(jù)權(quán)利要求30所述的系統(tǒng)，另外包括驅(qū)動電子器件，用于向所述傳送設(shè)備提供所述RF調(diào)制能量；和一個位于所述二次溶液內(nèi)的傳感器，用于測量一個相當于所述二次溶液處理的數(shù)值；所述的傳感器耦合于所述的驅(qū)動電子器件，用于修改那種供給所述傳送設(shè)備的所述RF調(diào)制能量的數(shù)量。37.根據(jù)權(quán)利要求30所述的系統(tǒng)，其中所述的傳送設(shè)備包括一個電壓探頭，裝于一個充滿所述原始溶液的腔中；所述電壓探頭由所述RF調(diào)制能量來驅(qū)動，以處理所述的原始溶液；和一個耦合于所述腔的再循環(huán)管道，用于使所述原始溶液流過所述腔；所述的再循環(huán)管道耦合于所述的閉合回路管道設(shè)備，用于再循環(huán)所述的處理過的原始溶液。38.根據(jù)權(quán)利要求30所述的系統(tǒng)，其中所述的加工站包括一個加工溶液槽，裝有所述的二次溶液；和一個貼近所述加工溶液槽的原始溶液槽，用于從所述處理站接收所述的處理過的原始溶液。全文摘要一種用于把電磁能送入一種溶液的設(shè)備,包括:一個第一管狀殼,具有確定一個第一不透水腔的一些封閉端;線圈裝置,裝于所述第一腔之內(nèi);所述線圈裝置把一個磁場送入該溶液中;電壓探測裝置,耦合于所述線圈裝置,用于把一個電場送入該溶液中;和用于把電磁信號耦合到所述線圈裝置的裝置。文檔編號B01J19/08GK1175913SQ96192011公開日1998年3月11日申請日期1996年1月22日優(yōu)先權(quán)日1995年1月25日發(fā)明者德萬·E·莫爾斯,詹姆斯·H·庫克,托馬斯·G·馬瑟利,小哈沃德·M·哈姆申請人:Z·P·M·公司