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橫向溝槽金屬氧化物半導體場效應晶體管的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:6853322

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本發(fā)明涉及開態(tài)電阻低的半導體器件,更具體地涉及具有橫向MOSFET的半導體器件。背景技術(shù) 橫向MOSFET已經(jīng)被用作低電壓半導體開關(guān)器件。當橫向MOSFET用于開關(guān)大電流時要求高的驅(qū)動能力。降低開態(tài)電阻對于提高驅(qū)動能力很重要。由于溝道電阻占用橫向MOSFET開態(tài)電阻的大部分,所以為了降低開態(tài)電阻增加溝道寬度就足夠了。但是,橫向MOSFET的平面區(qū)域(以下,稱為元件區(qū)域)隨著溝道寬度的增加而增加。在圖2A到2C中顯示的傳統(tǒng)的橫向溝槽MOSFET中,在源極層0...
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