一種新型坩堝定位底座的制作方法
【專利摘要】一種新型坩堝定位底座，上述定位底座與測試TFT玻璃高溫粘度用的高溫爐配套使用，結(jié)構(gòu)中包括底座本體，關(guān)鍵在于：所述的底座本體上端面設(shè)置有圓形凹槽，在圓形凹槽槽底設(shè)置有一組以圓形凹槽中心同心的定位凸起環(huán)。本實(shí)用新型的有益效果是：在底座本體上端面設(shè)置圓形凹槽及其在圓形凹槽槽底設(shè)置一組同心的定位凸起換，可以很方便快捷的把鉑金坩堝定位到高溫爐爐膛的中心，避免了反復(fù)放置和對爐膛內(nèi)壁的劃傷。
【專利說明】一種新型坩堝定位底座
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種放置坩堝用的定位底座，具體地說是一種TFT玻璃行業(yè)用于測試高溫粘度時，與高溫爐配套使用的放置鉬金坩堝的定位底座。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，為了保溫的需要，市面上用于測試TFT玻璃高溫粘度的高溫爐放置坩堝的定位底座和高溫爐的爐膛內(nèi)壁間隙很小一般都小于0.3_，還有，為了測試的需要必須將坩堝定位于高溫爐爐膛的正中間位置，因?yàn)槎ㄎ坏鬃媳砻鏇]有任何可做參照的標(biāo)記，這樣就給坩堝準(zhǔn)確定位提高了難度，再者，因?yàn)門FT玻璃和鉬金坩堝的膨脹系數(shù)不同，加上粘度測試完畢后空料過程中鉬金坩堝很容易變形，后期測試時放置坩堝很不容易放置在爐膛正中心，這樣就造成了必須反復(fù)放置多次才能放到爐膛整中心，反復(fù)放置期間底座升降過程中還有可能對爐膛內(nèi)壁造成劃傷。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型為了解決在測試高溫粘度時鉬金坩堝不容易對準(zhǔn)爐膛中心的技術(shù)難題，設(shè)計了一種新型坩堝定位底座，使用該定位底座可以很方便并且很容易對準(zhǔn)爐膛中心位置，有效地避免了反復(fù)放置坩堝以對準(zhǔn)爐膛中心過程中對爐膛內(nèi)壁產(chǎn)生的劃傷。
[0004]本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:一種新型坩堝定位底座，上述定位底座與測試TFT玻璃高溫粘度用的高溫爐配套使用，結(jié)構(gòu)中包括底座本體，關(guān)鍵在于:所述的底座本體上端面設(shè)置有圓形凹槽，在圓形凹槽槽底設(shè)置有一組以圓形凹槽中心同心的定位凸起環(huán)。
[0005]本實(shí)用新型的有益效果是:在底座本體上端面設(shè)置圓形凹槽及其在圓形凹槽槽底設(shè)置一組同心的定位凸起換，可以很方便快捷的把鉬金坩堝定位到高溫爐爐膛的中心，避免了反復(fù)放置和對爐膛內(nèi)壁的劃傷。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0006]圖1是本實(shí)用新型的第一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0007]圖2是本實(shí)用新型的第二實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0008]圖3是圖1的俯視圖。
[0009]附圖中，I是底座本體，2是凹槽，3是定位凸起環(huán)。
【具體實(shí)施方式】
[0010]一種新型坩堝定位底座，上述定位底座與測試TFT玻璃高溫粘度用的高溫爐配套使用，結(jié)構(gòu)中包括底座本體1，重要的是:所述的底座本體I上端面設(shè)置有圓形凹槽2，在圓形凹槽2槽底設(shè)置有一組以圓形凹槽中心同心的定位凸起環(huán)3。這樣，在使用過程中，將圓形凹槽中心對準(zhǔn)爐膛中心即可保證坩堝處于爐膛的中心位置上，定位方便快捷，并可以有效避免因反復(fù)放置坩堝以準(zhǔn)確定位過程中對爐膛內(nèi)壁造成劃傷。[0011]相鄰的定位凸起環(huán)3之間的間距為3-6mm。
[0012]為了便于坩堝更好地在定位底座上定位，所述的定位凸起環(huán)3由內(nèi)至外環(huán)的凸起高度遞增，位于最內(nèi)環(huán)的定位凸起環(huán)的凸起高度為1-3mm。
[0013]所述的定位凸起環(huán)3由內(nèi)至外環(huán)的凸起高度以2~4_高度差遞增。
[0014]為了使該定位底座能夠在1600°C高溫下長時間使用，所述的定位凸起環(huán)3的材質(zhì)是剛玉莫來石。
[0015]所述的底座本體I為圓柱形、或長方體形、或橢圓柱形。
[0016]在具體實(shí)施時，為了避免對高溫爐爐膛內(nèi)壁產(chǎn)生劃傷，底座本體I采用圓柱形結(jié)構(gòu)，底座本體1上端面設(shè)置圓形凹槽2，防止TFT玻璃測試過程中玻璃液溢出而污染該定位底座；圓形凹槽2槽底設(shè)有若干個定位凸起環(huán)3，各個定位凸起環(huán)3之間的間距設(shè)為5mm，各定位凸起環(huán)3同高度且高度為2_。另外，為了更好地定位坩堝，可以將各個定位凸起環(huán)3的高度設(shè)為不同值，位于最內(nèi)環(huán)的定位凸起環(huán)3的高度設(shè)為2_，依次地，由內(nèi)至外環(huán)的定位凸起環(huán)3凸起高度以2_高度差遞增。該定位底座在使用時，首先根據(jù)坩堝堝底的大小選擇合適的定位凸起環(huán)以定位，然后將定位好坩堝的定位底座上的圓形凹槽中心對準(zhǔn)高溫爐爐膛內(nèi)的中心位置，這樣即可保護(hù)保證已將坩堝定位到了爐膛的正中心位置?？梢姡撛O(shè)置可以很 方便快捷的把鉬金坩堝定位到爐膛中心，避免了反復(fù)放置和對爐膛內(nèi)壁的劃傷。
【權(quán)利要求】
1.一種新型坩堝定位底座，上述定位底座與測試TFT玻璃高溫粘度用的高溫爐配套使用，結(jié)構(gòu)中包括底座本體(1)，其特征在于:所述的底座本體(I)上端面設(shè)置有圓形凹槽(2)，在圓形凹槽(2)槽底設(shè)置有一組以圓形凹槽中心同心的定位凸起環(huán)(3)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型坩堝定位底座，其特征在于:相鄰的定位凸起環(huán)(3)之間的間距為3飛mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型坩堝定位底座，其特征在于:所述的定位凸起環(huán)(3)由內(nèi)至外環(huán)的凸起高度遞增，位于最內(nèi)環(huán)的定位凸起環(huán)的凸起高度為f3mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種新型坩堝定位底座，其特征在于:所述的定位凸起環(huán)(3)由內(nèi)至外環(huán)的凸起高度以2?4mm高度差遞增。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型坩堝定位底座，其特征在于:所述的定位凸起環(huán)(3)的材質(zhì)是剛玉莫來石。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型坩堝定位底座，其特征在于:所述的底座本體(I)為圓柱形、或長方體形、或橢圓柱形。
【文檔編號】F27B17/02GK203534178SQ201320607364
【公開日】2014年4月9日 申請日期:2013年9月29日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月29日
【發(fā)明者】王俊峰, 張言帥, 張廣濤, 李俊鋒, 閆冬成, 侯建偉 申請人:東旭集團(tuán)有限公司