專利名稱：基板干燥裝置及基板處理方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及基板干燥裝置及基板處理方法。
背景技術(shù)：
以往，采用了下述技術(shù)，即，在液晶顯示裝置或半導(dǎo)體裝置等的制造工序中的液晶玻璃基板或半導(dǎo)體晶片的清洗工序中干燥基板時，將基板向一個方向輸送，并且從氣刀噴出干燥氣體來使基板表面干燥。此類技術(shù)在例如專利文獻(xiàn)1及2中公開。
使用圖7及圖8，對現(xiàn)有的氣刀干燥機(jī)構(gòu)進(jìn)行說明。圖7是從上面觀察現(xiàn)有的氣刀干燥機(jī)構(gòu)的圖，圖8是圖7中剖線Z-Z’處的剖視圖。如圖所示，在基板2的上面配置氣刀1，將基板2向箭頭10的方向輸送，并且從氣刀1向箭頭11的方向噴射干燥氣體。這樣，基板2上的漂洗液3被從氣刀1吹來的干燥氣體吹飛，可使基板2的表面干燥。
在此類干燥機(jī)構(gòu)中，有在基板2的表面端部因漂洗液3的殘留而易于產(chǎn)生水滴4的問題。以往，有時將氣刀1配置成相對于基板2的輸送方向具有角度12，或?qū)獾?配置成相對于基板2的表面具有角度13，還有時將這兩者組合。
專利文獻(xiàn)1特開平10-180205號公報；專利文獻(xiàn)2特開平8-288250號公報。
在通過設(shè)置上述那樣的角度12及角度13的方法不能解決的情況下，有時需要通過增強(qiáng)從氣刀1噴出的干燥氣體的氣壓來解決。但是，在從氣刀1噴出的氣壓過強(qiáng)的情況下，存在漂洗液3以霧5的形式飄起的情況，如果霧5再次附著到基板2上，則將引發(fā)污垢。因此，在通過增強(qiáng)從氣刀1噴出的氣壓而提高干燥效率方面存在限度。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明為解決此類問題而作出，其目的是提供一種不增加氣壓即能可靠地除去基板上殘留的水滴的基板干燥裝置。
本發(fā)明的基板干燥裝置具備相對于作為處理對象的基板噴出流體的噴出口，邊使所述基板和所述噴出口相對移動，邊從所述噴出口噴出所述流體，來干燥所述基板，所述流體的噴出方向中與所述基板表面平行的面上的分量和所述基板相對于所述噴出口移動的移動方向斜交，所述流體的噴出方向中與所述基板表面平行的面上的分量和所述移動方向所成的角度，在位于所述噴出口上的任意部位的變化部變化。由此，能提供一種不必增大氣壓即可可靠地除去殘留于基板上的水滴的基板干燥裝置。
其中，可以設(shè)計成，通過在所述變化部使所述噴出口彎曲，使設(shè)置所述噴出口的方向和所述移動方向所成的角度變化，從而使所述噴出方向中與所述基板表面平行的面上的分量和所述移動方向變化。
另外，也可以設(shè)計成，在所述變化部處，所述噴出口彎曲。由此，能抑制伴隨噴出方向的變化而產(chǎn)生的氣壓降低。
另外，也可以設(shè)置多個所述變化部，還可以設(shè)計成，所述變化部在所述噴出口的大致整體范圍內(nèi)形成。由此，能進(jìn)一步分散伴隨噴出方向的變化而產(chǎn)生的氣壓降低。
進(jìn)而，優(yōu)選地，所述基板為大致矩形，在所述變化部配置于所述基板上方、所述噴出口配置于所述基板的下游側(cè)邊上和所述下游側(cè)邊的相鄰邊上的狀態(tài)下，以下述方式噴出所述流體，即，從位于所述下游側(cè)邊上的所述噴出口噴出的所述流體的噴出方向中與所述基板表面平行的面上的分量和所述基板的下游側(cè)邊所成的角度，比從位于所述相鄰邊上的所述噴出口噴出所述流體的噴出方向中與所述基板表面平行的面上的分量和所述下游側(cè)邊所成的角度小。
另一方面，本發(fā)明的基板處理方法，是使作為處理對象的基板相對于噴出流體的噴出口相對移動來對所述基板進(jìn)行處理的基板處理方法，包括借助液體處理所述基板的步驟、和邊從所述噴出口相對于所述基板噴出流體邊使所述噴出口和所述基板相對移動來干燥所述基板的步驟，干燥所述基板的步驟中，所述流體的噴出方向中與所述基板表面平行的面上的分量和所述基板相對于所述噴出口移動的移動方向斜交，通過噴出口噴出氣體來干燥所述基板，所述噴出口的噴出所述流體的噴出方向中與所述基板表面平行的面上的分量和所述基板的所述移動方向所成的角度，在形成于所述噴出口上的任意部位的變化部變化。由此，不必增大氣壓即能可靠地除去殘留于基板上的水滴根據(jù)本發(fā)明，可提供一種不增加噴出氣壓即能可靠地除去基板上殘留的水滴的基板干燥裝置及基板處理方法。


圖1是本發(fā)明實(shí)施方式1的基板干燥機(jī)構(gòu)的俯視圖。
圖2是本發(fā)明實(shí)施方式1的基板干燥機(jī)構(gòu)的剖視圖。
圖3是本發(fā)明實(shí)施方式1的處理對象基板的俯視圖。
圖4是本發(fā)明其它實(shí)施方式的基板干燥機(jī)構(gòu)的俯視圖。
圖5是本發(fā)明其它實(shí)施方式的基板干燥機(jī)構(gòu)的俯視圖。
圖6是本發(fā)明其它實(shí)施方式的基板干燥機(jī)構(gòu)的俯視圖。
圖7是現(xiàn)有技術(shù)的基板干燥機(jī)構(gòu)的俯視圖。
圖8是現(xiàn)有技術(shù)的基板干燥機(jī)構(gòu)的剖視圖。
具體實(shí)施例方式
實(shí)施方式1下面使用附圖來對本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)說明。本實(shí)施例，在具有氣刀干燥機(jī)構(gòu)的基板干燥裝置中，通過使從氣刀噴出氣體的角度變化，而盡可能使基板端部處的干燥氣體噴出角度與基板邊平行，提高干燥效率且抑制水滴的殘留。
圖1是從上面觀察本實(shí)施方式的基板干燥裝置中的氣刀干燥機(jī)構(gòu)的圖。作為干燥處理對象的基板120，是如圖所示的為大致方形的基板。在圖1中，設(shè)基板120的下側(cè)的邊為下邊120a、設(shè)右側(cè)的邊為右邊120b。基板120由輸送輥等向圖中箭頭所示的移動方向A的方向輸送。即，圖1中虛線所示箭頭為基板120的移動方向A。因此，基板120被從圖中左側(cè)向右側(cè)送出?；?20的移動方向A與基板120的下邊120a平行。因而，移動方向A與基板120的下邊120a的相鄰右邊120b垂直。這里，基板120的右邊120b是基板120的移動方向A上的下游側(cè)的邊。即，來自氣刀的干燥氣體最先噴到在移動方向A上配置于基板120下游側(cè)的右邊120b上。
氣刀110配置于基板120的上面?zhèn)取臍獾?10的氣體噴出口向圖中箭頭B方向噴出干燥氣體。可通過該干燥氣體來吹飛在基板120表面上涂敷的漂洗液130。即，邊從氣刀120噴出干燥氣體，邊輸送基板120而橫切從氣刀110噴出干燥氣體的區(qū)域。這樣，干燥氣體從基板120的右端依次噴到左端。而且，基板120表面的漂洗液被吹飛，可干燥基板120的整個面。漂洗液130使用的是例如純水。此外，氣刀110也可分別配置于基板120的上下面。
本實(shí)施方式的氣刀110是圖1所示那樣的長尺寸部件，例如為棒狀或帶狀部件。氣刀110的下側(cè)設(shè)有狹槽狀開口部。該開口部為氣體噴出口112。氣體噴出口112沿設(shè)置氣刀的方向配置。氣體噴出口112設(shè)置在氣刀110的長度方向整個范圍內(nèi)。從該氣體噴出口112向圖中箭頭B方向噴出干燥氣體。氣體壓力為例如0.8MPa，但也可以大于該值或小于該值。氣體壓力需要為足以除去漂洗液130的壓力，并且，優(yōu)選是漂洗液130不會以霧的形式飛舞的程度的壓力。干燥氣體使用的是氮?dú)獾确腔钚詺怏w。
圖2是圖1中剖線I-I’的剖視圖。氣刀110配置成，圖中箭頭B所示的其氣體噴出方向相對于基板120表面成角度M。角度M盡可能小較好，這樣，可提高干燥氣體的利用效率，并可提高干燥氣體的干燥效果。
如圖1所示，氣刀110在其中央附近具有成為變化部的彎折部111。而且，氣刀110在彎折部111彎折角度G。因此，氣刀110的形狀為ㄑ字形。噴出口112沿氣刀110的形狀設(shè)置。因此，噴出口112相對于基板120的移動方向A所成的角度在途中變化。因此，噴出口112的形狀為ㄑ字形。而且，噴出口112在彎折部111處的彎折角度為角度G。這里，設(shè)從氣刀110左端到彎折部111的部分為噴出口112a，設(shè)從氣刀右端到彎折部111的部分為噴出口112b。噴出口112a和噴出口112b以角度G斜交。換言之，具有不同角度的噴出口112a和噴出口112b相交的部分成為彎折部111。
在與基板面平行的面上，干燥氣體從噴出口112噴出的方向B與設(shè)置噴出口112的方向垂直。因此，干燥氣體的噴出方向B中與基板面平行的分量也在彎折部111變化。因此，干燥氣體的噴出方向B中，與基板面平行的分量和移動方向A所成的角度也在噴出口112的中途(彎折部111)變化。即，從噴出口112a噴出氣體的噴出方向B和從噴出口112b噴出氣體的噴出方向B所成的角度為角度G。彎折部111可設(shè)置在噴出口112的任意位置上。
這里，如果設(shè)從噴出口112噴出干燥氣體的區(qū)域?yàn)閲姵鰠^(qū)域，則噴出區(qū)域的形狀與噴出口112的形狀對應(yīng)。因此，基板120面上的噴出區(qū)域即干燥氣體的噴射區(qū)域與噴出口112的形狀同樣為ㄑ字形。通過使基板120橫切噴出區(qū)域，而實(shí)施基板120的干燥處理。噴出區(qū)域至少設(shè)置在基板120的寬度方向、即與作為基板輸送方向的移動方向A垂直的方向上的整個范圍內(nèi)。即，設(shè)置成，將噴出區(qū)域沿與基板面垂直的方向投影時、也就是投影到與基板120平行的面上時的長度，比基板120的寬度即右邊120b的長度寬。
如圖1所示，氣刀110的噴出口112a配置成，相對于基板120的移動方向A具有角度C。氣刀110的噴出口112b配置成，相對于基板120的移動方向A具有角度D。再有，角度C和角度D是移動方向A和設(shè)置噴出口112的方向所成的角度，為90°以下的角度。這里，彎折部111的角度G設(shè)置成，使得角度D比角度C小。這樣，可使基板120的端部121、122處的干燥氣體噴出方向B接近于基板120的端邊。即，可減小基板120的下邊120a和從位于下邊120a上的噴出口112a噴出的干燥氣體的噴出方向B所成角度F，且可減小基板120的右邊120b和從位于右邊120b上的噴出口112b噴出的干燥氣體的噴出方向B所成角度E。如果設(shè)從噴出口112a噴出的干燥氣體的噴出方向B和右邊120b所成的角度為角度N，則通過設(shè)置彎折部111，使角度E比角度N小。
對此詳細(xì)敘述。在與基板面平行的面上，氣刀110配置成相對于基板120的移動方向A傾斜。因此，在基板120的移動方向A上，噴出口112a配置在比噴出口112b靠上游側(cè)處。噴出口112中的噴出口112a配置于基板120的移動方向A上的上游側(cè)，噴出口112b配置于基板的移動方向A上的下游側(cè)。通過設(shè)置彎折部111，設(shè)置噴出口112的方向和基板120的移動方向所成角度在彎折部111的上游側(cè)和下游側(cè)不同。如圖1所示，上游側(cè)，即噴出口112a和移動方向A所成角度為角度C，下游側(cè)，即噴出口112b和移動方向A所成角度為角度D。這里，角度C和角度D的差為彎折角G。
由于移動方向A和基板120的下邊120a是平行的，所以基板120的下邊120a和噴出口112a所成角度為角度C。此外，基板120的下邊120a和噴出口112b所成角度為角度D。
這里，如圖1所示，對在基板120的下邊120a上配置噴出口112a，在基板120的下邊120a的相鄰右邊120b上配置噴出口112b的狀態(tài)進(jìn)行考慮。即，考慮下述狀態(tài)噴出口112a配置成橫切下邊120a，噴出口112b配置成橫切作為下游側(cè)邊的右邊120b。在該狀態(tài)下，彎折部111配置于基板120上方。
基板120的下邊120a和位于基板120的下邊120a上的噴出口112a所成角度為角度C。配置噴出口112a的下邊120a和位于右邊120b上的噴出口112b所成角度為角度D。這里，彎折角G設(shè)定成，使得角度D比角度C小。這樣，可減小基板120的下邊120a和從位于下邊120a上的噴出口112a噴出氣體的噴出方向B所成角度F。因而，在下邊120a附近的基板端部122，可使噴出方向B的平行于基板面的分量接近于與下邊120a平行。此外，可減小基板120的右邊120b和從位于右邊120b上的噴出口112b噴出氣體的噴出方向B所成角度E。這樣，在右邊120b附近的基板端部121，可使噴出方向B的平行于基板面的分量接近于與右邊120b平行。
本發(fā)明中，在噴出口112的中途，設(shè)置有彎折部111，用于改變噴出方向B的平行于基板面的分量的方向。這樣，不僅對于作為基板120下游側(cè)的右邊120b，對于右邊120b的相鄰下邊120a，也可實(shí)現(xiàn)干燥氣體的理想的噴出方向。因而，能可靠地干燥基板120。這樣，通過使基板端部的噴出方向接近于與基板端邊平行的方向，可高效地干燥基板端部的漂洗液130。
對通過使基板端部121、122處的噴出方向B接近與基板120的端邊120a、120b平行的方向，可高效地干燥基板端部的漂洗液130的理由進(jìn)行簡單說明。在用漂洗液130處理基板120的工序中，存在沒有足夠的漂洗液130流到基板端部121、122的情況。該情況下，如圖3所示，基板端部121、1222成為沒有漂洗液130附著的露出部123。即，露出部123是干燥的，處于與環(huán)境氣體接觸的狀態(tài)。因此，在露出部123親水性變高。這樣，基板端部121、122難以由氣刀110干燥，易于殘留水滴。
再有，在基板120的下游側(cè)，通過干燥氣體的噴射，右邊120b附近的漂洗液130從右邊120b向朝向基板中央的方向移動。即，在基板120的移動方向A上的下游側(cè)的右邊120b附近，從基板120的外側(cè)向內(nèi)側(cè)噴射干燥氣體。而且，由于在基板端部121因上述理由而使得親水性提高，所以在基板端部中的右邊120b附近干燥變得更困難。
再有，即使在基板端部122，來自噴出口112a的干燥氣體也是從基板120的外側(cè)向內(nèi)側(cè)噴射。因此，與右邊120b附近同樣，干燥變困難。即，下邊120a及右邊120b附近的基板端部122、121比上邊及左邊附近的基板端部難以干燥。
鑒于此，如本發(fā)明所示，設(shè)置彎折部111，使噴出口112b的噴出方向B中與基板面平行的分量接近于與右邊120b平行的方向。即，減小角度E。這樣，基板端部121附近殘留的漂洗液130沿基板120的右邊120b移動。因此，可防止漂洗液從基板端部121向基板中央移動，能可靠地干燥基板。再有，使噴出口112a的噴出方向B中與基板面平行的分量接近于與下邊120a平行的方向。即，減小角度F。這樣，基板端部122附近殘留的漂洗液130沿基板120的下邊120a移動。因此，可防止漂洗液130從基板端部122向基板中央移動，能可靠地干燥基板120。因而，可高效地干燥易于殘留水滴的基板端部121、122。
此外，在圖1所示狀態(tài)下，噴出口112b和下邊120a所成角度D不滿45°。這樣，能以相對于右邊120b更接近平行的角度E來噴出干燥氣體。再有，使噴出口112a和下邊120a所成角度C比45°大。這樣，能以相對于下邊120a更接近平行的角度F來噴出干燥氣體。通過使噴出口112的方向如此般變化，能使下邊120a和右邊120b的相交角部附近的干燥氣體噴出方向B接近于與下邊120a平行的方向。即，能使相對于基板120的下邊120a附近的基板端部121噴出氣體的噴出方向B接近于與下邊120a平行。
通過以下游側(cè)的角度D比上游側(cè)的角度C小的方式配置及形成氣刀110，可進(jìn)一步減小基板120的干燥氣體噴出方向B和基板120的下邊120a、右邊120b所成的角度E、F。這樣，可使基板端部121、122處的干燥氣體噴射角度更接近平行于基板邊的方向。此外，角度C優(yōu)選比45°大且為60°以下。
這里，在彎折部111的彎折角度G過大的情況下，角度D過小。例如角度D為0°時，氣刀110不是通過整個基板端部121，而是僅通過基板端部121上方的、從基板端部122側(cè)到設(shè)置彎折部111的部分。該情況下，有時在基板120的表面上存在干燥氣體不能充分吹到的部分，從而是不理想的。因此，如圖1所示，在上游側(cè)的噴出口112a通過基板120的下邊120a上方的情況下，設(shè)計成，隨著從上游側(cè)到下游側(cè)，噴出口112逐漸接近與基板的下邊120a對置的上邊。即，將彎折角G設(shè)定成，越接近右側(cè)(下游側(cè))，噴出口112的位置越靠近上側(cè)。
此外，在角度G過大的情況下，在彎折部111的附近，噴出方向B的角度變化急劇，圖中箭頭H方向的氣體噴射壓力下降。于是，考慮會在彎折部111發(fā)生漂洗液130的殘留。因此，雖然彎折部111的角度G由角度C和角度D的關(guān)系確定，但優(yōu)選為15°以上60°以下。
在這種方案中，向圖1的移動方向A輸送基板120，并且，從氣刀110向基板120表面在圖中箭頭B的方向上噴射干燥氣體。這樣，可去除基板120表面的漂洗液130。
根據(jù)上述方案，不增加干燥氣體的氣壓即能進(jìn)行干燥處理，并能抑制干燥氣體所產(chǎn)生的漂洗液130的飛散，減少霧的產(chǎn)生。此外，由于減少了干燥氣體的使用量，所以可實(shí)現(xiàn)干燥工序的運(yùn)行成本的減少。因此，可高效地干燥基板120。
如上所述，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式1，可提供不增加氣壓即能理想地除去基板上殘留的水滴的基板干燥裝置及基板干燥方法。
再有，在上述說明中，說明了氣刀110噴出氣體的實(shí)例，但也可通過噴射例如揮發(fā)性液體來吹飛漂洗液130。即，基板120的干燥所使用的不限于氣體，也可利用還包含液體的流體來進(jìn)行。此外，雖然使用純水對漂洗液130進(jìn)行了說明，但也可使用例如蝕刻液、清洗液及藥液等其它液體。基板的移動方向不限于與基板的邊平行的方向，也可以是與基板的邊斜交的方向。再有，也可以是不使基板移動而是使氣刀移動。
實(shí)施方式2使用圖4對本發(fā)明的第二實(shí)施方式進(jìn)行說明。圖4所示的氣刀110，在彎折部111處以既定曲率半徑彎曲。此外，氣刀110在彎折部111處在角度J范圍內(nèi)彎曲。因此，可使設(shè)置噴出口112的角度變化。這樣，可使噴出方向B中與基板面平行的分量的方向變化，減小基板端部121、122處的角度E、F。
在圖4的實(shí)施方式中，彎折部111處的噴出口112j在角度J范圍內(nèi)彎曲。即，不是如圖1那樣在一點(diǎn)，而是在圖4所示的角度J范圍內(nèi)，使氣刀110的角度變化。因此，可在角度J范圍內(nèi)分散干燥氣體噴射壓力在圖1所示箭頭H方向上的降低。因此，可抑制彎折部111處氣體噴射壓力的降低。角度J是使得圖中角度D比角度C小的角度。
實(shí)施方式3使用圖5對本發(fā)明的第三實(shí)施方式進(jìn)行說明。圖5所示的氣刀110在彎折部113、114兩點(diǎn)發(fā)生角度變化。即，上游側(cè)的噴出口112a和下游側(cè)的噴出口112b之間配置噴出口112c。這里，如果設(shè)噴出口112c和移動方向A所成角度為K，則角度C、K、D的關(guān)系為C＞K＞D。即，隨著從上游側(cè)到下游側(cè)，噴出口112逐漸接近與基板的下邊120a對置的上邊。在圖5所示的氣刀中，不是如圖1所示那樣在一點(diǎn)，而是在兩處彎折部113、114處，使氣刀110的角度變化。這樣，可在兩點(diǎn)分散干燥氣體噴射方向B的變化，抑制彎折部113、114處氣體噴射壓力的降低。
本實(shí)施方式的意義是使氣刀110的角度在多點(diǎn)變化，不如圖5所示那樣限于兩點(diǎn)，三點(diǎn)以上也可以。這樣，可使氣刀110的角度變化比在一點(diǎn)變化的情況更大，從而進(jìn)一步減小角度E、F。此外，作為變化部，也可以形成多個圖4所示那樣彎曲的彎折部(彎曲部)111，還可以既形成彎折部也形成彎曲部。
實(shí)施方式4使用圖6對本發(fā)明的第四實(shí)施方式進(jìn)行說明。圖6所示的氣刀110其整體在角度L范圍內(nèi)以既定的曲率半徑彎曲。如圖4所示，不是僅在彎折部111使角度變化，而是在氣刀110整體范圍內(nèi)使角度變化。因此，可在整體上分散彎曲所實(shí)現(xiàn)的氣體噴出方向B的變化，抑制氣體噴射壓力的下降。角度L為例如90°。這樣，可使氣體噴出方向B相對于端部121、122的基板邊大體平行。
這里，如圖6所示，將基板120的上邊側(cè)的噴出口112的端部配置在基板端部。這樣，即使對于基板的上邊附近的端部也能噴射干燥氣體。再有，在基板上邊附近，可從基板內(nèi)側(cè)向外側(cè)噴出干燥氣體。因此，可高效地干燥基板的上邊附近的水分。
再有，在上述實(shí)施方式中說明的方案是通過在氣刀上設(shè)置彎折部來改變干燥氣體的噴射方向，但即使不使氣刀自身變形，而通過使設(shè)置在氣刀上的氣體噴出口的噴出方向變化，也能得到與上述實(shí)施方式同樣的效果。此外，在半導(dǎo)體和液晶顯示裝置等的制造工藝的干燥工序中有效。再有，不限于漂洗液，也可用于除去蝕刻液等液體。
權(quán)利要求
1.一種基板干燥裝置，具備相對于作為處理對象的基板噴出流體的噴出口，邊使所述基板和所述噴出口相對移動，邊從所述噴出口噴出所述流體，來干燥所述基板，其特征在于，所述流體的噴出方向中與所述基板表面平行的面上的分量和所述基板相對于所述噴出口移動的移動方向斜交，所述流體的噴出方向中與所述基板表面平行的面上的分量和所述移動方向所成的角度，在位于所述噴出口上的任意部位的變化部變化。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板干燥裝置，其特征在于，通過在所述變化部使所述噴出口彎曲，使設(shè)置所述噴出口的方向和所述移動方向所成的角度變化，從而使所述噴出方向中與所述基板表面平行的面上的分量和所述移動方向變化。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的基板干燥裝置，其特征在于，在所述變化部處，所述噴出口彎曲。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的基板干燥裝置，其特征在于，設(shè)置有多個所述變化部。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板干燥裝置，其特征在于，所述變化部在所述噴出口的大致整體范圍內(nèi)形成。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的基板干燥裝置，其特征在于，所述基板為大致矩形，在所述變化部配置于所述基板上方、所述噴出口配置于所述移動方向上的所述基板下游側(cè)邊上和所述下游側(cè)邊的相鄰邊上的狀態(tài)下，以下述方式噴出所述流體，即，從位于所述下游側(cè)邊上的所述噴出口噴出的所述流體的噴出方向中與所述基板表面平行的面上的分量和所述基板的下游側(cè)邊所成的角度，比從位于所述相鄰邊上的所述噴出口噴出所述流體的噴出方向中與所述基板表面平行的面上的分量和所述下游側(cè)邊所成的角度小。
7.一種基板處理方法，使作為處理對象的基板相對于噴出流體的噴出口相對移動，來對所述基板進(jìn)行處理，其特征在于，包括借助液體處理所述基板的步驟、和邊從所述噴出口相對于所述基板噴出流體邊使所述噴出口和所述基板相對移動來干燥所述基板的步驟，干燥所述基板的步驟中，所述流體的噴出方向中與所述基板表面平行的面上的分量和所述基板相對于所述噴出口移動的移動方向斜交，通過噴出口噴出氣體來干燥所述基板，所述噴出口的噴出所述流體的噴出方向中與所述基板表面平行的面上的分量和所述基板的所述移動方向所成的角度，在形成于所述噴出口上的任意部位的變化部變化。
全文摘要
本發(fā)明提供一種不增加氣壓即能可靠地除去基板上殘留的水滴的基板干燥裝置以及基板處理方法。本發(fā)明的基板干燥裝置具備對作為處理對象的基板(120)噴出流體的噴出口(112)，邊使基板(120)和噴出口(112)相對移動，邊從噴出口(112)噴出流體來干燥基板(120)，流體的噴出方向(B)中與基板表面平行的面上的分量和基板(120)相對于噴出口(112)移動的移動方向(A)斜交，流體的噴出方向(B)中與基板表面平行的面上的分量和移動方向(A)所成的角度，在位于噴出口上的任意部位的變化部(111)變化。
文檔編號F26B3/06GK1967116SQ200610148528
公開日2007年5月23日 申請日期2006年11月15日 優(yōu)先權(quán)日2005年11月15日
發(fā)明者西浦篤德 申請人:三菱電機(jī)株式會社