一種生產(chǎn)scr脫硝催化劑用的二次干燥室氣體分布裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及到脫硝催化劑領(lǐng)域，是一種生產(chǎn)SCR脫硝催化劑用的二次干燥室氣體分布裝置。其特征是干燥氣體分布器上有干燥氣體圓形出口，下有出催化劑干燥氣體方形入口。由于采用了本技術(shù)方案，干燥催化劑用的氣體流速減慢、分布均勻，二次干燥熱損失降低，干燥溫度均勻，不會(huì)造成催化劑干燥后溫度波動(dòng)過(guò)快，催化劑受熱均勻，成品率高。
【專利說(shuō)明】—種生產(chǎn)SCR脫硝催化劑用的二次干燥室氣體分布裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及到脫硝催化劑領(lǐng)域，是一種生產(chǎn)SCR脫硝催化劑用的二次干燥室氣體分布裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]原干燥室氣體直接進(jìn)入，干燥氣體流速快與催化劑接觸時(shí)間短，造成干燥溫度不均勻，催化劑干燥后溫度波動(dòng)過(guò)快，催化劑受熱不均勻，成品率低。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的是克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的不足，提供一種新的生產(chǎn)SCR脫硝催化劑用的二次干燥室氣體分布裝置。
[0004]本發(fā)明的技術(shù)方案是:一種生產(chǎn)SCR脫硝催化劑用的二次干燥室氣體分布裝置，其特征是干燥氣體分布器上有干燥氣體圓形出口，下有出催化劑干燥氣體方形入口。
[0005]由于采用了上述技術(shù)方案，干燥催化劑用的氣體流速減慢、分布均勻，二次干燥熱損失降低，干燥溫度均勻，不會(huì)造成催化劑干燥后溫度波動(dòng)過(guò)快，催化劑受熱均勻，成品率聞。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0006]圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0007]在圖中:1、出催化劑干燥氣體方形入口 ；2、干燥氣體圓形出口 ；3、干燥氣體分布器。
【具體實(shí)施方式】
[0008]下面結(jié)合實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的說(shuō)明。
[0009]在圖1中，干燥氣體分布器3上有干燥氣體圓形出口 2，下有出催化劑干燥氣體方形入口 I。干燥房干燥氣體經(jīng)與催化劑傳熱后出催化劑孔道進(jìn)入出催化劑干燥氣體方形入口 1，進(jìn)入干燥氣體分布器3，經(jīng)氣體分布器后干燥氣體流速減慢與催化劑接觸時(shí)間延長(zhǎng)，干燥溫度均勻，不會(huì)造成催化劑干燥后溫度波動(dòng)過(guò)快，催化劑受熱均勻，成品率高。
【權(quán)利要求】
1.一種生產(chǎn)SCR脫硝催化劑用的二次干燥室氣體分布裝置，其特征是干燥氣體分布器(3)上有干燥氣體圓形出口(2)，下有出催化劑干燥氣體方形入口(I)。
【文檔編號(hào)】F26B21/00GK103836897SQ201310658685
【公開日】2014年6月4日 申請(qǐng)日期:2013年12月10日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月10日
【發(fā)明者】胡中光, 周剛, 王立鴻 申請(qǐng)人:湖北廣凈環(huán)保催化劑有限公司