技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開一種用于檢測鏈霉素的鏈霉素分子印跡?量子點(diǎn)聚合物及制備方法，包括以下步驟，首先在量子點(diǎn)表面修飾二氧化硅殼層得到二氧化硅殼層量子點(diǎn)，然后在二氧化硅殼層量子點(diǎn)的表面修飾硅烷化苯硼酸和鏈霉素得到量子點(diǎn)復(fù)合物，最后將量子點(diǎn)復(fù)合物中鏈霉素洗脫下來得到具有鏈霉素空間識別位點(diǎn)和苯硼酸?糖基親和結(jié)合位點(diǎn)的鏈霉素分子印跡?量子點(diǎn)聚合物。該鏈霉素分子印跡?量子點(diǎn)聚合物能可特異、快速、靈敏、高通量地檢測鏈霉素含量。

技術(shù)研發(fā)人員：呂斌;劉燕婕;萬迎春;鐘劍;葉磊;吳中喬;鄧耘;項(xiàng)陽
受保護(hù)的技術(shù)使用者：武漢漢瑞隆德檢測技術(shù)有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.03.24
技術(shù)公布日：2017.08.29