專利名稱：：使用結(jié)構(gòu)導(dǎo)向劑和n，n，n-三烷基芐基季銨陽離子制備分子篩的制作方法使用結(jié)構(gòu)導(dǎo)向劑和N，N，N-三烷基節(jié)基季銨陽離子制備分子篩本申請要求2006年9月25日提交的臨時申請序號60/826882的權(quán)益。背景結(jié)晶分子篩通常從含有堿金屬氧化物或堿土金屬氧化物的源、氧化硅源、以及任選的例如氧化硼和/或氧化鋁的源的含水反應(yīng)混合物中制備。已經(jīng)從含有有機(jī)結(jié)構(gòu)導(dǎo)向劑("SDA")，通常是含氮的有機(jī)陽離子，的反應(yīng)混合物中制備了分子篩。例如1990年10月16日授予給Zones的美國專利序號4963337公開了可使用三環(huán)[5.2,1.026]癸烷季銨陽離子SDA制備名為SSZ-33的分子篩。1985年10月1日授予給Zones的美國專利序號4544538公開了使用衍生自1-金剛烷胺、3-羥奎核堿、或2-外-氨基降莰烷的SDA制備名為SSZ-13的分子篩。1994年5月31日授予給Nakagawa的美國專利序號5316753公開了使用包含氮雜-多核環(huán)化合物的SDA制備名為SSZ-35的分子篩。1997年8月5日授予給Zones的美國專利序號5653956公開了使用包含N-千基-1，4-二氮雜雙環(huán)[2.2.2〗辛烷陽離子或N-芐基-l-氮雜雙環(huán)[2.2.2]辛烷陽離子的SDA制備名為SSZ-42的分子篩。多種沸石分子篩已經(jīng)被小規(guī)模地合成，這些沸石分子篩可以用來制備具有潛在吸引力的催化劑性能的可能的獨(dú)特的催化劑。這些材料的進(jìn)一步發(fā)展的障礙是制備大規(guī)模量的分子篩的高成本。當(dāng)需要相對大量的外來結(jié)構(gòu)導(dǎo)向劑(也稱作模板)以制備純度令人滿意的分子篩時該成本特別高并且高的驚人。因此，開發(fā)制備以顯著降低的每磅成本制備商業(yè)上大宗的分子篩的方法是高度合意的，并且實(shí)際上是關(guān)鍵的。通過大大降低成本/合成中使用的結(jié)構(gòu)導(dǎo)向劑的量可以實(shí)現(xiàn)這一點(diǎn)。本發(fā)明提供了通過用不那么昂貴的化合物代替一些結(jié)構(gòu)導(dǎo)向劑來允許以大大降低的成本合成分子篩的方法。1998年7月28日授予給Zones等人的美國專利序號5785947公開了使用少量有機(jī)模板化合物和更大量胺組分制備結(jié)晶沸石的方法，其中所述胺組分含有至少一種具有1~8個碳原子的胺、氬氧化銨或它們的混合物。公開了所述胺組分優(yōu)選是含有不多于8個碳原子的脂族胺或脂環(huán)族胺。公開的胺組分的實(shí)例是異丙胺、異丁胺、正丁胺、哌啶、4-甲基哌啶、環(huán)己胺、1，1，3，3-四甲基丁胺和環(huán)戊胺。1998年1月13日授予給Nakagawa等人的美國專利序號5707600公開了使用能夠形成中等孔尺寸沸石的小的、中性胺制備該沸石的方法，所述胺含有(a)只有碳原子、氮原子和氫原子；(b)—個伯氨基、仲氨基或叔氨基，但不是季氨基；和(c)叔氮原子，至少一個叔碳原子，與至少一個仲碳原子直接成鍵的叔氮原子，其中所述方法在無季銨化合物的存在下進(jìn)行。公開的小的、中性胺的實(shí)例是異丁胺、二異丁胺、三甲胺、環(huán)戊按、二異丙胺、仲丁胺、2，5-二甲基吡咯烷和2，6-二甲基哌啶。1998年1月13日授予給Nakagawa的美國專利序號5707601公開了使用能夠形成具有MTT晶體結(jié)構(gòu)的沸石的小的、中性胺制備該沸石的方法，所述胺含有(a)只有碳原子、氮原子和氫原子；(b)—個伯氨基、仲氨基或叔氨基，但不是季氨基；和(c)叔氮原子，至少一個叔碳原子，或與至少一個仲碳原子直接成鍵的叔氮原子，其中所述方法在無季銨化合物的條件下進(jìn)行。公開的小的、中性胺的實(shí)例是異丁胺、二異丁胺、二異丙胺和三甲胺。2006年4月4日授予給Yuen等人的美國專利序號7022308公開了用于制備分子篩SSZ-33的方法，其中分子篩SSZ-33具有大于約15:1的(1)氧化硅、氧化鍺和它們的混合物與(2)氧化硼或氧化硼與氧化鋁、氧化鎵、氧化鈦或氧化鐵的混合物和它們的混合物之間的摩爾比，所述方法包括A.形成含水反應(yīng)混合物，該含水反應(yīng)混合物包含(1)氧化硅、氧化鍺的源和它們的混合物；(2)氧化硼或氧化硼與氧化鋁、氧化鎵、氧化鈦或氧化鐵的混合物的源以及它們的混合物；(3)堿金屬或堿土金屬源；(4)N，N，N-三烷基-8-銨-三環(huán)[5.2.1.026]癸烷季銨陽離子，和(5)N，N-二烷基-8-氨基-三環(huán)[5.2.l.()U]癸烷化合物；和B.維持所述含水混合物在足以結(jié)晶的條件下直到形成晶體。發(fā)明概述提供了用于制備結(jié)晶分子篩的方法，所述分子篩具有大于約15的(1)第一四價元素氧化物與(2)三價元素、五價元素、不同于所述第一四價元素的第二四價元素的氧化物或它們的混合物之間的摩爾比，所述方法包括A.形成含水反應(yīng)混合物，該含水反應(yīng)混合物包含(1)第一四價元素氧化物的源；(2)三價元素、五價元素、不同于所述第一四價元素的第二四價元素的氧化物的源或它們的混合物；(3)堿金屬或堿土金屬源；(4)能夠形成所述分子篩的有機(jī)結(jié)構(gòu)導(dǎo)向劑(下文簡稱為"SDA，，)；和(5)N，N，N-三烷基千基季銨陽離子；和B.維持所述含水混合物在足以結(jié)晶的條件下直到形成晶體。應(yīng)當(dāng)指出的是，短語"大于約15的摩爾比"包括無氧化物(2)的情況，即氧化物(1)與氧化物(2)的摩爾比為無窮大。在那種情況下，所述分子篩基本全部由氧化物(1)組成。在一個實(shí)施方案中，所述氧化物(1)是氧化硅、氧化鍺、或它們的混合物，以及氧化物(2)是選自氧化鋁、氧化鎵、氧化鐵、氧化硼、氧化鈦、氧化銦和它們的混合物中的氧化物。所述反應(yīng)混合物可以具有以摩爾比計(jì)落在下表A所示范圍之內(nèi)的組成表A實(shí)施方案1實(shí)施方案2Y02/Xa0b5~無窮大10~無窮大0H—/Y020.10~1.00.20~0.30Q/Y020.05~0.500.10~0.25Mn7Y020.05~0.300.05~0.15H20/Y022~20025~60Q/Q+NT0.30~0.900.40~0.60其中Y是硅、鍺或它們的混合物，X是鋁、硼、鎵、鈦、鐵或它們的混合物，a是l或2，當(dāng)a是l時b是2(即X是四價)，當(dāng)a為2時b是3(即X是三價)，M是堿金屬或堿土金屬，n是M的價態(tài)(即l或2)，以及Q是能夠形成所述分子篩的SDA和N，N，N-三烷基節(jié)基季銨陽離子的混合物。正如上面指出的，所述反應(yīng)混合物中的Y02/XaOb的摩爾比是5~無夯大。這意味著反應(yīng)混合物中可以沒有Xa0b。這導(dǎo)致基本上全部是Y02的分子篩。本文使用的"基本上全部Y02"、"基本上全部氧化硅"、"基本全部二氧化硅"意思是所述分子篩的晶體結(jié)構(gòu)只由Y02(例如氧化硅)組成或者由Y02和僅痕量的其它氧化物，例如氧化鋁，組成，這些痕量的其它氧化物可能作為丫02源中的雜質(zhì)而引入。在一個實(shí)施方案中，SDA的使用量少于填充所述分子篩所有的微孔體積所需要的量，即少于在無N，N，N-三烷基節(jié)基季銨陽離子的條件下結(jié)晶所述分子篩所需要的量。一般地，SDA與N，N，N-三烷基節(jié)基季銨陽離子的摩爾比為約l:9和更高，例如約1:4~約4:1。還提供了合成后原樣的和無水狀態(tài)下具有以摩爾比計(jì)的如下組成的分子篩(1~5或更高)Q:(0.1~1)Mn+:Xa0b:(大于15)Y02其中Q、M、n、X、a、b和Y與上面定義的一樣。在一個實(shí)施方案中，所述合成后原樣的分子篩由這樣的方法制備，該方法中SDA的使用量少于填充所述分子篩的全部微孔體積所需要的量，即少于在無N，N，N-三烷基千基季銨陽離子的條件下結(jié)晶所述分子篩所需要的量。一般地，所述SDA與N，N，N-三烷基千基季銨陽離子的摩爾比為約l:9和更高，例如約1:4~約4:1。發(fā)明詳述可以通過這樣的方法制備分子篩，該方法包括制備含有能夠形成所述分子篩的SDA和N，N，N-三烷基芐基季銨陽離子的含水混合物。一般地，所述SDA與N,N，N-三烷基千基季銨陽離子的摩爾比為約1:9和更高，例如約1:4~約4:1。制備中可以使用該分子篩的晶種。本發(fā)明與單獨(dú)使用SDA相比提供了相當(dāng)大的成本改進(jìn)。分子篩可以適當(dāng)?shù)貜暮磻?yīng)混合物中制備，其中所述含水反應(yīng)混合物含有堿金屬氧化物或堿土金屬氧化物的源，硅、鍺的氧化物的源或它們的混合物，氧化鋁、氧化硼、氧化鎵、氧化鈦或氧化鐵的源和它們的混合物，SDA和N，N，N-三烷基節(jié)基季銨陽離子。所述混合物應(yīng)當(dāng)具有以摩爾比計(jì)落在下表A所示范圍之內(nèi)的組成表A<table>tableseeoriginaldocumentpage9</column></row><table>其中Y是硅、鍺或它們的混合物，X是鋁、硼、鎵、鈦、鐵或它們的混合物，a是l或2，當(dāng)a是l時b是2(即X是四價)，當(dāng)a為2時b是3(即X是三價)，M是堿金屬或堿土金屬，n是M的價態(tài)(即l或2);以及Q是SDA和N，N，N-三烷基節(jié)基季銨陽離子的混合物。使用標(biāo)準(zhǔn)的分子篩制備技術(shù)制備所述反應(yīng)混合物。一般的氧化硅源包括熱解硅石、硅酸鹽、二氧化硅水凝膠、硅酸、膠態(tài)二氧化硅、原硅酸四烷基酯和二氧化硅氬氧化物。反應(yīng)混合物的硼源包括硼硅酸鹽玻璃和其它反應(yīng)性的氧化硼。這些包括硼酸鹽、硼酸和硼酸酯。其它氧化物源，例如氧化鋁、氧化鎵、氧化鈦或氧化鐵類似于氧化硼和氧化硅的源。混合物Q包括能夠形成所述分子篩的SDA和N，N，N-三烷基千基季銨陽離子?；旌衔颭可以用來制備包括但不限于名為SSZ-13、SSZ-33、SSZ-42和SSZ-35的那些分子篩。SSZ-131985年10月1日授予給Zones的美國專利序號4544538公開了名為SSZ-13的分子篩，該分子篩可以使用衍生自l-金剛烷胺的SDA制備。所述SDA具有如下結(jié)構(gòu)其中R4、R5和W各自獨(dú)立地是低級烷基，例如甲基。所述陽離子與對于所述分子篩的形成無害的陰離子(本文命名為A—或X—)結(jié)合。這類陰離子的代表包括卣離子，例如氯離子、溴離子和碘離子；氫氧根、醋酸根、硫酸根和羧酸根。氫氧根是優(yōu)選的陰離子。離子交換，例如用囟離子交換氬氧根離子，從而降低或消除需要的堿金屬或堿土金屬氫氧化物可能是有利的。以下陽離子也可以用來制備SSZ-13:<formula>formulaseeoriginaldocumentpage11</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage12</formula>與SDA1類似，每一個前述陽離子都與對SSZ-13的形成無害的陰離子(A—)結(jié)合。在此引入美國專利序號4544538的全部內(nèi)容作為參考。SSZ-331990年10月16日授予給Zones的美國專利序號4963337公開了可以使用三環(huán)[5.2.1.026]癸烷季銨陽離子SDA制備名為SSZ-33的分子篩，其中三環(huán)[5.2.1.026]癸烷季銨陽離子SDA具有以下化學(xué)式<formula>formulaseeoriginaldocumentpage12</formula>其中R7、R8和R9各自獨(dú)立地是低級烷基，例如甲基。所述陽離子與對所述SSZ-33的形成無害的陰離子A—結(jié)合。N，N，N-三烷基-8-銨-三環(huán)[5.2.1.02'6]癸烷季銨陽離子可以以前述美國專利序號4963337的實(shí)施例1中描述的方式合成，在此引入該專利的全部內(nèi)容作為參考。SSZ-351994年5月31日年授予給Nakagawa的美國專利序號5316753公開了使用包含具有以下化學(xué)式的氮雜-多核環(huán)化合物的SDA制備名為SSZ-35的分子篩<formula>formulaseeoriginaldocumentpage13</formula>1，3，3，8，8-五甲基-3-氮陽離子-雙環(huán)[3.2.l]辛烷在此引入美國專利序號5316753的全部內(nèi)容作為參考。SSZ-421997年8月5日授予給Zones的美國專利序號5653956公開了使用包含具有以下化學(xué)式的N-節(jié)基-l，4-二氮雜雙環(huán)[2.2.2]辛烷陽離子的SDA制備名為SSZ-42的分子'歸<formula>formulaseeoriginaldocumentpage13</formula>與所述陽離子結(jié)合的陰離子(X—)可以是對該沸石的形成無害的任何陰離子。所述N，N，N-三烷基節(jié)基季銨陽離子具有以下化學(xué)式<formula>formulaseeoriginaldocumentpage13</formula>I其中R1、W和R3各自獨(dú)立地是低級烷基，例如曱基或乙基。所述陽離子與對該分子歸的形成無害的陰離子A—結(jié)合。此類陰離子的代表包括卣離子，例如氟離子、氯離子、溴離子和碘離子；氫氧根；醋酸根；硫酸根和羧酸根。氫氧根是優(yōu)選的陰離子。離子交換，例如用卣離子交換氫氧根離子，從而降低或消除需要的堿金屬或堿土金屬氫氧化物可能是有利地?；旌衔颭—般具有約1:9和更高，例如約1:4~約4:1，的SDA與N，N，N-三烷基千基季銨陽離子的摩爾比。在混合物Q中使用N，N，N-三烷基爺基季銨陽離子允許減少混合物Q中使用的SDA的量，這導(dǎo)致顯著的成本節(jié)約。實(shí)際上，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)通過在混合物Q中使用N，N，N-三烷基爺基季銨陽離子，可以將SDA的量降低至低于填充該分子篩的微孔體積所需要的量的水平，即降低至少于在無N，N，N-三烷基節(jié)基季銨陽離子的條件下結(jié)晶該分子篩所需要的量的量。反應(yīng)混合物可以用分子歸晶體作晶種以引導(dǎo)并加速結(jié)晶，以及減少不想要的雜質(zhì)的形成。一般地，當(dāng)使用晶種時，它們以基于反應(yīng)混合物中的氧化硅的重量的約2~3wt。/。的量使用。使反應(yīng)混合物保持在高溫下直到形成分子篩晶體。水熱結(jié)晶步驟過程中的溫度一般維持在約140*C~約200°C，例如約150X:~約170X:，或者約155°C~約165€。結(jié)晶周期一般多于一天，例如約3天~約7天。所述水熱結(jié)晶在壓力下進(jìn)行，并且通常在高壓釜中進(jìn)行以使得所述反應(yīng)混合物經(jīng)受自生壓力。在結(jié)晶過程中，例如通過旋轉(zhuǎn)反應(yīng)器，攪動所述反應(yīng)混合物。在水熱結(jié)晶步驟過程中，允許分子篩晶體從反應(yīng)混合物中自發(fā)成核。一旦分子篩晶體形成了，可以通過標(biāo)準(zhǔn)的機(jī)械分離技術(shù)，例如過濾，從反應(yīng)混合物中分離出固體產(chǎn)物?？梢杂盟礈觳⑶胰缓蟾稍锞w，例如在90匸150X:干燥8~24小時，以獲得合成后原樣的分子篩晶體。所述干燥步驟可以在常壓或負(fù)壓下實(shí)施。本文使用的術(shù)語"合成后原樣的"意思是已經(jīng)從反應(yīng)混合物中回收了的分子篩晶體并且在它們的孔中仍然含有混合物Q，即尚未通過(一般是)煅燒從該分子篩晶體中除去混合物Q。合成后原樣的和無水狀態(tài)下所述分子篩具有以摩爾比計(jì)的如下表B所示的組成合成后原樣的分子篩組成表B(1~5或更高)Q:(0.1~1)Mn+:線:(大于15)Y02其中Q、M、n、X、a、b和Y定義如上。短語"(1~5或更高)Q"指的是以下事實(shí)含有更多量的Y02的合成后原樣的分子篩還含有更多量的Q，因?yàn)樵诤铣珊笤瓨拥姆肿計(jì)鹬校琎的量依賴于Y02的量。所迷分子篩可以合成后原樣使用，或者可以進(jìn)行熱處理(煅燒)。"熱處理"意思是在有或沒有蒸汽的存在下加熱到約200t:約820^的溫度。通過用回流溶劑進(jìn)行萃取也有可能從所述產(chǎn)物的孔中移除一些或全部的SDA。通常，希望通過離子交換除去堿金屬或堿土金屬陽離子并用代之以氫、銨、或任何合意的金屬離子。包括蒸汽處理的熱處理有助于穩(wěn)定晶格免受酸的進(jìn)攻。通過本文公開的方法制備的分子篩在烴轉(zhuǎn)化反應(yīng)中有用。1990年10月16日授予給Zones的美國專利序號4963337中描述了這些用途的實(shí)例，在此引入該專利作為參考。它們還在用于減少內(nèi)燃機(jī)的冷啟動排放物。實(shí)施例實(shí)施例l-6硼硅酸鹽SSZ-33和SSZ-42的合成將SDA和N，N，N-三烷基千基季銨陽離子的2毫摩爾混合物(見以下SDA識別和SDA與N，N，N-三烷基節(jié)基季銨陽離子之比的表)與0.60克CabosilM5熱解硅石、0.04克十水合硼酸鈉和總計(jì)等于7克的水混合。加入1克1N的NaOH?？梢詫⒗鏢SZ-33的晶種加入到SSZ-33反應(yīng)混合物中。密封反應(yīng)器并將在翻轉(zhuǎn)(43RPM)下在16(TC下加熱所述反應(yīng)6~9天直到獲得結(jié)晶產(chǎn)物。可以用恰當(dāng)?shù)腟DA進(jìn)行相同的反應(yīng)以制備SSZ-42。硅鋁酸鹽SSZ-13和SSZ-35的合成將總共2mM(以及水量是5.2g)的SDA和N，N,N-三烷基爺基季銨陽離子的混合物(見以下SDA識別和SDA與N，N，N-三烷基芐基季銨陽離子之比的表)與2克IN的K0H、0.05克ReheisF-2000氧化鋁(53%的A1203)和0.60克CabosilM5熱解硅石一起加入到反應(yīng)中。這些反應(yīng)中的SDA或者是用于制備SSZ-13的金剛烷衍生物或是用于制備SSZ-35的哌咬衍生物。在SSZ-35的情況下，使用INNaOH代替KOH可能是有利的。而且，加入晶種會是有利的。這些反應(yīng)也在160X:、43RPM下進(jìn)行6-9天直到有沉降良好的產(chǎn)物。<table>tableseeoriginaldocumentpage16</column></row><table>'所述反應(yīng)混合物不含有制備SSZ-33的足夠的SDA2。MTW是由N，N，N-三烷基節(jié)基銨陽離子制備的。權(quán)利要求1.制備結(jié)晶分子篩的方法，該分子篩具有大于約15的(1)第一四價元素的氧化物與(2)三價元素、五價元素、不同于所述第一四價元素的第二四價元素的氧化物或它們的混合物之間的摩爾比，所述方法包括A.形成含水反應(yīng)混合物，該含水混合物包含(1)第一四價元素氧化物的源；(2)三價元素、五價元素、不同于所述第一四價元素的第二四價元素的氧化物或它們的混合物的源；(3)堿金屬或堿土金屬源；(4)能夠形成所述分子篩的有機(jī)結(jié)構(gòu)導(dǎo)向劑；和(5)N，N，N-三烷基芐基季銨陽離子；和B.維持所述含水混合物在足以結(jié)晶的條件下直到形成晶體。2.權(quán)利要求1的方法，其中氧化物(1)是氧化硅、氧化鍺或它們的混合物，和氧化物(2)是選自氧化鋁、氧化鎵、氧化鐵、氧化硼、氧化鈦、氧化銦和它們的混合物中的氧化物。3.權(quán)利要求2的方法，其中所述反應(yīng)混合物具有以摩爾比計(jì)落在下示范圍之內(nèi)的組成Y02/Xa0b5~無窮大0H7Y020.10-1.0Q/Y020.05~0.50Mn7Y020.05~0.30H20/Y022~200Q/Q+NT0.30~0.90其中Y是硅、鍺或它們的混合物，X是鋁、硼、鎵、鈦、鐵或它們的混合物，a是l或2，當(dāng)a是l時b是2，當(dāng)a是2時b是3，M是堿金屬或堿土金屬，n是M的價態(tài)，以及Q是能夠形成所述分子篩的有機(jī)結(jié)構(gòu)導(dǎo)向劑和N，N，N-三烷基爺基季銨陽離子的混合物。4.權(quán)利要求3的方法，其中所述反應(yīng)混合物具有以摩爾比計(jì)落在下示范圍之內(nèi)的組成<formula>formulaseeoriginaldocumentpage3</formula>5.權(quán)利要求1的方法，其中所述有機(jī)結(jié)構(gòu)導(dǎo)向劑的使用量少于填充所述分子篩的所有微孔體積所需要的量。6.權(quán)利要求2的方法，其中所述有機(jī)結(jié)構(gòu)導(dǎo)向劑的使用量少于填充所述分子篩的所有微孔體積所需要的量。7.權(quán)利要求l的方法，其中所述有機(jī)結(jié)構(gòu)導(dǎo)向劑與所述N，N，N-三烷基千基季銨陽離子的摩爾比為約1:9和更高。8.權(quán)利要求2的方法，其中所述有機(jī)結(jié)構(gòu)導(dǎo)向劑與所述N，N，N-三烷基節(jié)基季銨陽離子的摩爾比為約1:9和更高。9.權(quán)利要求7的方法，其中所述有機(jī)結(jié)構(gòu)導(dǎo)向劑與所述N，N，N-三烷基節(jié)基季銨陽離子的摩爾比為約1:9~約4:1。10.權(quán)利要求8的方法，其中所迷有機(jī)結(jié)構(gòu)導(dǎo)向劑與所述N，N，N-三烷基爺基季銨陽離子的摩爾比為約1:4~約4:1。11.權(quán)利要求l的方法，其中所述分子篩選自SSZ-13、SSZ-33、SSZ-35或SSZ-42。12.權(quán)利要求2的方法，其中所述分子篩選自SSZ-13、SSZ-33、SSZ-35或SSZ-42。13.合成后原樣和無水狀態(tài)下具有以摩爾比計(jì)的如下組成的分子篩(1~5或更高)Q:(0.1~1)Mn+:XaOb:(大于15)Y02其中Y是硅、鍺或它們的混合物，X是鋁、硼、鎵、鈦、鐵或它們的混合物，a是l或2，當(dāng)a為l時b是2，當(dāng)a為2時b是3，M是堿金屬或堿土金屬，n是M的價態(tài)，以及Q是能夠形成所述分子篩的有機(jī)結(jié)構(gòu)導(dǎo)向劑和N，N，N-三烷基爺基季銨陽離子的混合物。14.權(quán)利要求13的分子篩，其中所述有機(jī)結(jié)構(gòu)導(dǎo)向劑的使用量少于填充所述分子篩的所有微孔體積所需要的量。15.權(quán)利要求13的分子篩，其中所述有機(jī)結(jié)構(gòu)導(dǎo)向劑與所述N,N，N-三烷基千基季銨陽離子的摩爾比為約1:9和更高。16.權(quán)利要求15的分子篩，其中所述有機(jī)結(jié)構(gòu)導(dǎo)向劑與所述N，N，N-三烷基千基季銨陽離子的摩爾比為約1:9~約4:1。17.權(quán)利要求16的分子篩，其中所述有機(jī)結(jié)構(gòu)導(dǎo)向劑與所述N，N，N-三烷基千基季銨陽離子的摩爾比為約1:4~約4:1。18，權(quán)利要求13的分子篩，其中所述分子篩選自SSZ-13、SSZ-33、SSZ-35或SSZ-42。全文摘要使用包含能夠形成分子篩的有機(jī)結(jié)構(gòu)導(dǎo)向劑和N，N，N-三烷基芐基季銨陽離子的混合物制備結(jié)晶分子篩。文檔編號B01J21/00GK101528342SQ200780039515公開日2009年9月9日申請日期2007年9月25日優(yōu)先權(quán)日2006年9月25日發(fā)明者S·I·佐內(nèi)斯申請人:雪佛龍美國公司