專利名稱：流體壓差式納米研磨裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型一種流體壓差式納米研磨裝置，尤其是一種利用高壓研磨的方 式使固體或氣體能充分與流體混合的流體壓差式納米研磨裝置。
背景技術(shù)：
在人類生活的環(huán)境中，因溫度的差異，而讓物質(zhì)呈現(xiàn)氣態(tài)、液態(tài)或固態(tài)的 三相變化，在常溫下，氣態(tài)的物質(zhì)包括元素和化合物等，而液態(tài)的物質(zhì)亦包括 有元素與化合物，而元素與化合物之間、有機(jī)物與無機(jī)物之間、氣體與液體之 間、液體與固體之間的溶解度皆會(huì)因?yàn)橄嗟淖兓约拔锢硇再|(zhì)的不同而產(chǎn)生差 異，所以要增加其相互間的溶解度，則勢(shì)必要藉助外力或使用特定的儀器輔助 力育b《A 。
目前所使用的方法大多利用加壓的方式來促進(jìn)兩相物質(zhì)之間的溶解度，例 如使固體粉末溶于液體中，或?qū)怏w溶于液體中，然而，目前并無儀器能在將 固體粉末溶于液體或?qū)怏w溶于液體的同時(shí)，將固體粉末或氣體納米化，而使
其均勻分散于液體中，故仍有開發(fā)的必要。 發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明人有鑒于目前并無任何將固體粉末或氣體納米化，以使其均勻分散 于液體中的裝置，因此經(jīng)過不斷的研究以及試驗(yàn)之后，終于發(fā)明出此流體壓差 式納米研磨裝置。
本實(shí)用新型的目的在于提供一種利用高壓研磨的方式使固體或氣體能充分 與流體混合的流體壓差式納米研磨裝置。
為達(dá)上述目的，本實(shí)用新型的流體壓差式納米研磨裝置，其包括 一原料進(jìn)料槽，其連通有一進(jìn)料管，并連接有一原料出料管，且該原料出料管上設(shè)有一加壓泵浦；
一液體供應(yīng)單元，其連通于該原料出料管； 一氣體供應(yīng)單元，其連通于該原料出料管；
一均壓裝置，其包括一均壓筒、 一加壓原料進(jìn)料管、 一氣液分離器、 一壓 力表、至少一納米研磨器，該加壓原料進(jìn)料管的一端連接于該均壓筒，且與該 原料出料管連通，該氣液分離器設(shè)置該均壓筒，并與該均壓筒連通，該壓力表 設(shè)置于該均壓筒，該納米研磨器設(shè)置于該均壓筒，并與該均壓筒連通，并且以 一回流管連接至該原料進(jìn)料槽；
一后處理設(shè)備，其連接于該納米研磨器。
其中，連接各元件的管線皆可設(shè)有閥，以控制該流體壓差式納米研磨裝置 的操作。較佳的是，該回流管設(shè)有一電磁閥。
較佳的是，該原料進(jìn)料槽的進(jìn)料管連通于該原料進(jìn)料槽近頂部處，而該原 料進(jìn)料槽的原料出料管設(shè)置于該原料進(jìn)料槽的底部。
較佳的是，該液體供應(yīng)單元以一液體添加料管連接至該原料出料管，且該 液體添加料管設(shè)有 一 液體流量計(jì)。
較佳的是，該氣體供應(yīng)單元包括至少一氣體鋼瓶，其數(shù)量可依所需的氣體 量來決定，而氣體的種類亦依照所欲混合的氣體來決定；其中，該氣體供應(yīng)單 元以一氣體添加料管連接至該原料出料管，且該氣體添加料管設(shè)有一氣體流量計(jì)。
其中，該均壓筒的底部設(shè)有一原料入料接頭，以與該加壓原料進(jìn)料管的一 端連接。
較佳的是，該氣液分離器設(shè)置于該均壓筒的頂部，而該均壓裝置包括一第 一納米研磨器以及一第二納米研磨器，該第一納米研磨器以及該第二納米研磨 器則設(shè)置于該均壓筒的側(cè)邊，且可呈對(duì)向設(shè)置，該回流管連通于該第一納米研 磨器，而該后處理設(shè)備連接于該第二納米研磨器。
其中，該后處理設(shè)備包括一裝瓶機(jī)，其由一裝瓶入料管與該納米研磨器連 接，且該裝瓶入料管設(shè)有一 電磁閥。
其中，該后處理設(shè)備包括一釋壓槽，其底部設(shè)有一釋壓排放管，該釋壓槽 以一釋壓槽入料管連接于該納米研磨器，且該釋壓槽入料管設(shè)有一電磁閥。
較佳的是，該后處理設(shè)備同時(shí)包括上述裝瓶機(jī)以及該釋壓槽二者。
其中，該原料進(jìn)料槽供應(yīng)液體原料，而該液體供應(yīng)單元供應(yīng)液體或添加有固體粉末的液體，而該氣體供應(yīng)單元供應(yīng)氣體。
本實(shí)用新型的技術(shù)效果在于，以液體為主要原料，在加壓過程中加入適當(dāng) 的固體、液體或氣體，經(jīng)納米研磨之后，使得固體粉末在液體中納米化，并使 氣體強(qiáng)制溶入液體中產(chǎn)生納米氣泡，或者使得無機(jī)液體和有機(jī)液體產(chǎn)生乳化反 應(yīng)，因此，本實(shí)用新型能提供不同相的物質(zhì)均勻混合的效果。


圖1為本實(shí)用新型的管線布置圖2為本實(shí)用新型的均壓裝置的立體圖3為本實(shí)用新型的均壓裝置的平面圖4為本實(shí)用新型納米研磨器的剖面俯視圖5為本實(shí)用新型納米研磨器的前部的剖面俯視圖6為本實(shí)用新型納米研磨器的研磨片的端視圖7為本實(shí)用新型納米研磨器的正轉(zhuǎn)研磨片的剖面?zhèn)纫晥D8為本實(shí)用新型納米研磨器的反轉(zhuǎn)研磨片的剖面?zhèn)纫晥D9為本實(shí)用新型納米研磨器的后部的剖面俯視圖。
附圖標(biāo)記說明
IO-原料進(jìn)料槽；11-進(jìn)料管；111、 121、 122-水閥；12-原料出料管；13-加壓泵浦；20-液體供應(yīng)單元；21-液體添加沖+管；22-液體流量計(jì)；30-氣體供 應(yīng)單元；31-氣體添加料管；32-氣體流量計(jì)；40-均壓裝置；41-均壓筒；411-原料入料接頭；42-加壓原料進(jìn)料管；43-氣液分離器；431-排氣口； 44-壓力表；； 45-第一納米研磨器；"1-回流管；4511-研磨器出口管；452-電磁閥；46-第二 納米研磨器；461-中空外殼；4611a、 4611b-研磨器出口管；4612-近端；4613-遠(yuǎn)端；4614-流體入口； 4615-內(nèi)部空間；4616-環(huán)擋部；462-蓋體；462卜中央 穿孔；463-研磨片；463a-正轉(zhuǎn)研磨片；463b-反轉(zhuǎn)研磨片；4631-中軸孔；4632、 4632a、 4632b-導(dǎo)流孔；464-中軸固定桿；4641-桿體；4642-第一墊片；465-調(diào) 壓桿；4651-桿體；4652-第二墊片；4653-螺旋工具旋口； 466-橡膠密封圏；467-定位螺帽；468-固定螺帽；50-后處理設(shè)備；51-裝瓶機(jī)；52-裝瓶入料管；521-電磁閥；5 3-釋壓槽；54-釋壓槽入料管；541-電磁閥；55-釋壓排放管；551-控 制閥。
具體實(shí)施方式

請(qǐng)參看圖1所示，本實(shí)用新型的流體壓差式納米研磨裝置，其包括一原料
進(jìn)料槽10、 一液體供應(yīng)單元20、 一氣體供應(yīng)單元30、 一均壓裝置40以及一后 處理設(shè)備50。
該原料進(jìn)料槽10內(nèi)盛裝有液體原料，而該原料進(jìn)料槽10的側(cè)邊近頂部的 位置連通有一進(jìn)料管11,該進(jìn)料管11設(shè)有一水閥111,而該原料進(jìn)料槽10的 底部連接有一原料出料管12,且該原料出料管12上設(shè)有一加壓泵浦13,該原 料出料管12間隔設(shè)有多個(gè)水閥121、 122;
該液體供應(yīng)單元20以一液體添加料管21連接至該原料出料管12,且于該 原料進(jìn)料槽10以及該加壓泵浦13之間的位置，而該液體添加料管21設(shè)有一液 體流量計(jì)22,該液體供應(yīng)單元20可提供液體或含有固體粉末的液體；
該氣體供應(yīng)單元30以一氣體添加料管31連接至該原料出料管12,且于該 原料進(jìn)料槽10以及該加壓泵浦13之間的位置，而該氣體添加料管31上設(shè)有一 氣體流量計(jì)32;
請(qǐng)附加參看圖2及圖3所示，該均壓裝置40包括一均壓筒41 、 一加壓原 料進(jìn)料管42 (圖中未示)、 一氣液分離器43、 一壓力表44、至少一納米研磨器。 在本實(shí)施例中，該均壓裝置40包括一第一納米研磨器45以及一第二納米研磨 器46。該均壓筒"的底部設(shè)有一原料入料接頭411,該加壓原料進(jìn)料管42的 一端連接于該均壓筒"的原料入料接頭411,且與該原料出料管12連通，以讓 在原料出料管12中的流體流入該均壓筒41中，該氣液分離器43設(shè)置于該均壓 筒41的頂部，且與該均壓筒41連通，且設(shè)有一排氣口 431，該壓力表44設(shè)置 于該均壓筒41,以令操作人員隨時(shí)監(jiān)控以調(diào)整該均壓裝置40的壓力，該第一納 米研磨器"設(shè)置于該均壓筒41的側(cè)邊，且與該均壓筒41連通并且設(shè)有一研磨 器出口管4511,該研磨器出口管4511連接一回流管451，以連接至該原料進(jìn)料 槽10的側(cè)邊，該回流管451 i殳有一電磁岡452，該第二納米研磨器46也設(shè)置于 該均壓筒41的側(cè)邊，且與該均壓筒41連通，以與該第一納米研磨器45對(duì)向設(shè) 置，且該第二納米研磨器46設(shè)有二研磨器出口管4611a、 4611b;
仍請(qǐng)參閱圖1所示，該后處理設(shè)備50包括一裝瓶機(jī)51以及一釋壓槽53, 該裝瓶機(jī)51由一裝瓶入料管52與該第二納米研磨器46連接，且該裝瓶入料管 52設(shè)有一電磁閥521，該釋壓槽53的底部設(shè)有一釋壓排放管55，該釋壓排放管 55設(shè)有一控制閥551,該釋壓槽53以一釋壓槽入料管54連接于該第二納米研磨器46,且該釋壓槽入料管54上設(shè)有一電磁閥541。
該均壓裝置40中的第一納米研磨器45以及第二納米研磨器46具有相同的 結(jié)構(gòu)，以下即以第二納米研磨器46為例進(jìn)行說明。
請(qǐng)參看圖4所示，該第二納米研磨器46包括一中空外殼461、 一蓋體462、 多個(gè)研磨片463以及一調(diào)壓桿465。
請(qǐng)附加參看圖5所示，該中空外殼461設(shè)有一開放近端4612、 一開放遠(yuǎn)端 4613、至少一研磨器出口管以及一環(huán)擋部4616,在本實(shí)施例中，該中空外殼461 設(shè)有二研磨器出口管4611a、 4611b，該中空外殼461的近端4612與該均壓筒 41接觸并結(jié)合，該二研磨器出口管設(shè)置于該中空外殼461的側(cè)邊，該環(huán)擋部4616 由該中空外殼461的內(nèi)壁向內(nèi)延伸且在該中空外殼461的近端4612的位置，以 令該環(huán)擋部4616圍成連通于該均壓筒41的一流體入口 4614,且令該環(huán)擋部4616 與該中空外殼461的遠(yuǎn)端所形成的空間為一內(nèi)部空間4615,該內(nèi)部空間4615與 該流體入口 4614以及該二研磨器出口管4611a、 4611b連通；
該蓋體462設(shè)置于該中空外殼461的遠(yuǎn)端4613,以封閉該遠(yuǎn)端4613,且該 蓋體462 i殳有與該內(nèi)部空間4615連通的一中央穿孔4621;
請(qǐng)附加參看圖6所示，該多個(gè)研磨片463設(shè)置于該內(nèi)部空間4615內(nèi)，且與 該中空外殼461的內(nèi)壁之間形成有一膨脹空間(標(biāo)號(hào)未示)，而各研磨片463于 中央形成一中軸孔46 31，并于該中軸孔"31外側(cè)環(huán)狀排列且間隔形成有多個(gè)導(dǎo) 流孔4632，該中軸孔4631供一中軸固定桿464穿入，該中軸固定桿464包括一 穿入該中軸孔4631中的桿體4641以及垂直設(shè)置于該桿體4641的遠(yuǎn)端的第一墊 片4"2,以令該中軸固定桿"4的截面呈T字型，而該第一墊片4642抵靠于最 接近該蓋體462的研磨片463,而所述研磨片463的導(dǎo)流孔4632的軸線與水平 面呈0至60度，即，該研磨片463的導(dǎo)流孔4632與水平面平行，或者，該研 磨片一正轉(zhuǎn)研磨片463a,其導(dǎo)流孔4632a由該流體入口 4614的一端朝另端的方 向朝該中軸孔4631傾斜(如圖7所示)，或者，該研磨片一反轉(zhuǎn)研磨片463b，其 導(dǎo)流孔4632b由該流體入口 4614的一端朝另端的方向朝該中空外殼461的內(nèi)壁 方向傾斜(如圖8所示)，具有不同傾斜角度的導(dǎo)流孔4632的研磨片463可依欲 處理的流體不同而選擇串接排列的順序，且當(dāng)流體流過該等研磨片463時(shí)，該 流體會(huì)帶動(dòng)該等研磨片463旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生研磨作用，經(jīng)研磨后的流體會(huì)釋放至該 該膨脹空間中。
請(qǐng)附加參看圖9所示，該調(diào)壓桿465穿入該蓋體462的中央穿孔4621,且該調(diào)壓桿465包括一穿入該中央穿孔4621中的桿體4651以及垂直設(shè)置于該桿 體4651的遠(yuǎn)端的第二墊片4652，以令該調(diào)壓桿465的截面呈T字型，該桿體 4651包括一設(shè)置于該中空外殼461的內(nèi)部空間4615的近端、 一設(shè)置于該中空外 殼461的外側(cè)的遠(yuǎn)端、至少一設(shè)置于該中央穿孔4621中且環(huán)設(shè)于該桿體4651 外側(cè)的橡膠密封圏466、 一設(shè)置于該蓋體462外側(cè)且環(huán)設(shè)于該桿體4651外側(cè)的 定位螺帽467以及一設(shè)置于該定位螺帽467旁且環(huán)設(shè)于該桿體4651外側(cè)的固定 螺帽468,該遠(yuǎn)端形成有一螺旋工具旋口 4653，以供一螺旋工具插入該螺旋工 具旋口 4653而轉(zhuǎn)動(dòng)并調(diào)整該調(diào)壓桿465，而該第二墊片4652設(shè)置于該桿體4651 的近端，以放置于該內(nèi)部空間4615中抵掣該第一墊片4642,以調(diào)整該等研磨片 463之間的緊密度，而產(chǎn)生不同程度的研磨效果。
本實(shí)用新型于使用時(shí)，將原料進(jìn)料槽10中的液體原料送入該原料出料管12, 并由該加壓泵浦13送入該加壓原料進(jìn)料管42中，再經(jīng)該原料入料接頭411送 達(dá)該均壓筒41內(nèi)，并經(jīng)由該第一納米研磨器45的研磨器出料管4511和回流管 451將該液體原料送回該原料進(jìn)料管11中，以保持循環(huán)，由于液體原料中可能 含有細(xì)小的有機(jī)物，因此經(jīng)由該第一納米研磨器45能將液體原料均勻分散。
之后，再?gòu)脑撘后w供應(yīng)單元20或氣體供應(yīng)單元30供應(yīng)液體、固體或氣體 至該原料出料管12,與液體原料混合成一混合流體，而該混合流體再經(jīng)該加壓 原料進(jìn)料管42送入該均壓筒41中，而在進(jìn)入該第二納米研磨器46前，該混合 流體中若有過剩的氣體則可通過該氣液分離器43中的一浮筒開關(guān)(圖中未示)而 使氣體由該排氣口 431逸出，之后該混合流體進(jìn)入由該第二納米研磨器46的流 體入口 "14進(jìn)入該第二納米研磨器46中，此時(shí)可才艮據(jù)該壓力表44而調(diào)整該調(diào) 壓桿465，以控制所述研磨片463之間的緊密度，使得該混合流體通過所述研磨 片463的導(dǎo)流孔4632，并帶動(dòng)所述研磨片463旋轉(zhuǎn)，而產(chǎn)生研磨的效果，而經(jīng) 研磨后的混合流體釋放至該膨脹空間，并通過其中 一研磨器出口管461 la經(jīng)由 該釋壓槽入料管54送入該釋壓槽53中，以待后續(xù)的利用；或者，根據(jù)該壓力 表44調(diào)整適當(dāng)?shù)难b瓶壓力，通過另一研磨器出口管461 la將混合流體由該裝瓶 入料管52填充至該裝瓶機(jī)51中，以進(jìn)行壓力裝填及封口等程序。
本實(shí)用新型的原料進(jìn)料槽IO所使用的原料為液態(tài)，而使整體流體壓差式納 米研磨裝置依用途可分為氣液系統(tǒng)、固液系統(tǒng)以及液液系統(tǒng)。
氣液系統(tǒng)所使用的氣體來自于該氣體供應(yīng)單元30,可包括但不限制在空 氣、氮?dú)?、氧氣、臭氧、氫氣?一氧化碳、二氧化碳、二氧化硫、二氧化氮等，如在廢水中溶入適量的空氣及凝集劑，利用在高壓釋出的微小氣泡，將廢水中
的雜質(zhì)通過空氣浮除，可移除廢水中大部分的C0D、 BOD及固體懸浮物等，如自 來水處理可加入臭氧、飲料及酒類可加入氮?dú)庖赃_(dá)到保鮮的功效、礦泉水中加 入氧氣以提供氧氣含量、浴池中加入臭氧或氧氣、為工業(yè)漂白之用加入二氧化 硫或臭氧、養(yǎng)殖水中加入氧以提升溶氧量等。
固液系統(tǒng)在液體供應(yīng)單元20中的液體內(nèi)添加適量的固體粉末，將其運(yùn)送 至原料出料管12中，通過混合后的流體驅(qū)動(dòng)納米研磨器而將固體粉末研磨成納 米級(jí)的粉料，之后經(jīng)由脫水干燥后即可獲得成品，例如但不限制在藻類、花粉 可通過研磨及急速釋壓過程達(dá)到細(xì)胞破壁及納米化；如陶瓷原料的細(xì)度研磨； 如化妝品中有機(jī)添加物的乳化及細(xì)致化等。
液液系統(tǒng)所使用的液體其中之一來自于該原料進(jìn)料槽10，另一即來自該 液體供應(yīng)單元20,例如^f旦不限制在有機(jī)油類加入適量的水或有機(jī)溶劑(油水互 溶)，令溶解度有限的物質(zhì)，通過本實(shí)用新型的納米研磨器而相互溶入以方便使 用，如燃料油中溶入水，可以增加燃燒效率，減少空氣污染；高熱值燃料添加 乙醇；低熱值燃料酒精添加高熱值油等。
因此，本實(shí)用新型所能混合的物質(zhì)廣泛，能供提供各種產(chǎn)業(yè)利用，故極具 產(chǎn)業(yè)利用性，而爰以提出實(shí)用新型發(fā)明申請(qǐng)。
以上具體實(shí)施方式
僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例，其對(duì)本實(shí)用新型而言是 說明性的，而非限制性的。本領(lǐng)域的技術(shù)人員在不超出本實(shí)用新型精神和范圍 的情況下，對(duì)之進(jìn)行變換、修改甚至等效，這些變動(dòng)均會(huì)落入本實(shí)用新型的權(quán) 利要求保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1.一種流體壓差式納米研磨裝置，其特征在于，包括一原料進(jìn)料槽，其連通有一進(jìn)料管，并連接有一原料出料管，且該原料出料管上設(shè)有一加壓泵浦；一液體供應(yīng)單元，其連通于該原料出料管；一氣體供應(yīng)單元，其連通于該原料出料管；一均壓裝置，其包括一均壓筒、一加壓原料進(jìn)料管、一氣液分離器、一壓力表、至少一納米研磨器，該加壓原料進(jìn)料管的一端連接于該均壓筒，且與該原料出料管連通，該氣液分離器設(shè)置于該均壓筒，并與該均壓筒連通，該壓力表設(shè)置于該均壓筒，所述納米研磨器設(shè)置于該均壓筒，并與該均壓筒連通，并且以一回流管連接至該原料進(jìn)料槽；一后處理設(shè)備，其連接于該納米研磨器。
2. 如權(quán)利要求1所述的流體壓差式納米研磨裝置，其特征在于，所述各納 米研磨器包括一中空外殼，其設(shè)有一開放近端、 一開放遠(yuǎn)端、至少一研磨器出口管以及 一環(huán)擋部，該中空外殼的近端與該均壓筒接觸并結(jié)合，該研磨器出口管設(shè)置于 該中空外殼的側(cè)邊，該環(huán)擋部由該中空外殼的內(nèi)壁向內(nèi)延伸且在該中空外殼的 近端的位置，以令該環(huán)擋部圍成連通于該均壓筒的一流體入口，且令該環(huán)擋部 與該中空外殼的遠(yuǎn)端所形成的空間為一內(nèi)部空間，該內(nèi)部空間與該流體入口以 及所述研磨器出口管連通；一蓋體，其設(shè)置于該中空外殼的遠(yuǎn)端，以封閉該遠(yuǎn)端，且該蓋體設(shè)有與該 內(nèi)部空間連通的 一 中央穿孔；多個(gè)研磨片，其設(shè)置于該內(nèi)部空間內(nèi)，且與該中空外殼的內(nèi)壁之間形成有 一膨脹空間，而各研磨片形成一中軸孔，并于該中軸孔外側(cè)環(huán)狀排列且間隔形 成有多個(gè)導(dǎo)流孔，該中軸孔供一中軸固定桿穿入，該中軸固定桿包括一穿入該 中軸孔中的桿體以及垂直設(shè)置于該桿體的遠(yuǎn)端的第一墊片，以令該中軸固定桿 的截面呈T字型，而該第一墊片抵靠于最接近該蓋體的研磨片；一調(diào)壓桿，其穿入該蓋體的中央穿孔，且該調(diào)壓桿包括一穿入該中央穿孔 中的桿體以及垂直設(shè)置于該桿體的遠(yuǎn)端的第二墊片，以令該調(diào)壓桿的截面呈T 字型，該桿體包括一設(shè)置于該中空外殼的內(nèi)部空間的近端、 一設(shè)置于該中空外殼的外側(cè)的遠(yuǎn)端、至少一設(shè)置于該中央穿孔內(nèi)且環(huán)設(shè)于該桿體外側(cè)的橡膠密封 圈、 一設(shè)置于該蓋體外側(cè)且環(huán)設(shè)于該桿體外側(cè)的定位螺帽以及一設(shè)置于該定位 螺帽旁且環(huán)設(shè)于該桿體外側(cè)的固定螺帽，而該第二墊片設(shè)置于該桿體的近端， 以放置于該內(nèi)部空間中抵掣該第一墊片，以調(diào)整所述多個(gè)研磨片之間的緊密度。
3. 如權(quán)利要求2所述的流體壓差式納米研磨裝置，其特征在于，所述研磨 片的導(dǎo)流孔的軸線與水平面呈0至60度。
4. 如權(quán)利要求1所述的流體壓差式納米研磨裝置，其特征在于，該后處理設(shè)備包括一裝瓶機(jī)，其由一裝瓶入料管與該納米研磨器連接，且該裝瓶入料管-沒有一電》茲閥。
5. 如權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的流體壓差式納米研磨裝置，其特征在 于，該后處理設(shè)備包括一釋壓槽，其底部設(shè)有一釋壓排放管，該釋壓槽以一釋 壓槽入料管連接于該納米研磨器，且該釋壓槽入料管設(shè)有一電磁閥。
6. 如權(quán)利要求5所述的流體壓差式納米研磨裝置，其特征在于，該液體供 應(yīng)單元以 一 液體添加料管連接至該原料出料管，且該液體添加料管設(shè)有 一 液體 流量計(jì)。
7. 如權(quán)利要求5所述的流體壓差式納米研磨裝置，其特征在于，該氣體供 應(yīng)單元以一氣體添加料管連接至該原料出料管，且該氣體添加料管上設(shè)有一氣 體流量計(jì)。
8. 如權(quán)利要求6所述的流體壓差式納米研磨裝置，其特征在于，該氣體供 應(yīng)單元以一氣體添加料管連接至該原料出料管，且該氣體添加料管設(shè)有一氣體 流量計(jì)。
9. 如權(quán)利要求5所述的流體壓差式納米研磨裝置，其特征在于，該原料進(jìn) 料槽的進(jìn)料管連通于該原料進(jìn)料槽近頂部處，而該原料進(jìn)料槽的原料出料管設(shè) 置于該原料進(jìn)料槽的底部。
10. 如權(quán)利要求5所述的流體壓差式納米研磨裝置，其特征在于，該均壓 裝置包括一第一納米研磨器以及一第二納米研磨器，該回流管連通于該第一納 米研磨器，而該后處理設(shè)備連接于該第二納米研磨器。
專利摘要本實(shí)用新型是一種流體壓差式納米研磨裝置，其包括一原料進(jìn)料槽、一連接該原料進(jìn)料槽的原料出料管、連通于該原料出料管的一液體供應(yīng)單元、連通于該原料出料管的一氣體供應(yīng)單元、一均壓裝置及一后處理設(shè)備，該原料出料管上設(shè)有一加壓泵浦，該均壓裝置包括一均壓筒以及連接于該均壓筒的一加壓原料進(jìn)料管、一氣液分離器、一壓力表、至少一納米研磨器，該加壓原料進(jìn)料管尚與該原料出料管連通，該納米研磨器以一回流管連接至該原料進(jìn)料槽，該后處理設(shè)備連接于該納米研磨器。通過本實(shí)用新型可達(dá)到讓物質(zhì)均勻混合的效果。
文檔編號(hào)B01F3/04GK201375881SQ20092000573
公開日2010年1月6日 申請(qǐng)日期2009年2月17日 優(yōu)先權(quán)日2009年2月17日
發(fā)明者陳國(guó)剛 申請(qǐng)人:羅莎國(guó)際有限公司