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育苗盤清洗機(jī)用清洗系統(tǒng)的制作方法

文檔序號(hào):10865661閱讀:258來源:國(guó)知局
育苗盤清洗機(jī)用清洗系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及育苗技術(shù)設(shè)備領(lǐng)域,尤其涉及一種育苗盤清洗機(jī)用清洗系統(tǒng),包括機(jī)架,所述機(jī)架上從前到后依次設(shè)有低壓濕潤(rùn)裝置、清洗輥裝置、高壓清洗裝置,所述低壓濕潤(rùn)裝置包括有低壓噴頭,所述清洗輥裝置包括兩下清洗輥,兩所述下清洗輥的上方設(shè)有上清洗輥,所述高壓清洗裝置包括至少兩排高壓噴頭,所述上清洗輥和兩下清洗輥連接有轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置;低壓濕潤(rùn)裝置噴水對(duì)育苗盤上的進(jìn)行初步清洗育苗盤上粘附的污泥被濕潤(rùn),清洗輥裝置包括上清洗輥和下清洗輥,上清洗輥和下清洗輥分別對(duì)育苗盤進(jìn)行清洗,高壓清洗裝置的高壓噴頭利用高壓水流對(duì)育苗盤進(jìn)行沖刷,其中位于下游的所述高壓噴頭的水壓高于位于上游的所述高壓噴頭的水壓,清洗效果更好。
【專利說明】
育苗盤清洗機(jī)用清洗系統(tǒng)
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及一種清洗系統(tǒng),尤其涉及一種育苗盤清洗機(jī)用清洗系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]育苗盤是工廠化種苗生產(chǎn)工藝中的一種重要器具,育苗盤的形狀為長(zhǎng)方形,其表面分布有多處穴孔,穴孔內(nèi)可以填充育苗用的基質(zhì),用于植物幼苗的培育,為了保證透氣性,每一個(gè)穴孔的底部均設(shè)有透氣孔。為了實(shí)現(xiàn)重復(fù)使用,用過后的育苗盤需要進(jìn)行清洗。由于育苗盤為多穴孔結(jié)構(gòu),清洗時(shí)較為困難,通常的做法是將育苗盤放置到清洗池中,進(jìn)行人工刷洗,這種方式不僅占用人力較多,而且效率低下,而且現(xiàn)有技術(shù)中在進(jìn)行育苗盤清洗時(shí),多采用人工送料的方式,自動(dòng)化程度低。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]為了彌補(bǔ)以上不足,本實(shí)用新型提供了一種育苗盤清洗效率高,清洗效果好的育苗盤清洗機(jī)用清洗系統(tǒng)。
[0004]本實(shí)用新型的技術(shù)方案是:育苗盤清洗機(jī)用清洗系統(tǒng),包括機(jī)架,所述機(jī)架上從前到后依次設(shè)有低壓濕潤(rùn)裝置、清洗輥裝置、高壓清洗裝置,所述低壓濕潤(rùn)裝置包括有低壓噴頭,所述清洗輥裝置包括兩下清洗輥,兩所述下清洗輥的上方設(shè)有上清洗輥,所述高壓清洗裝置包括至少兩排高壓噴頭,所述上清洗輥和兩下清洗輥連接有轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置。
[0005]作為優(yōu)選的技術(shù)方案,位于下游的所述高壓噴頭的水壓高于位于上游的所述高壓嗔頭的水壓。
[0006]作為優(yōu)選的技術(shù)方案,所述高壓噴頭設(shè)置為四排。
[0007]作為優(yōu)選的技術(shù)方案,所述機(jī)架上還設(shè)有清洗噴頭,所述清洗噴頭向所述上清洗輥和下清洗輥噴水。
[0008]作為優(yōu)選的技術(shù)方案,所所述轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置包括電動(dòng)機(jī),所述電動(dòng)機(jī)連接有主動(dòng)輪,所述上清洗輥和所述下清洗輥的轉(zhuǎn)軸上分別安裝有從動(dòng)輪,所述主動(dòng)輪和所述從動(dòng)輪之間設(shè)有傳動(dòng)帶。
[0009]作為優(yōu)選的技術(shù)方案,所述上清洗輥和所述機(jī)架之間設(shè)有上清洗輥升降調(diào)節(jié)裝置,所述上清洗輥升降調(diào)節(jié)裝置包括安裝在所述機(jī)架上的導(dǎo)向板,所述導(dǎo)向板上設(shè)有導(dǎo)向槽,所述上清洗輥的轉(zhuǎn)軸穿過所述導(dǎo)向槽轉(zhuǎn)動(dòng)安裝在調(diào)節(jié)座上,所述調(diào)節(jié)座上設(shè)有調(diào)節(jié)座螺孔,所述調(diào)節(jié)座螺孔內(nèi)旋合有調(diào)節(jié)螺栓,所述導(dǎo)向槽的兩側(cè)設(shè)有多個(gè)與所述調(diào)節(jié)螺栓配合的導(dǎo)向板螺孔,所述調(diào)節(jié)螺栓的端部經(jīng)所述調(diào)節(jié)座螺孔旋合在所述導(dǎo)向板螺孔內(nèi),所述上清洗輥的轉(zhuǎn)軸上安裝的從動(dòng)輪上繞有所述傳動(dòng)帶,所述導(dǎo)向板上安裝有傳動(dòng)帶張緊輪,所述張緊輪和所述導(dǎo)向板之間設(shè)有距離調(diào)節(jié)裝置。
[0010]由于采用了上述技術(shù)方案,育苗盤清洗機(jī)用清洗系統(tǒng),包括機(jī)架,所述機(jī)架上從前到后依次設(shè)有低壓濕潤(rùn)裝置、清洗輥裝置、高壓清洗裝置,所述低壓濕潤(rùn)裝置包括有低壓噴頭,所述清洗輥裝置包括兩下清洗輥,兩所述下清洗輥的上方設(shè)有上清洗輥,所述高壓清洗裝置包括至少兩排高壓噴頭,所述上清洗輥和兩下清洗輥連接有轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置;低壓濕潤(rùn)裝置噴水對(duì)育苗盤上的進(jìn)行初步清洗育苗盤上粘附的污泥被濕潤(rùn),方便進(jìn)行下一步處理,清洗輥裝置包括上清洗輥和下清洗輥,上清洗輥和下清洗輥分別對(duì)育苗盤進(jìn)行清洗,高壓清洗裝置的至少兩排高壓噴頭利用高壓水流對(duì)育苗盤進(jìn)行沖刷,其中位于下游的所述高壓噴頭的水壓高于位于上游的所述高壓噴頭的水壓,清洗效果更好。
【附圖說明】
[0011]為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)性的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0012]圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0013]圖2是本實(shí)用新型實(shí)施例中上清洗輥升降調(diào)節(jié)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0014]如圖1和圖2所示,育苗盤清洗機(jī)用清洗系統(tǒng),包括機(jī)架I,所述機(jī)架I上從前到后依次設(shè)有低壓濕潤(rùn)裝置2、清洗輥裝置3、高壓清洗裝置4,所述低壓濕潤(rùn)裝置2包括有低壓噴頭5,所述清洗輥裝置3包括兩下清洗輥6,兩所述下清洗輥6的上方設(shè)有上清洗輥7,所述高壓清洗裝置包括至少兩排高壓噴頭8,所述上清洗輥7和兩下清洗輥6連接有轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置。
[0015]位于下游的所述高壓噴頭8的水壓高于位于上游的所述高壓噴頭8的水壓。
[0016]所述高壓噴頭8設(shè)置為四排。
[0017]所述機(jī)架上還設(shè)有清洗噴頭9,所述清洗噴頭9向所述上清洗輥7和下清洗輥6噴水。
[0018]所述轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置包括電動(dòng)機(jī),所述電動(dòng)機(jī)連接有主動(dòng)輪,所述上清洗輥和所述下清洗輥的轉(zhuǎn)軸上分別安裝有從動(dòng)輪10,所述主動(dòng)輪和所述從動(dòng)輪10之間設(shè)有傳動(dòng)帶11。
[0019]所述上清洗輥和所述機(jī)架之間設(shè)有上清洗輥升降調(diào)節(jié)裝置。所述上清洗輥升降調(diào)節(jié)裝置包括安裝在所述機(jī)架上的導(dǎo)向板12,所述導(dǎo)向板12上設(shè)有導(dǎo)向槽13,所述上清洗輥7的轉(zhuǎn)軸穿過所述導(dǎo)向槽13轉(zhuǎn)動(dòng)安裝在調(diào)節(jié)座14上,所述調(diào)節(jié)座14上設(shè)有調(diào)節(jié)座螺孔,所述調(diào)節(jié)座螺孔內(nèi)旋合有調(diào)節(jié)螺栓15,所述導(dǎo)向槽13的兩側(cè)設(shè)有多個(gè)與所述調(diào)節(jié)螺栓15配合的導(dǎo)向板螺孔,所述調(diào)節(jié)螺栓15的端部經(jīng)所述調(diào)節(jié)座螺孔旋合在所述導(dǎo)向板螺孔16內(nèi),所述上清洗輥7的轉(zhuǎn)軸上安裝的從動(dòng)輪10上繞有所述傳動(dòng)帶17,所述導(dǎo)向板12上安裝有傳動(dòng)帶張緊輪18,所述張緊輪18和所述導(dǎo)向板12之間設(shè)有距離調(diào)節(jié)裝置,所述張緊輪安裝在支撐桿上,所述距離調(diào)節(jié)裝置包括設(shè)在所述支撐桿的外螺紋,所述導(dǎo)向板上設(shè)有與所述支撐桿上外螺紋配合的螺紋孔,通過轉(zhuǎn)動(dòng)支撐桿,可以改變支撐桿伸出的距離。
[0020]低壓濕潤(rùn)裝置噴水對(duì)育苗盤上的進(jìn)行初步清洗育苗盤上粘附的污泥被濕潤(rùn),方便進(jìn)行下一步處理,清洗輥裝置包括上清洗輥7和下清洗輥6,上清洗輥7和下清洗輥分別對(duì)育苗盤進(jìn)行清洗,高壓清洗裝置的至少兩排高壓噴頭8利用高壓水流對(duì)育苗盤進(jìn)行沖刷,其中位于下游的所述高壓噴頭的水壓高于位于上游的所述高壓噴頭的水壓,清洗效果更好。
[0021]以上顯示和描述了本實(shí)用新型的基本原理、主要特征及本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)。本行業(yè)的技術(shù)人員應(yīng)該了解,本實(shí)用新型不受上述實(shí)施例的限制,上述實(shí)施例和說明書中描述的只是說明本實(shí)用新型的原理,在不脫離本實(shí)用新型精神和范圍的前提下,本實(shí)用新型還會(huì)有各種變化和改進(jìn),這些變化和改進(jìn)都落入要求保護(hù)的本實(shí)用新型范圍內(nèi)。本實(shí)用新型要求保護(hù)范圍由所附的權(quán)利要求書及其等效物界定。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.育苗盤清洗機(jī)用清洗系統(tǒng),其特征在于:包括機(jī)架,所述機(jī)架上從前到后依次設(shè)有低壓濕潤(rùn)裝置、清洗輥裝置、高壓清洗裝置,所述低壓濕潤(rùn)裝置包括有低壓噴頭,所述清洗輥裝置包括兩下清洗輥,兩所述下清洗輥的上方設(shè)有上清洗輥,所述高壓清洗裝置包括至少兩排高壓噴頭,所述上清洗輥和兩下清洗輥連接有轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置。2.如權(quán)利要求1所述的育苗盤清洗機(jī)用清洗系統(tǒng),其特征在于:位于下游的所述高壓噴頭的水壓高于位于上游的所述高壓噴頭的水壓。3.如權(quán)利要求2所述的育苗盤清洗機(jī)用清洗系統(tǒng),其特征在于:所述高壓噴頭設(shè)置為四排。4.如權(quán)利要求1所述的育苗盤清洗機(jī)用清洗系統(tǒng),其特征在于:所述機(jī)架上還設(shè)有清洗噴頭,所述清洗噴頭向所述上清洗輥和下清洗輥噴水。5.如權(quán)利要求1所述的育苗盤清洗機(jī)用清洗系統(tǒng),其特征在于:所述轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置包括電動(dòng)機(jī),所述電動(dòng)機(jī)連接有主動(dòng)輪,所述上清洗輥和所述下清洗輥的轉(zhuǎn)軸上分別安裝有從動(dòng)輪,所述主動(dòng)輪和所述從動(dòng)輪之間設(shè)有傳動(dòng)帶。6.如權(quán)利要求5所述的育苗盤清洗機(jī)用清洗系統(tǒng),其特征在于:所述上清洗輥和所述機(jī)架之間設(shè)有上清洗輥升降調(diào)節(jié)裝置,所述上清洗輥升降調(diào)節(jié)裝置包括安裝在所述機(jī)架上的導(dǎo)向板,所述導(dǎo)向板上設(shè)有導(dǎo)向槽,所述上清洗輥的轉(zhuǎn)軸穿過所述導(dǎo)向槽轉(zhuǎn)動(dòng)安裝在調(diào)節(jié)座上,所述調(diào)節(jié)座上設(shè)有調(diào)節(jié)座螺孔,所述調(diào)節(jié)座螺孔內(nèi)旋合有調(diào)節(jié)螺栓,所述導(dǎo)向槽的兩側(cè)設(shè)有多個(gè)與所述調(diào)節(jié)螺栓配合的導(dǎo)向板螺孔,所述調(diào)節(jié)螺栓的端部經(jīng)所述調(diào)節(jié)座螺孔旋合在所述導(dǎo)向板螺孔內(nèi),所述上清洗輥的轉(zhuǎn)軸上安裝的從動(dòng)輪上繞有所述傳動(dòng)帶,所述導(dǎo)向板上安裝有傳動(dòng)帶張緊輪,所述張緊輪和所述導(dǎo)向板之間設(shè)有距離調(diào)節(jié)裝置。
【文檔編號(hào)】B08B1/04GK205550939SQ201620358831
【公開日】2016年9月7日
【申請(qǐng)日】2016年4月26日
【發(fā)明人】滕春富, 殷德民, 趙洪軍, 朱奎, 王清亮, 李永清, 聶榮義, 張軍, 王萍
【申請(qǐng)人】山東濰坊煙草有限公司
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