專利名稱：一種噴涂機的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型屬于硅片電池生產(chǎn)線濕制程領(lǐng)域，具體涉及ー種對硅片的正面涂覆涂層的噴涂機。
背景技術(shù)：
磷擴散廣泛應(yīng)用于晶體硅電池的生產(chǎn)エ藝中。摻雜微量磷到硅片表面可形成晶體硅電池的pn結(jié)。這ーエ藝通過兩個步驟來實現(xiàn)首先，在硅片正面沉積磷蒸汽或涂覆磷涂層；然后，將硅片在800°C 1000°C的溫度范圍內(nèi)進行熱處理來使磷擴散進硅片形成pn結(jié)。目前，涂覆磷涂層的步驟一般通過USI自動噴涂機進行，如圖I所示，USI自動噴涂機的內(nèi)部設(shè)有噴涂裝置1，USI自動噴涂機的進料端的機架2上設(shè)置有允許硅片3進入噴涂機內(nèi)部的入口 4,機架2的外部設(shè)置用于傳送娃片3的輸送棍5,機架2的內(nèi)部設(shè)置輸送帶6。噴 涂裝置的前方設(shè)置位于USI自動噴涂機內(nèi)部的傳感器7，用來檢測是否有硅片3進入到USI自動噴涂機，如果檢測到有硅片3存在，才啟動噴涂動作。如圖I所示，需要涂覆涂層的硅片3首先在USI自動噴涂機的外部的輸送輥5上輸送至靠近USI自動噴涂機進料端的機架2，然后穿過機架2上的入口 4進入到USI自動噴涂機內(nèi)部的輸送帶6上，當(dāng)硅片3經(jīng)過機架2的入口 4時，傳感器7感應(yīng)到硅片的存在便發(fā)出信號，以控制噴涂裝置I的噴頭將磷噴涂在硅片2的正面。現(xiàn)有技術(shù)中噴涂機的傳感器的設(shè)置位置存在如下問題(I)由于傳感器7是設(shè)置在USI自動噴涂機的內(nèi)部，在內(nèi)部高溫、潮濕的酸性環(huán)境條件下，傳感器7極易被腐蝕，因此會增加維護成本；(2)由于傳感器7被腐蝕，因此有時會有誤感應(yīng)，從而發(fā)出錯誤的信號，導(dǎo)致硅片有噴不到的現(xiàn)象而需要返エ；(3)在對傳感器7的感應(yīng)強度進行調(diào)整吋，由于傳感器7設(shè)置在USI自動噴涂機的內(nèi)部，因此則需停機處理，嚴(yán)重浪費了產(chǎn)能，并且檢修或調(diào)整傳感器7時，需要爬到設(shè)備內(nèi)，若不小心易容易發(fā)生安全事故。

實用新型內(nèi)容鑒于現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述問題，本實用新型所要解決的技術(shù)問題是提供ー種能節(jié)約檢修時間、減少產(chǎn)能的浪費以及減少元器件腐蝕、降低維護成本的噴涂機。為了解決上述技術(shù)問題，本實用新型采用了如下技術(shù)方案一種噴涂機，包括用于將噴涂機分隔成入料區(qū)和噴涂區(qū)的機架，機架的下部開設(shè)有進料ロ，入料區(qū)設(shè)置用于向所述進料ロ輸送硅片的輸送輥，噴涂區(qū)設(shè)置用于將從所述進料ロ進來的所述硅片繼續(xù)傳輸?shù)妮斔蛶В鋈肓蠀^(qū)設(shè)置用于感應(yīng)硅片是否存在從而控制所述噴涂裝置啟閉的傳感器。作為優(yōu)選，所述傳感器設(shè)置在所述機架位于所述入料區(qū)一側(cè)的側(cè)壁上。作為優(yōu)選，所述傳感器為光電傳感器。作為優(yōu)選，所述傳感器至少為ー個。[0013]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型的有益效果在于I、本實用新型的噴涂機由于將傳感器設(shè)置在噴涂機的機架的外部，使傳感器的エ作環(huán)境由原來的高溫、高濕的酸性環(huán)境改變?yōu)槌?、干燥的正常環(huán)境，從而減少了傳感器的腐蝕，降低了維護成本。2、本實用新型的噴涂機由于將傳感器設(shè)置在噴涂機的入料區(qū)，當(dāng)需要對傳感器進行調(diào)?；蚓S修時，不再需要爬入噴涂機的噴涂區(qū)的內(nèi)部和停機處理，極大的減小了產(chǎn)能的浪費，降低了維修勞動強度，降低安全事故發(fā)生的幾率。

圖I為現(xiàn)有技術(shù)中噴涂機的局部結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本實用新型的實施例的噴涂機的局部結(jié)構(gòu)示意圖。附圖標(biāo)記說明11-機架12-進料ロ13-硅片14-輸送輥15-輸送帶16-噴涂裝置17-傳感器
具體實施方式
以下結(jié)合附圖和具體實施例對本實用新型作進ー步詳細(xì)描述，但不作為對本實用新型的限定。如圖2所示，本實用新型的實施例的一種噴涂機，包括用于將噴涂機分隔成入料區(qū)和噴涂區(qū)的機架11，機架11的下部開設(shè)有進料ロ 12，入料區(qū)設(shè)置用于向進料12輸送硅片13的輸送輥14，噴涂區(qū)設(shè)置用于將從進料12進來的硅片13繼續(xù)傳輸?shù)妮斔蛶?5，輸送帶15的上方設(shè)置用于噴涂硅片13正面的噴涂裝置16，入料區(qū)設(shè)置用于感應(yīng)硅片13是否存在從而控制嗔涂裝直16啟閉的傳感器17。作為本實施例的一種優(yōu)選方案，如圖2所不，傳感器17可以設(shè)置在機架11朝向輸送輥14的側(cè)壁上，也即是機架11朝向入料區(qū)的側(cè)壁上。當(dāng)然，傳感器17也可以設(shè)置在輸送棍14的下方或上方。當(dāng)娃片13從輸送棍14上向機架11的進料ロ 12輸送時,傳感器17能感應(yīng)到娃片的存在，便向控制系統(tǒng)發(fā)出イ目號，控制系統(tǒng)控制嗔涂裝直16啟動，向娃片13上進行噴涂。作為本實施例的另ー種優(yōu)選方案，傳感器17可以米用光電傳感器。由于本實用新型中的傳感器17設(shè)置在噴涂機的入料區(qū)，入料區(qū)直接處于工人操作的空間內(nèi)，工作環(huán)境為常溫、干燥的環(huán)境，不容易被腐蝕，因此降低了維護成本。在對傳感器17進行檢修或調(diào)試時，也不需要爬到噴涂機的噴涂區(qū)內(nèi)并進行停機處理，因此節(jié)約了維修時間、減少了產(chǎn)能的浪費，降低維修勞動強度，降低安全事故發(fā)生的幾率。以上實施例僅為本實用新型的示例性實施例，不用于限制本實用新型，本實用新型的保護范圍由權(quán)利要求書限定。本領(lǐng)域技術(shù)人員可以在本實用新型的實質(zhì)和保護范圍內(nèi)，對本實用新型做出各種修改或等同替換，這種修改或等同替換也應(yīng)視為落在本實用新型的保護范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種噴涂機，包括用于將噴涂機分隔成入料區(qū)和噴涂區(qū)的機架，機架的下部開設(shè)有進料口，入料區(qū)設(shè)置用于向所述進料口輸送硅片的輸送輥，噴涂區(qū)設(shè)置用于將從所述進料口進來的所述硅片繼續(xù)傳輸?shù)妮斔蛶?，其特征在于，所述入料區(qū)設(shè)置用于感應(yīng)硅片是否存在從而控制所述噴涂裝置啟閉的傳感器。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的噴涂機，其特征在于，所述傳感器設(shè)置在所述機架位于所述入料區(qū)一側(cè)的側(cè)壁上。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的噴涂機，其特征在于，所述傳感器為光電傳感器。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的噴涂機，其特征在于，所述傳感器至少為一個。
專利摘要本實用新型公開了一種噴涂機，包括用于將噴涂機分隔成入料區(qū)和噴涂區(qū)的機架，機架的下部開設(shè)有進料口，入料區(qū)設(shè)置用于向所述進料口輸送硅片的輸送輥，噴涂區(qū)設(shè)置用于將從所述進料口進來的所述硅片繼續(xù)傳輸?shù)妮斔蛶?，所述入料區(qū)設(shè)置用于感應(yīng)硅片是否存在從而控制所述噴涂裝置啟閉的傳感器。本實用新型的噴涂機由于將傳感器設(shè)置在噴涂機的入料區(qū)，使傳感器的工作環(huán)境由原來噴涂區(qū)的高溫、高濕的酸性環(huán)境改變?yōu)槿肓蠀^(qū)的常溫、干燥的正常環(huán)境，從而減少了傳感器的腐蝕，降低了維護成本。而且對傳感器進行調(diào)?；蚓S修時，不再需要爬入噴涂機內(nèi)部和停機處理，減小了產(chǎn)能的浪費，降低了維修勞動強度，降低安全事故發(fā)生的幾率。
文檔編號B05C13/02GK202460909SQ201220018739
公開日2012年10月3日 申請日期2012年1月16日 優(yōu)先權(quán)日2012年1月16日
發(fā)明者陳園 申請人:無錫尚德太陽能電力有限公司, 無錫德鑫太陽能電力有限公司