專利名稱：：用于回收保護(hù)氣體的改進(jìn)的方法和設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及在熱處理過(guò)程中受到有機(jī)分解副產(chǎn)物污染的廢棄保護(hù)氣體的處理和回收。
背景技術(shù)：
：期以來(lái)都是被丟棄的，其中經(jīng)受處理的構(gòu)件涂覆有或帶有有機(jī)體。實(shí)例包括用殘留軟金屬壓延油涂覆的分批退火的金屬，以及結(jié)合有有機(jī)粘合劑的金屬粉末或纖維的還原和/或燒結(jié)。通常處于低壓的廢氣被認(rèn)為受到壓縮后傾向于形成帶有污物的沉積物，更不用說(shuō)另外被提純和回收。甚至當(dāng)總雜質(zhì)極低時(shí)所述也是存在的。本發(fā)明的發(fā)明人發(fā)現(xiàn)這些受到污染的趨勢(shì)通常是由于在熱處理步驟中形成烴環(huán)芳烴聚合物造成的。大多數(shù)這種類型的化合物在標(biāo)準(zhǔn)條件下形成固體沉積物。這些固體傾向于進(jìn)一步受熱脫氫，最終的傾向是形成稱為"清漆"、"焦油，，或"焦炭"的一定范圍內(nèi)的粘著固體。當(dāng)包含有這些化合物的氣體混合物受到壓縮時(shí)，這些更傾向受到污染。出現(xiàn)所述有兩個(gè)原因。第一，在級(jí)間冷卻過(guò)程中增加混合物的總壓力(由于污染物的部分壓力增加)使得朝向形成固體的熱力學(xué)傾向增加。以及第二，在許多壓縮循環(huán)過(guò)程中存在的高溫可加速諸如清漆、焦油和焦炭的熱分解產(chǎn)物的形成。如果這些在關(guān)鍵的運(yùn)動(dòng)部件諸如壓縮機(jī)閥門中形成，將使得出現(xiàn)異常的機(jī)率大大增加。
發(fā)明內(nèi)容為了致力于克服所述問(wèn)題，發(fā)明人發(fā)明了用于回收廢氣的方法和設(shè)備，其有利地降低氣體的凈消耗。這樣，本發(fā)明有利地提供了方法和設(shè)備，所述方法和設(shè)備有利于處理由帶有污物的有機(jī)分解副產(chǎn)物物質(zhì)造成污染的氣體。因此，本發(fā)明有利地提供了操作應(yīng)用保護(hù)氣體的熱處理儀器的方法，以便處理包含有機(jī)涂層或粘合劑的物質(zhì)，進(jìn)而避免在氣體循環(huán)設(shè)備中形成污染的沉積物。本發(fā)明進(jìn)一步有利地提供了用于在氣體回收設(shè)備中壓縮之前將汽化的分解副產(chǎn)物從廢氣中移除的方法和設(shè)備。本發(fā)明還有利地提供了用于對(duì)受到分解副產(chǎn)物污染的廢氣進(jìn)行壓縮而防止形成污染沉積物的方法和設(shè)備，所述分解副產(chǎn)物來(lái)自有機(jī)涂層或粘合劑。此外，本發(fā)明有利地提供了用于冷卻壓縮廢氣(所述氣體受到來(lái)自有機(jī)涂層或粘合劑的分解副產(chǎn)物的污染)而不受到污染的方法和設(shè)備。本發(fā)明還有利地提供了用于回收廢氣(所述氣體受到來(lái)自有機(jī)涂層或粘合劑的分解副產(chǎn)物的污染)的方法，該方法殘留副產(chǎn)物而不將其帶入環(huán)境中。本發(fā)明進(jìn)一步有利地提供了用于回收廢氣(所述氣體受到來(lái)自有機(jī)涂層或粘合劑的分解副產(chǎn)物的污染)的方法和設(shè)備，所述方法和設(shè)備應(yīng)用至少一個(gè)正位移壓縮(positivedisplacementcompressor)階段。此外，本發(fā)明有利地提供了用于回收廢氣(所迷氣體受到來(lái)自有機(jī)涂層或粘合劑的分解副產(chǎn)物的污染)的方法和設(shè)備，所述方法和設(shè)備應(yīng)用至少一個(gè)潤(rùn)滑油潤(rùn)滑的正位移壓縮階段。此外，本發(fā)明有利地提供了用于回收廢氣(所迷氣體受到來(lái)自有9機(jī)涂層或粘合劑的分解副產(chǎn)物的污染)的方法和設(shè)備，所述方法和設(shè)備應(yīng)用至少一級(jí)潤(rùn)滑油潤(rùn)滑的正位移壓縮，其中用于潤(rùn)滑機(jī)械傳動(dòng)裝置的潤(rùn)滑油保持其原始的潤(rùn)滑性質(zhì)。當(dāng)具體參照結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明進(jìn)行描述的下述，細(xì)說(shuō)明時(shí)，將更容易明了本發(fā)明的更全面的評(píng)價(jià)和伴隨其的優(yōu)勢(shì)，其中圖1示出用于污染氣體的壓縮系統(tǒng)的示意圖；圖2示出根據(jù)本發(fā)明的帶有壓縮機(jī)潤(rùn)滑劑的壓縮系統(tǒng)的示意圖；圖3是示出在室溫下烴污染物在兩種不同的壓縮機(jī)潤(rùn)滑劑中溶解度的圖表；圖4示出根據(jù)本發(fā)明的壓縮系統(tǒng)的示意圖，該壓縮系統(tǒng)具有置于氣體冷卻器下方的氣體緩沖器；圖5示出根據(jù)本發(fā)明的壓縮系統(tǒng)的示意圖，該壓縮系統(tǒng)具有成套的氣體緩沖設(shè)備；以及圖6示出根據(jù)本發(fā)明的壓縮系統(tǒng)的示意圖，該壓縮系統(tǒng)具有成套的氣體緩沖設(shè)備，具有用于將廢液回收到系統(tǒng)入口、溶劑輸入裝置以及廢液泵送裝置的回收。具體實(shí)施例方式此后參照附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行描述。在下面的描述中，具有基本相同功能和配置的構(gòu)件由相同的附圖標(biāo)記標(biāo)注，并且僅在必要時(shí)進(jìn)行重復(fù)說(shuō)明。圖1示出引入氣流1的壓縮系統(tǒng)的示意圖，氣流1可在熱交換器或冷卻器2中冷卻到所需的吸氣溫度。然后經(jīng)冷卻的氣體到達(dá)脈動(dòng)緩沖容器或腔室3，所迷脈動(dòng)緩沖容器或腔室3使由氣體壓縮機(jī)4的吸氣導(dǎo)致的壓力波動(dòng)最小化。壓縮機(jī)4可以是使用一個(gè)或多個(gè)往復(fù)式活塞、旋轉(zhuǎn)式螺旋漿或槳葉、振蕩渦管的正位移或動(dòng)態(tài)壓縮機(jī)、離心或軸向壓縮機(jī)或者任意其它類型的壓縮機(jī)。壓縮機(jī)4的排出口在進(jìn)入冷卻器8之前連接到脈動(dòng)緩沖器或腔室7，在運(yùn)動(dòng)到最終的容器或腔室9之前在冷卻器8中被冷卻到所需溫度。經(jīng)壓縮冷卻的氣體10離開容器9以便使用或進(jìn)行進(jìn)一步處理。例如，當(dāng)在多級(jí)往復(fù)式活塞壓縮機(jī)中時(shí)，在進(jìn)行進(jìn)一步的壓縮階段之前，容器9可起到脈動(dòng)緩沖器的作用。容器9還可起到液體和/或固體粒子分離容器的作用。為此，容器9可設(shè)有內(nèi)部隔板、過(guò)濾器元件、填塞介質(zhì)、旋風(fēng)部分或其它裝置以便使得微滴分離有效進(jìn)行。同樣地，吸氣緩沖容器3也可起到位于壓縮機(jī)4之前的分離裝置的作用。為了將分離的物質(zhì)從容器3和9中排空，容器3和9設(shè)有排出管，所述排出管具有相應(yīng)的排出閥5和11。排出閥可以是手動(dòng)岡或自動(dòng)閥。排出閥還可由液位傳感器6和12致動(dòng)，所述液位傳感器6和12可以是任意類型的液位傳感器，諸如雷達(dá)、電容、導(dǎo)熱性、超聲、機(jī)械漂浮式或光學(xué)類型的液位傳感器，只要適合所收集的物質(zhì)即可。代替液位傳感器6和12,排出閥5和11可基于定時(shí)器、基于壓縮機(jī)旋轉(zhuǎn)的數(shù)目或基于其它裝置而自動(dòng)操作。自動(dòng)控制的方法不以任何方式限制本發(fā)明。下面的表1示出在0。C下從熱處理保護(hù)氣體中冷凝的污染物的代表性成分。所有這些化合物都是多芳香烴，并且所有這些化合物在室溫下都為固體。這些化合物以及其它烴、水蒸汽以及固體可以以大于每百萬(wàn)IOOO份的濃度存在于入口氣流1中。所述濃度可能導(dǎo)致冷卻器2和8的快速污染，這導(dǎo)致不希望的用于維修的停工期。即使?jié)舛?、溫度和壓力使得在熱交換器1或容器3中不發(fā)生污染，在熱交換器8和容器9中的較高的總氣體壓力也會(huì)導(dǎo)致形成污染沉積物。同樣地，如果產(chǎn)品氣體10在隨后的壓縮階段(這可能是進(jìn)行氣體的最佳凈化所需的)中被壓縮，那么隨后的壓縮階段會(huì)遭受污染。表1<table>tableseeoriginaldocumentpage12</column></row><table>圖2示出根據(jù)本發(fā)明的可選壓縮方案，其中壓縮機(jī)4提供有經(jīng)由泵22供應(yīng)的溶劑21，在該實(shí)例中溶劑21為潤(rùn)滑劑。由于目前液體混合物可收集在排出脈動(dòng)緩沖容器7中，所以容器7設(shè)有排出管，該排出管具有排出閥23。排出閥23可以是手動(dòng)致動(dòng)或自動(dòng)致動(dòng)的(例如通過(guò)使用液位開關(guān)24或通過(guò)其它裝置)，如上所述。潤(rùn)滑劑21的添加有利地起到增強(qiáng)壓縮機(jī)4的密封和抗磨壽命的作用。本發(fā)明人已經(jīng)確定有利地可選擇潤(rùn)滑劑21的化學(xué)成分和添加率，以便將給料流l中的污染物分離成溶劑和殘留或溶解在溶劑中的任意污染物的液體混合物，它們可分別收集在腔室7和9中，并且可分別經(jīng)由閥23和11排出。潤(rùn)滑劑可以與用于潤(rùn)滑壓縮機(jī)4本身的潤(rùn)滑劑相同。由于溶解的烴、水和固體污染物可改變潤(rùn)滑劑的性質(zhì)，所離。在壓縮機(jī)中，尤其是正位移壓縮機(jī)中使用單獨(dú)的油供給源(supply)是廣泛采納的。例如，已知所有的旋轉(zhuǎn)式葉片、旋轉(zhuǎn)式螺旋漿、振蕩渦管、旋轉(zhuǎn)式槳葉以及往復(fù)式活塞壓縮機(jī)以具有用于氣體通道的一個(gè)潤(rùn)滑劑供給源和用于機(jī)械設(shè)備的第二供給源操作。圖3示出代表性烴污染物在室溫下在兩種不同的壓縮機(jī)潤(rùn)滑劑中的溶解度。諸如萘之類的低熔點(diǎn)污染物在室溫潤(rùn)滑劑中具有高于高熔點(diǎn)污染物的較高溶解度。此外，在該實(shí)例中，低粘度的潤(rùn)滑劑有利地溶解較高比例的污染物。由于不同的氣流可能攜帶不同的污染物，所以不可能確定優(yōu)選用于所有情況的潤(rùn)滑劑；但是，顯然重要的是確定溶解度，以確保所選的潤(rùn)滑劑具有足夠的能力在所關(guān)注的溫度下溶解所述污染物。圖3中所示的所有污染物在IO(TC下在lg/10mL的濃度水平下完全溶解在兩種潤(rùn)滑劑中。因此，在根據(jù)本發(fā)明的壓縮系統(tǒng)內(nèi)防止局部污染可通過(guò)潤(rùn)滑劑和污染物流的相對(duì)量、潤(rùn)滑劑和污染物混合物的溫度、污染物的局部濃度以及潤(rùn)滑劑的化學(xué)成分而實(shí)現(xiàn)。圖4示出本發(fā)明壓縮系統(tǒng)的另一實(shí)施例，其中圖1和圖2的壓縮機(jī)排出緩沖器7由下緩沖腔室31代替。下緩沖腔室31部分或全部放置在冷卻器33下方，冷卻器33布置成使得冷凝液體排入緩沖腔室31中。冷卻器33與上緩沖腔室32連接，該上緩沖腔室32部分或全部位于緩沖腔室31上方，并且與冷卻器33的排出口流體流通。在該實(shí)施例中，飽和溫度比另外存在于壓縮機(jī)4排出口中的化合物低的化合物連續(xù)排入或回流到下緩沖腔室31中。這本質(zhì)上降低了緩沖腔室M中的溫度，而且還持續(xù)從冷卻器33和緩沖腔室31的表面清除固體沉積物。這導(dǎo)致收集在緩沖腔室31中的液體混合物中的高飽和溫度化合物的總濃度較低，所述化合物通過(guò)具有排出閥34的排出管排出，該排出閥34可由液位傳感器36或其它裝置致動(dòng)。雖然可以想象在一些情況下沒有液體積聚在上緩沖腔室32中，但是假設(shè)可以經(jīng)由具有排出閥35的排出管和液位傳感器37提供液體積聚和移除。如圖4中所示，該實(shí)施例的功能元件可結(jié)合到單個(gè)的機(jī)械組件30中?？蛇x地，所述設(shè)備可構(gòu)造成多個(gè)子組件。圖5示出圖4中系統(tǒng)的可選實(shí)施例，其中緩沖組件30是單個(gè)設(shè)備。在該實(shí)施例中，冷卻器33設(shè)有管路，該管路具有與下緩沖腔室31流體連通的入口和與上緩沖腔室32流體連通的排出口38。在該實(shí)施例中，冷卻器33是可移除的U形管束類型的冷卻器，該冷卻器33具有允許通過(guò)閥40并且通過(guò)流量指示器41的冷卻流體。從上腔室32排出的氣體10的溫度可有利地用于控制通過(guò)閥40的流速。該控制可經(jīng)由電子控制器或通過(guò)機(jī)械控制器(諸如溫度調(diào)節(jié)閥)手動(dòng)或自動(dòng)完成。緩沖組件30有利地設(shè)有微滴聚結(jié)裝置43，以便防止在氣流IO中攜帶液體或固體污染物的殘留物。微滴聚結(jié)可通過(guò)填充床、筒形過(guò)濾器或本領(lǐng)域技術(shù)人員已知的其它裝置。雖然上和下腔室32和31示出具有與圖5中相同的直徑，但是這些腔室可具有不同的直徑。此外可選地，這些腔室各自可設(shè)有單獨(dú)的壓力限度，圖5示出分離腔室的單個(gè)共用壓力限度。前述附圖示出本發(fā)明的實(shí)施例在進(jìn)給氣體1沒有受到在冷卻器2中存在的壓力和溫度下形成污染沉積物的物質(zhì)的污染物的污染時(shí)是有利的。圖6示出本發(fā)明的實(shí)施例在冷卻器2中或在入口緩沖容器3中可能受到污染的情況下是有利的。在該實(shí)施例中，來(lái)自閥34和35的冷凝潤(rùn)滑劑和污染物流的混合物被供應(yīng)到容器3，例如，混合物可在位置50處(如圖6中所示)返回到冷卻器2的入口，然后混合物行進(jìn)到容器3，或者可選地混合物可直接返回到容器3，到達(dá)將氣體l運(yùn)送到容器3的在容器3上游位置處的管路(容器3位于冷卻器2的上游或下游，如果存在所述冷卻器的話)，或者到達(dá)在容器3下游位置處的管路，這樣利用重力將混合物進(jìn)給到容器3。由于來(lái)自閥34和35的液體與潤(rùn)滑劑混合，它們具有比在冷卻器2和容器3的低溫度和壓力特性下會(huì)形成沉積物的組分低的低分子量、低飽和溫度以及低熔點(diǎn)。因此，這些液體可用于溶解沉積物。如果提供本發(fā)明中可想到的氣體10的附加壓縮階段，殘留在緩沖組件30中的與那些附加壓縮階段相關(guān)的液體還可返回到位置50。這些液體的分子量比來(lái)自閥35和34的液體分子量低。在壓縮的多個(gè)階段內(nèi)，返回的液體將基本僅僅是潤(rùn)滑劑。為了將來(lái)自容器3的液體混合物丟棄到遙遠(yuǎn)的桶罐，或者容器3中的氣體壓力不足以有效流動(dòng)通過(guò)閥5的情況下，提供泵51是有利的。泵51可設(shè)有便于連續(xù)操作的背壓閥52，以便防止液體混合物在泵M中冷卻和固化。閥5仍然用于從系統(tǒng)中移除液體，并且如圖所示仍然14可通過(guò)液位傳感器6致動(dòng)。如果來(lái)自閥34和35的混合物不需要回收，或者如果混合物仍難于處理或?qū)е挛廴?，可使用容?中的端口55注入溶劑。也可在冷卻器2上游的注入位置處進(jìn)行所述溶劑注入。溶劑的使用便于在過(guò)高而滑劑?？蛇x地，溶劑注入可用于代替壓縮機(jī)潤(rùn)滑劑。為了溶解諸如在表1中所示的那些烴污染物，諸如醇、醚、輕質(zhì)烴、二甲基氯、汽油或柴油的溶劑都可用作溶劑。本發(fā)明人預(yù)測(cè)其它雜質(zhì)可容易地溶解在其它溶劑中。用于溶解當(dāng)前污染物的任意溶劑是本發(fā)明可以想到的。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，在溶劑注入位置55的下游但是在與容器3流體連通的位置提供聚結(jié)裝置56，這樣冷凝液體可排入容器3中。這有利地在氣體1和通過(guò)位置55注入的溶劑之間提供緊密接觸，從而最大程度地移除污染物。在本發(fā)明的另一實(shí)施例中，冷卻器2可以是直接接觸的冷卻器。對(duì)于烴污染物，優(yōu)選使用直接接觸冷卻器，該直接接觸冷卻器使用污染物在其中具有最小溶解度的冷卻介質(zhì)。這種冷卻介質(zhì)的一個(gè)實(shí)例是水。當(dāng)使用直接接觸水冷卻器2時(shí)，可容易地分離不能混溶的烴污染物，并且冷卻劑可無(wú)限期地回收。直接接觸冷卻器2可與在位置50處注入的回收的潤(rùn)滑劑一起使用，其中潤(rùn)滑劑可重新直接注入容器3，或者沒有潤(rùn)滑劑回收。不同的氣體組分、壓力和溫度可使得這些線路中的任意一個(gè)是所需的，這樣沒有本質(zhì)上為優(yōu)選的線路。應(yīng)該注意的是，在此示出和描述的示例性實(shí)施例僅僅是本發(fā)明提出的優(yōu)選實(shí)施例，但是并不意味著以任何方式對(duì)所附權(quán)利要求的范圍進(jìn)行限制?？梢愿鶕?jù)上述教導(dǎo)對(duì)本發(fā)明進(jìn)行各種改變和變化。因此應(yīng)該理解的是，在所附權(quán)利要求的范圍內(nèi)，可以除此所述具體描述之外的形式實(shí)施本發(fā)明。1權(quán)利要求1.一種用于回收受到有機(jī)分解副產(chǎn)物污染的廢棄保護(hù)氣體的回收設(shè)備，所述回收設(shè)備包括壓縮機(jī)，其具有連接到廢棄保護(hù)氣體供應(yīng)管線的入口；溶劑供給源，其構(gòu)造成將溶劑供應(yīng)到所述壓縮機(jī)處或所述壓縮機(jī)上游處的氣體通道；以及連接到所述壓縮機(jī)出口的第一腔室，所述第一腔室構(gòu)造成接收來(lái)自所述壓縮機(jī)的壓縮氣體，并且收集包括溶劑和殘留或溶解在溶劑中的任意污染物的混合物。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的回收設(shè)備，其中所述第一腔室包括具有排出閥的排出管，所述排出閥構(gòu)造成從所述笫一腔室排出混合物。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的回收設(shè)備，其中所述溶劑供給源構(gòu)造成氣體通道。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的回收設(shè)備，進(jìn)一步包括構(gòu)造成將潤(rùn)滑劑供應(yīng)到所述壓縮機(jī)的機(jī)械構(gòu)件的機(jī)械潤(rùn)滑劑供給源，其中所述機(jī)械潤(rùn)滑劑供給源與所述溶劑供給源分離。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的回收設(shè)備，進(jìn)一步包括連接到所述第一腔室出口的第二腔室，所述第二腔室構(gòu)造成接收來(lái)自所述壓縮機(jī)的壓縮氣體，并且收集包括溶劑和殘留或溶解在溶劑中的任意污染物的混合物；以及沿著將所述第二腔室連接到所述第一腔室的管道設(shè)置的熱交換器，所述熱交換器構(gòu)造成冷卻所述管道內(nèi)的壓縮氣體。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的回收設(shè)備，其中所述第二腔室包括具有排出閥的排出管，所述排出閥構(gòu)造成從所述第二腔室排出混合物。7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的回收設(shè)備，其中所述第一腔室設(shè)置在一操作高度處，該操作高度部分或完全在所述熱交換器下方，其中在所述熱交換器中冷凝的任意液體可排入所述第一腔室內(nèi)。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的回收設(shè)備，其中所述第二腔室設(shè)置在一操作高度處，該操作高度部分或完全在所述第一腔室上方。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的回收設(shè)備，其中所述第一腔室、所述熱交換器和所述第二腔室設(shè)置在單個(gè)殼體組件內(nèi)。10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的回收設(shè)備，其中所述第一腔室、所述熱交換器和所述笫二腔室結(jié)合成單個(gè)設(shè)備。11.根據(jù)權(quán)利要求IO所述的回收設(shè)備，其中所述單個(gè)設(shè)備包括容器，其具有限定所述第一腔室的下腔室和限定所述第二腔室的上腔室；以及流動(dòng)管路，其具有與所述下腔室流體連通的第一開口和與所述上腔室流體連通的第二開口；并且所述熱交換器在所述流動(dòng)管路內(nèi)延伸。12.根據(jù)權(quán)利要求5所述的回收設(shè)備，進(jìn)一步包括第三腔室，所述第三腔室設(shè)置在所述壓縮機(jī)的上游，并且具有連接到廢棄保護(hù)氣體供應(yīng)管線的入口；其中所述第一腔室包括具有排出閥的排出管，所述排出閥構(gòu)造成從所述第一腔室排出混合物；并且其中所述排出管構(gòu)造成將所排出的混合物供應(yīng)到所述第三腔室。13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的回收設(shè)備，進(jìn)一步包括沿著將廢棄保護(hù)氣體供應(yīng)管線連接到所述第三腔室的所述入口的管道設(shè)置的冷卻器，所述冷卻器構(gòu)造成冷卻所述管道內(nèi)的廢棄保護(hù)氣體。14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的回收設(shè)備，其中所述排出管構(gòu)造成將所排出的混合物供應(yīng)到所述冷卻器的氣體通道。15.根據(jù)權(quán)利要求12所述的回收設(shè)備，其中所述排出管構(gòu)造成將所排出的混合物直接供應(yīng)到所述第三腔室中。16.根據(jù)權(quán)利要求12所述的回收設(shè)備，其中所述排出管構(gòu)造成將所排出的混合物供應(yīng)到所述第三腔室上游或下游的氣體通道。17.根據(jù)權(quán)利要求12所述的回收設(shè)備，其中所述笫二腔室包括具有附加排出閥的附加排出管，所述附加排出閥構(gòu)造成從所述第二腔室排出混合物；并且所述附加排出管構(gòu)造成將所排出的混合物供應(yīng)到所述第三腔室。18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的回收設(shè)備，進(jìn)一步包括沿著將廢棄保護(hù)氣體供應(yīng)管線連接到所述第三腔室的所述入口的管道設(shè)置的冷卻器，所述冷卻器構(gòu)造成冷卻所述管道內(nèi)的廢棄保護(hù)氣體，其中所述排出管和所述附加排出管構(gòu)造成將所排出的混合物供應(yīng)到所述冷卻器的氣體通道。19.根據(jù)權(quán)利要求1所述的回收設(shè)備，進(jìn)一步包括設(shè)置在所述壓縮機(jī)上游并且具有連接到廢棄保護(hù)氣體供應(yīng)管線的入口的附加腔室。20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的回收設(shè)備，進(jìn)一步包括沿著將廢棄保護(hù)氣體供應(yīng)管線連接到所述附加腔室的所述入口的管道設(shè)置的冷卻器，所述冷卻器構(gòu)造成冷卻所述管道內(nèi)的廢棄保護(hù)氣體。21.根據(jù)權(quán)利要求19所述的回收設(shè)備，進(jìn)一步包括構(gòu)造成將笫二溶劑供應(yīng)到所述附加腔室的第二溶劑供給源。22.根據(jù)權(quán)利要求19所述的回收設(shè)備，其中所述第一腔室包括具有排出閥的排出管，所述排出閥構(gòu)造成從所述第一腔室排出混合物；并且所述排出管構(gòu)造成將所排出的混合物供應(yīng)到所述附加腔室。23.根據(jù)權(quán)利要求22所述的回收設(shè)備，其中所述排出管構(gòu)造成將所排出的混合物直接供應(yīng)到所述附加腔室。24.根據(jù)權(quán)利要求22所述的回收設(shè)備，其中所述排出管構(gòu)造成將所排出的混合物供應(yīng)到所述附加腔室上游或下游的氣體通道中。25.—種回收受到有機(jī)分解副產(chǎn)物污染的廢棄保護(hù)氣體的方法，所述方法包4舌接收廢棄保護(hù)氣體；將溶劑供應(yīng)到攜帶廢棄保護(hù)氣體的氣體通道；將處于溶劑供應(yīng)位置或下游位置處的廢棄保護(hù)氣體壓縮到氣體通道；以及將壓縮氣體接收在第一腔室內(nèi)，并且將包括溶劑和殘留或溶解在溶劑中的任意污染物的混合物收集在第一腔室中。26.根據(jù)權(quán)利要求25所述的方法，其中溶劑是壓縮機(jī)潤(rùn)滑劑。27.根據(jù)權(quán)利要求26所述的方法，進(jìn)一步包括將機(jī)械潤(rùn)滑劑供應(yīng)到所述壓縮機(jī)的機(jī)械構(gòu)件，其中機(jī)械潤(rùn)滑劑供給源與溶劑供給源分離。28.根據(jù)權(quán)利要求25所述的方法，進(jìn)一步包括使用熱交換器冷卻壓縮氣體；以及將冷卻的壓縮氣體接收在第二腔室內(nèi)，并且將將包括溶劑和殘留或溶解在溶劑中的任意污染物的混合物收集在第二腔室中。29.根據(jù)權(quán)利要求28所述的方法，其中所述第一腔室設(shè)置在一操作高度處，該操作高度部分或完全在所述熱交換器下方，其中在所述熱交換器中冷凝的任意液體可排入所述第一腔室中。30.根據(jù)權(quán)利要求29所述的方法，其中所述第二腔室設(shè)置在一操作高度處，該操作高度部分或完全在所述第一腔室上方。31.根據(jù)權(quán)利要求30所述的方法，其中所述第一腔室、所述熱交換器和所述第二腔室設(shè)置在單個(gè)殼體組件內(nèi)。32.根據(jù)權(quán)利要求30所述的方法，其中所述第一腔室、所迷熱交換器和所述第二腔室結(jié)合成單個(gè)設(shè)備。33.根據(jù)權(quán)利要求32所述的方法，，其中所述單個(gè)設(shè)備包括容器，其具有限定所述第一腔室的下腔室和限定所述第二腔室的上腔室；以及流動(dòng)管路，其具有與所述下腔室流體連通的第一開口和與所述上腔室流體連通的第二開口；并且所述熱交換器在所述流動(dòng)管路內(nèi)延伸。34.根據(jù)權(quán)利要求28所述的方法，還包括將廢棄保護(hù)氣體接收在第三腔室內(nèi)，所述第三腔室設(shè)置在其壓縮上游的位置處；將第一腔室中收集的混合物供應(yīng)到第三腔室；以及將包括溶劑和殘留或溶解在溶劑中的任意污染物的混合物收集在第三腔室內(nèi)。35.根據(jù)權(quán)利要求34所述的方法，進(jìn)一步包括使用冷卻器冷卻第三腔室上游的廢棄保護(hù)氣體。36.根據(jù)權(quán)利要求35所述的方法，其中將收集在第一腔室中的混合物供應(yīng)到冷卻器的氣體通道。37.根據(jù)權(quán)利要求34所述的方法，其中將收集在第一腔室中的混合物直接供應(yīng)到第三腔室中。38.根據(jù)權(quán)利要求34所述的方法，其中將收集在第一腔室中的混合物供應(yīng)到第三腔室上游或下游的氣體通道中。39，根據(jù)權(quán)利要求34所述的方法，進(jìn)一步包括將收集在第二腔室中的混合物供應(yīng)到第三腔室。40.根據(jù)權(quán)利要求39所述的方法，進(jìn)一步包括使用冷卻器冷卻第三腔室上游的廢棄保護(hù)氣體；其中將收集在第一腔室中的混合物和收集在第二腔室中的混合物供應(yīng)到冷卻器的氣體通道。41.根據(jù)權(quán)利要求25所述的方法，進(jìn)一步包括將廢棄保護(hù)氣體接收在附加腔室內(nèi)，所述附加腔室設(shè)置在其壓縮的上游位置處。42.根據(jù)權(quán)利要求41所述的方法，進(jìn)一步包括使用冷卻器冷卻附加腔室上游的廢棄保護(hù)氣體。43.根據(jù)權(quán)利要求41所述的方法，進(jìn)一步包括將第二溶劑供應(yīng)到附加腔室；以及將包括第二溶劑和殘留或溶解在第二溶劑中的任意污染物的混合物收集在附加腔室內(nèi)。44.根據(jù)權(quán)利要求41所述的方法，進(jìn)一步包括將收集在第一腔室中的混合物供應(yīng)到附加腔室；以及將包括溶劑和殘留或溶解在溶劑中的任意污染物的混合物收集在附加腔室內(nèi)。45.根據(jù)權(quán)利要求44所述的方法，其中將收集在第一腔室中的混合物直接供應(yīng)到附加腔室中。46.根據(jù)權(quán)利要求44所述的方法，其中將收集在第一腔室中的混合物供應(yīng)到附加腔室上游或下游的氣體通道中。47.根據(jù)權(quán)利要求25所述的方法，其中壓縮包括至少一個(gè)正位移壓縮階段。48.根據(jù)權(quán)利要求25所述的方法，其中壓縮包括至少一個(gè)潤(rùn)滑油潤(rùn)滑的正位移壓縮階段。全文摘要一種用于回收受到有機(jī)分解副產(chǎn)物污染的消耗廢棄保護(hù)氣體的回收設(shè)備。所述氣體回收設(shè)備包括壓縮機(jī)，其具有連接到廢棄保護(hù)氣體供應(yīng)管線的入口；以及溶劑供給源，其構(gòu)造成將溶劑供應(yīng)到所述壓縮機(jī)處或所述壓縮機(jī)上游處的氣體通道。所述回收設(shè)備還包括連接到所述壓縮機(jī)出口的第一腔室，所述第一腔室構(gòu)造成接收來(lái)自所述壓縮機(jī)的壓縮氣體，并且收集包括溶劑和殘留或溶解在溶劑中的任意污染物的混合物。文檔編號(hào)B01D5/00GK101505843SQ200780031346公開日2009年8月12日申請(qǐng)日期2007年8月22日優(yōu)先權(quán)日2006年8月23日發(fā)明者C·P·海因里希斯,E·T·麥克卡洛,M·J·斯卡爾卡,R·S·托德,R·帕特爾,小F·D·洛馬克思申請(qǐng)人:H2Gen創(chuàng)新公司