專利名稱：一種改進的液體再分布裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及化工設(shè)備中的塔設(shè)備領(lǐng)域，具體的講，是涉及一種改進的液體再分布裝置。
背景技術(shù)：
塔附件的是為了使氣液在塔內(nèi)更好的接觸，以便發(fā)揮塔的最大效率和生產(chǎn)能力， 因此塔附件是塔的重要組成部分。液體在亂堆填料層內(nèi)向下流動時，有偏向塔壁流動的現(xiàn)象，偏流往往造成塔中心的填料不被濕潤，降低表面利用率。塔徑越小，對應(yīng)于單位塔截面積的周邊越長，這種現(xiàn)象越嚴重。為將流到塔壁處的液體重新匯集并引向塔中央?yún)^(qū)域，可在填料層內(nèi)每隔一定高度設(shè)置液體再分布裝置。每段填料層的高度因填料種類而異，對于拉西環(huán)填料，可為塔徑的 2. 5-3倍，對于鮑爾環(huán)及鞍形填料，可為塔徑的5-10倍，但通常填料層高度最多不超過6m。液體再分布裝置的形式有截錐型、管型、槽型、槽盤型、盤管型等。在安裝再分布裝置時，應(yīng)注意其自由截面積不得小于填料層的自由截面積，以免當氣速增大時首先在此處發(fā)生液泛。在一些特殊的塔設(shè)備上，當塔附件不能滿足設(shè)計和改造的要求時，需要進行特殊的設(shè)計才能達到理想的效果。例如，在塔直徑小于0. 7m時，人們可能進入塔內(nèi)進行焊接操作，此時，塔的液體再分布裝置需要選擇截錐式液體再分布裝置，有些截錐式再分布裝置是將截錐筒體直接焊接在塔壁上，截錐筒本身不占空間，上下能充滿填料；還有一種截錐式液體再分布裝置，是在截錐筒的上方加設(shè)支承板，截錐下面要隔一段距離再放填料，當需分段卸出填料時，就需要采用這種再分布裝置了。但是其弊端是焊接件在長期使用過程中，老化腐蝕，不易維修更換，再分布裝置的穩(wěn)定性不高。

發(fā)明內(nèi)容
針對上述技術(shù)問題，本發(fā)明的目的是提供一種穩(wěn)定性好，牢固可靠，且便于維修的改進的液體再分布裝置。本發(fā)明所要解決的技術(shù)方案如下一種改進的液體再分布裝置，是由收集器、斜型支撐柱、再分布盤、密封卡簧、密封環(huán)、密封支撐圈、塔壁構(gòu)成的；在填料層之間的液體再分布裝置上段的收集器和下段的再分布盤依靠傾斜立柱連接，再分布盤和收集器和塔壁直接依靠密封裝置固定支承，密封裝置是由密封卡簧、密封環(huán)、密封支撐圈構(gòu)成的，密封環(huán)固定于塔壁上，密封環(huán)和密封支撐圈之間為密封卡簧，再分布盤固定于密封支撐圈上。所述的再分布盤為斜錐式液體再分布盤。所述的密封支撐圈的外徑小于塔的內(nèi)直徑10_20mm。所述的密封環(huán)高度高于收集器與再分布器之間的垂直距離100_200mm。本發(fā)明的優(yōu)點在于改進的液體再分布裝置，解決了某些塔體不易焊接的問題，解決了塔內(nèi)液體再分布裝置不易維修更換的弊端。


圖1為本發(fā)明一種改進的液體再分布裝置。圖1所示的附圖標記如下收集器1、斜型支撐柱2、再分布盤3、密封卡簧4、密封環(huán)5、密封支撐圈6、塔壁7。
具體實施例方式本發(fā)明所要解決的技術(shù)方案如下一種改進的液體再分布裝置，是由收集器1、斜型支撐柱2、再分布盤3、密封卡簧4、密封環(huán)5、密封支撐圈6、塔壁7構(gòu)成的；在填料層之間的液體再分布裝置上段的收集器1和下段的再分布盤3依靠傾斜立柱連接，再分布盤3和收集器1和塔壁7直接依靠密封裝置固定支承，密封裝置是由密封卡簧4、密封環(huán)5、密封支撐圈6構(gòu)成的，密封環(huán)5固定于塔壁上，密封環(huán)5和密封支撐圈6之間為密封卡簧4，再分布盤3固定于密封支撐圈6上。所述的再分布盤4為斜錐式液體再分布盤。所述的密封支撐圈6的外徑小于塔的內(nèi)直徑10_20mm。所述的密封環(huán)5高度高于收集器與再分布器之間的垂直距離100-200mm。本發(fā)明的優(yōu)點在于改進的液體再分布裝置，解決了某些塔體不易焊接的問題，解決了塔內(nèi)液體再分布裝置不易維修更換的弊端。
權(quán)利要求
1.一種改進的液體再分布裝置，其特征在于本發(fā)明所要解決的技術(shù)方案如下一種改進的液體再分布裝置，是由收集器、斜型支撐柱、再分布盤、密封卡簧、密封環(huán)、密封支撐圈、塔壁構(gòu)成的；在填料層之間的液體再分布裝置上段的收集器和下段的再分布盤依靠傾斜立柱連接，再分布盤和收集器和塔壁直接依靠密封裝置固定支承，密封裝置是由密封卡簧、密封環(huán)、密封支撐圈構(gòu)成的，密封環(huán)固定于塔壁上，密封環(huán)和密封支撐圈之間為密封卡簧，再分布盤固定于密封支撐圈上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種改進的液體再分布裝置，其特征在于所述的再分布盤為斜錐式液體再分布盤。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種改進的液體再分布裝置，其特征在于所述的密封支撐圈的外徑小于塔的內(nèi)直徑10-20mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種改進的液體再分布裝置，其特征在于所述的密封環(huán)高度高于收集器與再分布器之間的垂直距離100-200mm。
全文摘要
本發(fā)明涉及化工設(shè)備中的塔設(shè)備領(lǐng)域，具體的講，是涉及一種改進的液體再分布裝置。由收集器、斜型支撐柱、再分布盤、密封卡簧、密封環(huán)、密封支撐圈、塔壁構(gòu)成的；在填料層之間的液體再分布裝置上段的收集器和下段的再分布盤依靠傾斜立柱連接，再分布盤和收集器和塔壁直接依靠密封裝置固定支承，密封裝置是由密封卡簧、密封環(huán)、密封支撐圈構(gòu)成的，密封環(huán)固定于塔壁上，密封環(huán)和密封支撐圈之間為密封卡簧，再分布盤固定于密封支撐圈上。改進的液體再分布裝置，解決了某些塔體不易焊接的問題，解決了塔內(nèi)液體再分布裝置不易維修更換的弊端。
文檔編號B01D53/18GK102423541SQ20111033759
公開日2012年4月25日 申請日期2011年11月1日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月1日
發(fā)明者王宇菲, 王艷妹 申請人:沈陽創(chuàng)達技術(shù)交易市場有限公司