本發(fā)明涉及一種按照權(quán)利要求1前序部分所述的用于通過(guò)將材料粉末進(jìn)行逐層構(gòu)建并且借助于至少一個(gè)能量射束將材料粉末進(jìn)行逐層固化從而制造構(gòu)件的加工機(jī)器以及一種用于組裝這種加工機(jī)器的模塊系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

這種用于將材料粉末進(jìn)行選擇性激光燒結(jié)或者選擇性激光熔化的加工機(jī)器(樣機(jī)/適應(yīng)性激光器制造設(shè)備)例如通過(guò)文獻(xiàn)wo2010/026397a1已知。

選擇性激光燒結(jié)(selectivelasersintering(sls))和選擇性激光熔化(selectivelasermelting(slm))是生成式的層構(gòu)建方法(generativeschichtbauverfahren)，其中，構(gòu)件通過(guò)借助于激光射束將材料粉末進(jìn)行燒結(jié)或熔化從而一層一層地構(gòu)建。將材料粉末全面地施加到構(gòu)建平臺(tái)上，并且通過(guò)根據(jù)構(gòu)件的層輪廓對(duì)激光射束進(jìn)行驅(qū)控從而將這些層逐步地?zé)Y(jié)或熔化到粉末底臺(tái)(pulverbett)中。緊接著，將構(gòu)建平臺(tái)以一層厚的數(shù)值進(jìn)行降低并且重新施加粉末。這個(gè)周期被重復(fù)直至構(gòu)件的全部層被燒結(jié)或熔化。

由文獻(xiàn)wo2010/026397a1已知的slm或sls激光加工機(jī)器包括：光學(xué)模塊，該光學(xué)模塊具有激光射束的射束引導(dǎo)器；成型件，該成型件具有引導(dǎo)粉末的部件、如工藝腔室(prozesskammer)。

此外，由文獻(xiàn)de102005014483a1已知一種具有多個(gè)激光器的slm或sls激光加工機(jī)器，其激光射束覆蓋了構(gòu)建平臺(tái)上的不同加工子區(qū)(bearbeitungsteilfelder)，這些加工子區(qū)在其區(qū)邊界上分別相互重疊。然而，該激光加工機(jī)器不允許材料粉末的快速更換(例如從塑料粉末更換成金屬或陶瓷粉末)；為此必須事前耗費(fèi)地清潔全部引導(dǎo)粉末的部件。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

與之相比，本發(fā)明的任務(wù)在于，在開(kāi)始所述類型的slm或sls加工機(jī)器中提高關(guān)于其加工區(qū)方面的靈活性。

該任務(wù)按照本發(fā)明通過(guò)具有權(quán)利要求1所述特征的加工機(jī)器解決。

按照本發(fā)明可借助少量的工藝腔室和照射模塊從而靈活地制造不同大小的slm或sls加工機(jī)器。有利地，可借助這種模塊式機(jī)器方案從而非常簡(jiǎn)單地校準(zhǔn)加工機(jī)器：工藝腔室可以連同引導(dǎo)粉末的部件(涂層器/粉末管理)以不同大小構(gòu)成，而照射模塊具有標(biāo)準(zhǔn)大小并且可與其它照射模塊相互串接，以便由此能夠接收具有較大工藝腔室的工藝腔室模塊。在此，參照其它照射模塊的控制器而言，所述照射模塊中的一個(gè)照射模塊的控制器被用于主控制器。

優(yōu)選地，工藝腔室模塊的構(gòu)建平臺(tái)的寬度大約相應(yīng)于多個(gè)照射模塊的加工區(qū)的寬度。

優(yōu)選地，所述多個(gè)照射模塊中的一個(gè)照射模塊作為主模塊(mastermodul)運(yùn)行，并且每個(gè)另外的照射模塊作為被主模塊控制的從模塊(slavemodul)運(yùn)行。相互串接的照射模塊在控制技術(shù)方面以主-從方案(master-slavekonzept)相互連接并且在視覺(jué)方面相互參照，以便將加工區(qū)劃分成單個(gè)加工子區(qū)。在此，有利地，每個(gè)照射模塊具有控制接口，用于與串接的照射模塊的控制接口連接。該控制接口可以是無(wú)線的接口或者電子的機(jī)器接口，該控制接口設(shè)置在照射模塊兩側(cè)上，以便與相鄰照射模塊的機(jī)器接口連接。

有利地，所述照射模塊中的一個(gè)照射模塊或者一些照射模塊(尤其全部照射模塊)具有至少一個(gè)光學(xué)傳感器(尤其攝像機(jī))，該光學(xué)傳感器的檢測(cè)區(qū)域設(shè)置用于：至少部分地檢測(cè)相鄰照射模塊的加工區(qū)。由此，例如主模塊可以借助于其能量射束執(zhí)行加工或者將固定的校準(zhǔn)點(diǎn)(kalibrationspunkte)進(jìn)行照明，相鄰的第一從模塊的攝像機(jī)又對(duì)這些校準(zhǔn)點(diǎn)進(jìn)行檢測(cè)進(jìn)而將其自身定位相對(duì)于主模塊進(jìn)行校準(zhǔn)。下一從模塊于是可以針對(duì)已經(jīng)校準(zhǔn)的從模塊被校準(zhǔn)等，直至全部從模塊相對(duì)于主模塊被校準(zhǔn)。

特別優(yōu)選地，所述照射模塊中的一個(gè)照射模塊或一些照射模塊(尤其在多個(gè)照射模塊的情況下是外部照射模塊)或者工藝腔室模塊具有參考輔助器件(尤其是側(cè)壁或者參考栓)用于組裝加工機(jī)器。例如，工藝腔室模塊可以在照射模塊唯一的情況下設(shè)置在該照射模塊的兩個(gè)參考輔助器件之間，或者在多個(gè)照射模塊并排設(shè)置的情況下設(shè)置在兩個(gè)外部照射模塊的端側(cè)設(shè)定的兩個(gè)參考輔助器件之間。有利地，每個(gè)照射模塊在兩側(cè)上具有接口，用于將側(cè)壁可松脫地固定。備選地，工藝腔室模塊也可具有如下側(cè)壁：在這些側(cè)壁之間設(shè)有一個(gè)照射模塊或多個(gè)照射模塊。

在特別優(yōu)選的實(shí)施方式中，工藝腔室模塊在構(gòu)件制造期間僅僅經(jīng)由所述至少一個(gè)照射模塊連接至供給源(電流、水、氣體、數(shù)據(jù))并且與(主)照射模塊的控制器連接。工藝腔室的整套供給是通過(guò)所述一個(gè)或多個(gè)照射模塊得以確保，并且(主)照射模塊不僅控制/調(diào)節(jié)一個(gè)或多個(gè)能量射束源以及一個(gè)或多個(gè)射束引導(dǎo)器，而且也控制/調(diào)節(jié)工藝腔室的涂層器和粉末管理(pulvermanagement)。如果構(gòu)件的制造結(jié)束，那么工藝腔室模塊也能夠連接至外部供給站，該外部供給站例如提供電流/水，以便允許緩慢的/已調(diào)節(jié)的冷卻，或者提供氣體，以便在取下構(gòu)件時(shí)提供保護(hù)氣體過(guò)壓(schutzgas-)，該保護(hù)氣體過(guò)壓允許了所述取下，而無(wú)需使較大濃度的粉末經(jīng)受大氣壓氣體?？赡艿氖?，這種工藝的控制/調(diào)節(jié)通過(guò)工藝腔室模塊的控制器實(shí)現(xiàn)，然而優(yōu)選地，外部供給站具有用于這種任務(wù)的控制器。

有利地，工藝腔室模塊的工藝腔室實(shí)施成自身閉合的(特別是可抽真空的或者是通過(guò)借助惰性氣體進(jìn)行沖洗從而基本上可免除反應(yīng)氣體的)、具有工藝腔室窗的腔室，所述至少一個(gè)能量射束源可通過(guò)所述工藝腔室窗耦入到工藝腔室中。

所述工藝腔室模塊和/或所述至少一個(gè)照射模塊能夠是可移動(dòng)的，例如支承在滾輪上，以便能夠使所述工藝腔室模塊和/或所述至少一個(gè)照射模塊容易且簡(jiǎn)單地移動(dòng)在一起成為激光加工機(jī)器。

特別優(yōu)選地，能量射束源構(gòu)造成用于產(chǎn)生激光射束的激光器，并且射束引導(dǎo)器構(gòu)造成用于以兩維方式偏轉(zhuǎn)所述激光射束的偏轉(zhuǎn)單元。備選地，能量射束源例如也可以實(shí)施成電子射束源，該電子射束源的電子射束被偏轉(zhuǎn)到粉末底臺(tái)上。

在組裝(對(duì)接)粉末腔室模塊時(shí)，照射模塊從指導(dǎo)系統(tǒng)(leitsystem)獲悉應(yīng)制造的構(gòu)件。照射模塊具有控制器，該控制器控制能量射束(功率、取向、聚焦等)以及控制至少粉末涂層和構(gòu)建平臺(tái)偏轉(zhuǎn)?？蛇x擇的是：當(dāng)對(duì)接(angedockt)時(shí)，照射模塊通過(guò)獨(dú)特的標(biāo)識(shí)(經(jīng)由數(shù)據(jù)交換、操作者輸入、工藝腔室模塊上的條形碼/qr碼的掃描)識(shí)別到工藝腔室模塊；并且指導(dǎo)系統(tǒng)詢問(wèn)對(duì)于工藝腔室模塊設(shè)定的制造工作。可選擇地，照射模塊的控制器也可以控制：粉末預(yù)熱/構(gòu)件冷卻、粉末預(yù)備和/或輸送等。

優(yōu)選地，工藝腔室模塊的工藝腔室實(shí)施成氣密式，并且具有氣體入口和氣體出口，以便能夠?qū)⒐に嚽皇页檎婵栈蛘咭远栊詺怏w進(jìn)行沖洗。

優(yōu)選地，工藝腔室模塊具有以一角度相對(duì)于水平線傾斜的至少一個(gè)篩件和如此設(shè)置在該至少一個(gè)篩件下方的至少一個(gè)收集容器：即，使得不可篩濾的材料粉末以重力支持的方式沿著所述至少一個(gè)篩件運(yùn)動(dòng)并且可收集在所述至少一個(gè)收集容器中。有利地，所述至少一個(gè)篩件以機(jī)械可運(yùn)動(dòng)的方式支承并且通過(guò)驅(qū)動(dòng)器被驅(qū)動(dòng)成振動(dòng)運(yùn)動(dòng)。

此外優(yōu)選地，工藝腔室模塊具有自身閉合的粉末回路，該粉末回路包括至少一個(gè)篩件和至少一個(gè)運(yùn)輸路段，該至少一個(gè)運(yùn)輸路段用于將通過(guò)所述至少一個(gè)篩件篩濾的材料粉末輸送到粉末儲(chǔ)存器中。

工藝腔室模塊還可以具有用于在粉末儲(chǔ)存器中進(jìn)行粉末量檢測(cè)的檢測(cè)器具(尤其是天平)以及具有可封閉的粉末入口，該粉末入口用于將已計(jì)量的粉末輸送到粉末儲(chǔ)存器或者粉末回路中。例如，具有粉末的套筒裝置(kartusche)可以連接至粉末入口。檢測(cè)器具尤其在構(gòu)件制造之后稱量在粉末儲(chǔ)存器/粉末回路中剩余的粉末并且在需要時(shí)打開(kāi)粉末入口。

特別優(yōu)選地，所述構(gòu)建平臺(tái)構(gòu)造成可與粉末回路的其它部件以氣密方式分離。

本發(fā)明也涉及一種模塊系統(tǒng)，用于組裝如上所構(gòu)造的加工機(jī)器，該模塊系統(tǒng)具有多個(gè)不同寬的工藝腔室模塊并且具有多個(gè)照射模塊，其中，所述工藝腔室模塊的寬度分別相應(yīng)于至少一些以并排成一列方式布置的照射模塊的總寬度。優(yōu)選地，照射模塊結(jié)構(gòu)相同地(亦即尤其相同寬地)實(shí)施。

附圖說(shuō)明

本發(fā)明的其它優(yōu)點(diǎn)由權(quán)利要求書(shū)、說(shuō)明書(shū)和附圖得出。同樣地，上述的以及還將進(jìn)一步解釋的特征可分別自身或者多個(gè)任意組合地得以應(yīng)用。所示出的和所描述的實(shí)施方式不應(yīng)理解成最終窮舉，更確切地說(shuō)而是具有對(duì)于本發(fā)明敘述而言示例性的特征。附圖示出：

圖1：按照本發(fā)明的sls或slm激光加工機(jī)器；

圖2：工藝腔室模塊和照射模塊，圖1示出的激光加工機(jī)器由它們可松脫地組裝而成；

圖3a、3b：圖1示出的激光加工機(jī)器的工藝腔室模塊(圖3a)和照射模塊(圖3b)；

圖4：按照本發(fā)明的另一sls或slm激光加工機(jī)器；

圖5：一個(gè)工藝腔室模塊和兩個(gè)照射模塊，圖4示出的激光加工機(jī)器由它們可松脫地組裝而成；

圖6a、6b：圖4示出的激光加工機(jī)器的工藝腔室模塊(圖6a)和照射模塊(圖6b)；

圖7：模塊系統(tǒng)，用于組裝由多個(gè)工藝腔室模塊和多個(gè)照射模塊組成的激光加工機(jī)器；以及

圖8：工藝腔室模塊的工藝腔室以及粉末回收/預(yù)備的細(xì)節(jié)圖。

在以下附圖說(shuō)明中，對(duì)于相同的或功能相同的構(gòu)件采用一致附圖標(biāo)記。

具體實(shí)施方式

圖1示出的sls或slm激光加工機(jī)器1用于：通過(guò)將材料粉末2進(jìn)行逐層構(gòu)建并且借助于至少一個(gè)能量射束3將材料粉末2進(jìn)行逐層燒結(jié)或熔化從而制造構(gòu)件。

激光加工機(jī)器1以已知的方式：

-不僅包括引導(dǎo)粉末的部件，例如：工藝腔室4，該工藝腔室4具有構(gòu)建平臺(tái)5和用于逐層施加材料粉末2到構(gòu)建平臺(tái)5上的粉末涂層器6；以及粉末儲(chǔ)存器7，其用于待輸送至粉末涂層器的材料粉末2；和粉末回收/預(yù)備裝置8；

-而且包括非引導(dǎo)粉末的部件，例如：激光器9，用于產(chǎn)生激光射束3；以及偏轉(zhuǎn)單元10，用于將激光射束3朝著被施加到構(gòu)建平臺(tái)5上的材料粉末2以二維方式定向。激光器9和偏轉(zhuǎn)單元10設(shè)置在工藝腔室4上方。

在激光加工機(jī)器1中，通過(guò)借助于激光射束3將材料粉末2燒結(jié)或熔化從而一層一層地(schichtfürschicht)構(gòu)建構(gòu)件。材料粉末2由粉末涂層器6全面地施加到構(gòu)建平臺(tái)5上，并且通過(guò)根據(jù)構(gòu)件的層輪廓對(duì)激光射束3進(jìn)行驅(qū)控從而將這些層逐步地?zé)Y(jié)或熔化到粉末底臺(tái)中。緊接著，將構(gòu)建平臺(tái)5以一層厚的數(shù)值進(jìn)行偏轉(zhuǎn)，并且重新施加材料粉末2。重復(fù)這個(gè)周期，直至構(gòu)件的全部層被燒結(jié)或熔化。

如圖2所示，激光加工機(jī)器1由工藝腔室模塊111和照射模塊12可松脫地組裝而成，其中，圖3a示出的工藝腔室模塊111包括全部引導(dǎo)粉末的部件(即在此是工藝腔室4、構(gòu)建平臺(tái)5、粉末涂層器6、粉末儲(chǔ)存器7和粉末回收/預(yù)備裝置8)，并且圖3b示出的照射模塊12包括非引導(dǎo)粉末的部件(即在此是激光器9和射束引導(dǎo)器10)。照射模塊12優(yōu)選實(shí)施成靜止的，而工藝腔室模塊111可移動(dòng)地支承在滾輪13上。在照射模塊12上，在兩側(cè)固定有兩個(gè)側(cè)壁14，在這些側(cè)壁14之間精密匹配地置入有工藝腔室模塊111。通過(guò)上側(cè)的工藝腔室窗15，使從照射模塊12朝下射出的激光射束3耦入到工藝腔室4中。給工藝腔室模塊111供以電流、水、控制數(shù)據(jù)等，這僅經(jīng)由照射模塊12實(shí)現(xiàn)，其中，為此在工藝腔室模塊111上和在照射模塊12上所需的連接端和接口并未示出。工藝腔室模塊111自身不具有自身控制器用于構(gòu)件制造，而是連接至照射模塊12的控制器16。也就是說(shuō)，照射模塊12不僅控制/調(diào)節(jié)激光器9和偏轉(zhuǎn)單元10，而是控制/調(diào)節(jié)工藝腔室4中的粉末管理。在照射模塊12上還安裝有外部顯示器/操作面板17。

在圖4中示出另一激光加工機(jī)器1，該激光加工機(jī)器由一個(gè)工藝腔室模塊112和兩個(gè)照射模塊12可松脫地組裝而成。照射模塊12與圖1-3中的照射模塊12結(jié)構(gòu)相同地實(shí)施，而工藝腔室模塊112實(shí)施成圖1-3的工藝腔室模塊111的雙倍寬。這兩個(gè)照射模塊12彼此側(cè)靠側(cè)(seiteanseite)地固定并且在端側(cè)上分別具有兩個(gè)側(cè)壁14，在這些側(cè)壁14之間匹配精確地置入有工藝腔室模塊112。這兩個(gè)照射模塊12在控制技術(shù)方面以主-從方案連接并且在視覺(jué)方面相互參照，以便將工藝腔室4的加工區(qū)劃分成照射模塊12的兩個(gè)激光射束3的相互重疊/搭接的加工子區(qū)18。

每個(gè)照射模塊12具有控制接口(未示出)用于連接另一照射模塊的控制接口，以便將上述兩個(gè)照射模塊12的控制器16相互連接?？刂平涌诳梢允抢鐭o(wú)線的接口或者電子的機(jī)器接口，該控制接口設(shè)置在每個(gè)照射模塊12的兩側(cè)上，以便與相鄰照射模塊12的機(jī)器接口連接。一照射模塊12作為主模塊運(yùn)行而另一照射模塊12作為被主模塊控制的從模塊運(yùn)行。

這兩個(gè)照射模塊12分別具有光學(xué)傳感器19(例如攝像機(jī))，該光學(xué)傳感器19的檢測(cè)區(qū)域設(shè)置用于：至少部分地檢測(cè)各自另一照射模塊的加工子區(qū)18。由此，例如主照射模塊12可以借助于其激光射束3執(zhí)行加工或者將固定的校準(zhǔn)點(diǎn)進(jìn)行照明，相鄰的從照射模塊12的傳感器19又檢測(cè)這些校準(zhǔn)點(diǎn)進(jìn)而將其自身定位相對(duì)于主照射模塊校準(zhǔn)。在繼續(xù)串接照射模塊的情況下，于是下一從照射模塊可以按照已經(jīng)校準(zhǔn)的從照射模塊進(jìn)行校準(zhǔn)等等，直至全部從照射模塊相對(duì)于主照射模塊被校準(zhǔn)。

給工藝腔室模塊112供以電流、水、控制數(shù)據(jù)等，這僅經(jīng)由照射模塊12實(shí)現(xiàn)，其中，為此在工藝腔室模塊112上以及在照射模塊12上所需的連接端和接口在附圖中并未示出。工藝腔室模塊112自身不具有自身控制器，而是連接至主照射模塊12的主控制器16。也就是說(shuō)，主控制器16不僅控制/調(diào)節(jié)上述兩個(gè)照射模塊12的激光器9和偏轉(zhuǎn)單元10，而且也控制/調(diào)節(jié)工藝腔室4中的粉末管理。在照射模塊12上還安裝有外部顯示器/操作面板17，其用于上述兩個(gè)照射模塊12。

圖7示出模塊系統(tǒng)20，用于組裝激光加工機(jī)器1，該模塊系統(tǒng)20包括多個(gè)不同寬的工藝腔室模塊111、112、113和多個(gè)結(jié)構(gòu)相同的照射模塊12。在此，工藝腔室模塊111的寬度相應(yīng)于一個(gè)照射模塊12的寬度，工藝腔室模塊112的寬度相應(yīng)于兩個(gè)照射模塊12的寬度，并且工藝腔室模塊113的寬度相應(yīng)于n(n>3)個(gè)照射模塊12的寬度。此外，模塊系統(tǒng)20還具有至少兩個(gè)側(cè)壁14和至少一個(gè)外部顯示器/操作面板17。根據(jù)期望的工藝腔室尺寸，選定相應(yīng)的工藝腔室模塊111、112、113，并且將相應(yīng)數(shù)量的照射模塊12相互串接。在這些照射模塊12串接的情況下，另外連接的每個(gè)照射模塊12的控制器16跟隨第一照射模塊12的控制器16，該第一照射模塊12因此定義主模塊。

如圖8所示，工藝腔室模塊111-113的工藝腔室4(除了氣體入口31和氣體出口32外)可以氣密地實(shí)施，以便能夠?qū)⒐に嚽皇?抽真空，或者能夠以惰性氣體沖洗。

此外可以設(shè)有以一角度相對(duì)于水平線傾斜的篩件33和如此設(shè)置在至少一個(gè)篩件33下方的收集容器34：即，使得不可篩濾的材料粉末2以重力支持的方式沿著篩件33運(yùn)動(dòng)并且被收集在收集容器34中。有利地，篩件33通過(guò)驅(qū)動(dòng)器35振動(dòng)地驅(qū)動(dòng)。材料粉末2在工藝腔室模塊中在自身閉合的粉末回路中被引導(dǎo)，該粉末回路包括至少一個(gè)篩件33和至少一個(gè)運(yùn)輸路段(未示出)，該運(yùn)輸路段用于將通過(guò)所述至少一個(gè)篩件33篩濾的材料粉末2輸送到粉末儲(chǔ)存器7中。優(yōu)選地，構(gòu)建平臺(tái)5構(gòu)造成可與粉末回路的其它部件以氣密方式分離。

粉末儲(chǔ)存器7此外包括用于粉末量檢測(cè)的檢測(cè)器具36(例如天平)以及包括可封閉的粉末入口37，該粉末入口37用于將已計(jì)量的粉末輸送到粉末儲(chǔ)存器7或者粉末回路中。例如，具有材料粉末2的套筒裝置可以連接至粉末入口37。檢測(cè)器具36在構(gòu)件制造之后稱量在粉末儲(chǔ)存器7或粉末回路中還存在的材料粉末2，并且在需要時(shí)打開(kāi)粉末入口37。

此外可以設(shè)有供給站(未示出)，工藝腔室模塊111-113可以連接至該供給站，并且該供給站如照射模塊12那樣具有電流、水、氣體和/或數(shù)據(jù)連接端。借助電流可以執(zhí)行由工藝腔室4調(diào)節(jié)的粉末預(yù)熱/構(gòu)件冷卻，水同樣可以用于構(gòu)件冷卻或者其它工藝腔室部件的冷卻。這個(gè)功能可以或是通過(guò)工藝腔室4中的簡(jiǎn)單控制或是通過(guò)供給站經(jīng)由數(shù)據(jù)連接端的控制得以實(shí)現(xiàn)。氣體連接端可以用于：例如當(dāng)構(gòu)件應(yīng)取下時(shí)在工藝腔室4中形成保護(hù)氣體氛圍

對(duì)于工藝腔室模塊所需的控制器是安置在該模塊中還是安置在照射模塊和供給站中，這尤其取決于：照射模塊是共同連接成主模塊和從模塊地應(yīng)用還是單個(gè)地應(yīng)用。然而與照射模塊相比，通常是工藝腔室模塊，因?yàn)閮?yōu)選地總是僅針對(duì)一種材料的工藝腔室模塊被應(yīng)用，并且因此總是只有具有正好需要的材料的工藝腔室模塊被應(yīng)用。此外給定如下工藝腔室模塊：在這些工藝腔室模塊中，構(gòu)件被冷卻，或者粉末被預(yù)熱。因此可以更有利的是，僅給照射站配備有用于工藝腔室模塊中粉末施加的控制器，而不是給全部工藝腔室模塊進(jìn)行配備。類似的情況在于：配備有用于粉末回路/加熱等其它功能的控制器。在工藝腔室模塊非常寬的情況下(其中，總是需要更多的照射模塊)，然而又有利的是，僅僅給工藝腔室模塊配備有用于工藝腔室模塊的控制器，而不是給每個(gè)照射模塊進(jìn)行配備。也可以有利的是，控制器以模塊方式實(shí)施，并且，視生產(chǎn)制造而定，給照射模塊或者工藝腔室模塊配備有控制器。