本技術(shù)涉及加熱爐，具體為一種加熱爐的承載裝置。

背景技術(shù)：

1、加熱爐是一種用于加熱物體的設(shè)備，常見于工業(yè)生產(chǎn)和實驗室環(huán)境中。它通過提供高溫環(huán)境，將物體加熱到所需的溫度，以實現(xiàn)各種目的，如燒結(jié)、熔煉、干燥、退火等。

2、經(jīng)檢索，專利號為(cn213657498u)一種加熱爐的承載裝置，包括承載裝置主體，所述承載裝置主體包括支撐裝置和密封結(jié)構(gòu)，所述密封結(jié)構(gòu)的一端設(shè)置有進水口，所述密封結(jié)構(gòu)的另一端設(shè)置有出水口，所述密封結(jié)構(gòu)的內(nèi)部設(shè)置有若干個導(dǎo)流裝置，所述密封結(jié)構(gòu)上設(shè)置有安全泄壓接管口，所述承載裝置主體的一側(cè)設(shè)置有安全泄壓閥，所述支撐裝置為一個支撐單元或者若干個相互交聯(lián)的支撐單元，所述支撐單元包括一軸向水平的增強支撐桿，所述增強支撐桿的外部徑向設(shè)置有若干個增強板。本實用新型結(jié)構(gòu)新穎，成本低，使用壽命長，提高加熱爐的穩(wěn)定性，具有很高的實用價值和推廣價值，但是該結(jié)構(gòu)在使用時，不便于對不同規(guī)格的設(shè)備使用，就使得該設(shè)備在使用時有很大的局限性，所以現(xiàn)在提出一種新的結(jié)構(gòu)，來解決這一技術(shù)問題。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、(一)解決的技術(shù)問題

2、針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實用新型提供了一種加熱爐的承載裝置，具備可以對不同規(guī)格設(shè)備使用等優(yōu)點，解決了上述背景技術(shù)中提到的傳統(tǒng)的裝置不便于對不同規(guī)格設(shè)備使用的問題。

3、(二)技術(shù)方案

4、為實現(xiàn)上述背景技術(shù)中提到的對于不同規(guī)格設(shè)備使用的目的，本實用新型提供如下技術(shù)方案：一種加熱爐的承載裝置，包括底座板，所述底座板外表面一側(cè)設(shè)置有支撐裝置；

5、所述支撐裝置包括裝置架，所述裝置架外表面一側(cè)設(shè)置有第一連接桿，所述裝置架外表面一側(cè)設(shè)置有裝置箱，所述裝置箱內(nèi)部設(shè)置有裝置管，所述裝置管內(nèi)部設(shè)置有裝置桿，所述裝置桿一端設(shè)置有支撐座，所述裝置桿外表面一側(cè)設(shè)置有第二連接桿，所述第二連接桿外表面一側(cè)設(shè)置有螺紋桿，所述螺紋桿一端設(shè)置有轉(zhuǎn)盤，所述轉(zhuǎn)盤外表面一側(cè)設(shè)置有轉(zhuǎn)桿，所述轉(zhuǎn)桿一端設(shè)置有活動桿，所述活動桿外表面一側(cè)設(shè)置有固定桿。

6、優(yōu)選的，所述裝置箱數(shù)量為兩個，且兩個所述裝置箱均勻設(shè)置于裝置架外表面左右兩側(cè)。

7、優(yōu)選的，所述裝置箱外表面一側(cè)與裝置架外表面一側(cè)接觸，并貫穿裝置架外表面一側(cè)，至裝置架內(nèi)，并與裝置架之間固定連接。

8、優(yōu)選的，所述裝置管數(shù)量為兩個，且兩個所述裝置管均勻設(shè)置于左右兩側(cè)裝置箱內(nèi)。

9、優(yōu)選的，所述裝置管一端與裝置箱內(nèi)壁一側(cè)接觸，并貫穿裝置箱內(nèi)壁一側(cè)，至裝置箱外表面一側(cè)，并與裝置箱之間固定連接。

10、優(yōu)選的，所述轉(zhuǎn)桿一端與裝置箱外表面一側(cè)接觸，并貫穿裝置箱外表面一側(cè)，至裝置箱內(nèi)，并與轉(zhuǎn)盤外表面一側(cè)固定連接。

11、裝置管外表面上下兩側(cè)設(shè)置有滑槽，且滑槽外表面一側(cè)與裝置管外表面一側(cè)接觸，并貫穿裝置管外表面一側(cè)，至裝置管內(nèi)，且裝置桿設(shè)置于裝置管內(nèi)，且裝置桿外表面一側(cè)設(shè)置有滑桿，且滑桿一端與裝置桿外表面一側(cè)固定連接，且另一端與滑槽內(nèi)壁滑動連接，從而使得裝置桿在左右運動時，更具有穩(wěn)定性；

12、且轉(zhuǎn)盤外表面一側(cè)設(shè)置有環(huán)槽，且環(huán)槽外表面一側(cè)與轉(zhuǎn)盤外表面一側(cè)接觸，并貫穿轉(zhuǎn)盤外表面一側(cè)，至轉(zhuǎn)盤內(nèi)，且裝置箱內(nèi)壁一側(cè)設(shè)置有滑桿，且滑桿一端與裝置箱內(nèi)壁一側(cè)固定連接，且另一端與環(huán)槽內(nèi)壁滑動連接，從而使得轉(zhuǎn)桿帶動螺紋桿轉(zhuǎn)動時，更具有穩(wěn)定性；

13、且轉(zhuǎn)桿外表面一側(cè)設(shè)置有裝置孔，且裝置孔一端與轉(zhuǎn)桿外表面一側(cè)接觸，并貫穿轉(zhuǎn)桿外表面一側(cè)，至轉(zhuǎn)桿外表面另一側(cè)，并延伸至螺紋桿內(nèi)，且裝置孔內(nèi)壁上下兩側(cè)設(shè)置有滑槽，且滑槽外表面一側(cè)與裝置孔內(nèi)壁一側(cè)接觸，并貫穿裝置孔內(nèi)壁一側(cè)，至螺紋桿外表面一側(cè)，且活動桿設(shè)置于裝置孔內(nèi)，且上下兩側(cè)固定桿貫穿滑槽，并與活動桿之間固定連接，從而使得活動桿在左右運動時，使得固定桿可以左右運動，且固定桿外表面一側(cè)設(shè)置有固定孔，且固定孔貫穿固定桿，且裝置箱內(nèi)壁一側(cè)設(shè)置有插桿，且插桿與固定孔相適配，從而使得活動桿左右運動時，使得固定桿左右運動，當(dāng)插桿與固定孔插接時，使得螺紋桿不能轉(zhuǎn)動，從而使得支撐座位置固定。

14、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型提供了一種加熱爐的承載裝置，具備以下

15、有益效果：

16、1、本實用新型，通過設(shè)置在裝置內(nèi)的轉(zhuǎn)桿，當(dāng)使得轉(zhuǎn)桿轉(zhuǎn)動時，使得螺紋桿轉(zhuǎn)動，從而使得連接桿帶動裝置桿左右運動，從而使得支撐座左右運動，當(dāng)左右兩側(cè)支撐座之間的間距變化時，使得該裝置可以對不同規(guī)格的設(shè)備進行使用。

17、2、本實用新型，通過設(shè)置在裝置內(nèi)的底座板，且底座板與支撐裝置之間插接，從而使得底座板便于別更換。

技術(shù)特征：

1.一種加熱爐的承載裝置，包括底座板(1)，其特征在于：所述底座板(1)外表面一側(cè)設(shè)置有支撐裝置(2)；

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種加熱爐的承載裝置，其特征在于：所述裝置箱(203)數(shù)量為兩個，且兩個所述裝置箱(203)均勻設(shè)置于裝置架(201)外表面左右兩側(cè)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種加熱爐的承載裝置，其特征在于：所述裝置箱(203)外表面一側(cè)與裝置架(201)外表面一側(cè)接觸，并貫穿裝置架(201)外表面一側(cè)，至裝置架(201)內(nèi)，并與裝置架(201)之間固定連接。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種加熱爐的承載裝置，其特征在于：所述裝置管(204)數(shù)量為兩個，且兩個所述裝置管(204)均勻設(shè)置于左右兩側(cè)裝置箱(203)內(nèi)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種加熱爐的承載裝置，其特征在于：所述裝置管(204)一端與裝置箱(203)內(nèi)壁一側(cè)接觸，并貫穿裝置箱(203)內(nèi)壁一側(cè)，至裝置箱(203)外表面一側(cè)，并與裝置箱(203)之間固定連接。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種加熱爐的承載裝置，其特征在于：所述轉(zhuǎn)桿(210)一端與裝置箱(203)外表面一側(cè)接觸，并貫穿裝置箱(203)外表面一側(cè)，至裝置箱(203)內(nèi)，并與轉(zhuǎn)盤(209)外表面一側(cè)固定連接。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)涉及加熱爐技術(shù)領(lǐng)域，且公開了一種加熱爐的承載裝置，包括底座板，所述支撐裝置包括裝置架，所述裝置架外表面一側(cè)設(shè)置有第一連接桿，所述裝置架外表面一側(cè)設(shè)置有裝置箱，所述裝置箱內(nèi)部設(shè)置有裝置管，所述裝置管內(nèi)部設(shè)置有裝置桿，所述裝置桿一端設(shè)置有支撐座，所述裝置桿外表面一側(cè)設(shè)置有第二連接桿，所述第二連接桿外表面一側(cè)設(shè)置有螺紋桿，所述螺紋桿一端設(shè)置有轉(zhuǎn)盤，所述轉(zhuǎn)盤外表面一側(cè)設(shè)置有轉(zhuǎn)桿，所述轉(zhuǎn)桿一端設(shè)置有活動桿。該技術(shù)，當(dāng)使得轉(zhuǎn)桿轉(zhuǎn)動時，使得螺紋桿轉(zhuǎn)動，從而使得連接桿帶動裝置桿左右運動，從而使得支撐座左右運動，當(dāng)左右兩側(cè)支撐座之間的間距變化時，使得該裝置可以對不同規(guī)格的設(shè)備進行使用。

技術(shù)研發(fā)人員：曹樹林
受保護的技術(shù)使用者：黃石市通能工業(yè)窯爐有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20230811
技術(shù)公布日：2024/12/17