專利名稱：噴嘴單元、基板處理裝置和基板處理方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及向基板涂敷藥液的基板處理裝置，更詳細(xì)地，涉及向基板噴出多種的藥液的噴嘴單元和具備該噴嘴單元的基板處理裝置。
背景技術(shù)：
為了制造半導(dǎo)體元件或液晶顯示器，實(shí)施如下多種的工序:向基板上供應(yīng)藥液的光刻、刻蝕、離子注入蒸鍍和洗凈。這樣的工序中，光刻工序使基板上形成所需的圖案。光刻膠工序依次實(shí)行下述工序:涂敷工序，向基板上涂敷如光刻膠這樣的藥液；曝光工序，在涂敷的感光膜上形成特定的圖案；以及顯影工序，在曝光的感光膜上去除不必要的區(qū)域。其中，一般而言,基板向一個(gè)方向移動(dòng)，由固定的噴嘴被供應(yīng)藥液。在這之中，在基板會(huì)被移動(dòng)的涂敷工序中，支承部件向基板的底面噴射氣體，使該基板在其漂浮于空中的狀態(tài)下移動(dòng)。但是，基板隨氣體的振蕩而產(chǎn)生振動(dòng)，由于氣體的溫度在基板的區(qū)域之間產(chǎn)生溫差。在先技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1:日本國特許公開第2010-0221186號(hào)公報(bào)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明用于提供一種節(jié)省光刻膠的消耗量的噴嘴單元、基板處理裝置和基板處理方法。另外，本發(fā)明用于提供一種設(shè)置成在基板上均勻地涂敷光刻膠的噴嘴單元、基板處理裝置和基板處理方法?；诒景l(fā)明的實(shí)施方式的基板處理裝置，包括:板，支承基板；噴嘴單元，向被所述板支承的所述基板涂敷藥液；驅(qū)動(dòng)單元，使所述基板或所述噴嘴單元移動(dòng)，以使置于所述板上的基板和所述噴嘴單元之間的相對(duì)位置改變；所述噴嘴單元包括:第一噴出部件，沿第一方向形成該第一噴出部件的橫方向，該第一噴出部件向所述基板噴出第一藥液；第二噴出部件，沿第一方向形成該第二噴出部件的橫方向，該第二噴出部件向所述基板噴出第二藥液。另外，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的基板處理方法，利用基板處理裝置處理基板，該基板處理裝置，包括:板，支承基板；噴嘴單元，向被所述板支承的所述基板涂敷藥液；驅(qū)動(dòng)單元，使所述基板或所述噴嘴單元移動(dòng)，以使置于所述板上的基板和所述噴嘴單元之間的相對(duì)位置改變；所述噴嘴單元，包括:第一噴出部件，沿第一方向形成該第一噴出部件的橫方向，該第一噴出部件向所述基板噴出第一藥液；第二噴出部件，沿第一方向形成該第二噴出部件的橫方向，該第二噴出部件向所述基板噴出第二藥液。在所述方法中，改變所述基板和所述噴嘴單元之間的相對(duì)位置，從所述第一噴出部件向所述基板噴出所述第一藥液且第二噴出部件向噴出的所述第一藥液的表面上噴出所述第二藥液。
另外，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的噴嘴單元，包括:主體，沿第一方向提供該主體的橫方向，該主體形成有:第一流道，向基板噴出第一藥液，沿所述第一方向形成該第一流道的橫方向；第二流道，向基板噴出第二藥液，沿所述第一方向形成該第二流道的橫方向；所述第一流道和所述第二流道被形成為沿與所述第一方向垂直的第二方向相隔離。發(fā)明效果根據(jù)本發(fā)明，能夠節(jié)省在基板上形成的光刻膠膜所消耗的光刻膠量。另外，根據(jù)本發(fā)明，在基板上能夠均勻地形成光刻膠膜。另外，根據(jù)本發(fā)明，當(dāng)在基板上形成多種種類的光刻膠膜時(shí)，能夠縮短所需的時(shí)間。


圖1為表示基于本發(fā)明一實(shí)施方式的基板處理裝置的圖；圖2為表示結(jié)合支承臺(tái)的噴嘴單元的截面的圖；圖3為表示噴嘴單元向基板涂敷藥液的過程的圖；圖4為表示通過第一噴出部件向基板噴出第一藥液的狀態(tài)的圖；圖5為表示另外的實(shí)施方式的噴嘴單元的截面的圖；圖6為表示另外的實(shí)施方式的噴嘴單元的截面的圖；圖7為表示另一實(shí)施方式的噴嘴單元結(jié)合支承臺(tái)的形態(tài)的截面圖；圖8為表示另一實(shí)施方式的噴嘴單元結(jié)合支承臺(tái)的形態(tài)的截面圖；圖9為表示另一實(shí)施方式的噴嘴單元的截面圖；圖10為表示另一實(shí)施方式的噴嘴單元的截面圖；圖11為表示另一實(shí)施方式的結(jié)合部件的形態(tài)的圖。符號(hào)說明10 …板20…基板移送部件30…噴嘴單元40…噴嘴移送部件41…支承臺(tái)50…噴嘴單元待機(jī)部
具體實(shí)施例方式下面，參照附圖的圖1至圖5詳細(xì)說明本發(fā)明的實(shí)施方式。本發(fā)明的實(shí)施方式能夠變形為多種方式，不可解釋為本發(fā)明的范圍被以下實(shí)施方式所限定。本實(shí)施方式是為了向本領(lǐng)域中具有平均知識(shí)的從業(yè)者更完整地說明本發(fā)明而提供的。因此，圖中要件的形狀為了強(qiáng)調(diào)更明確的說明而有所夸張。圖1為基于本發(fā)明的一實(shí)施方式的基板s處理裝置的示意圖。參照?qǐng)D1，基板s處理裝置包括:板10、噴嘴單元30、基板移送部件20、噴嘴移送部件40以及噴嘴單元待機(jī)部50。板10能夠具有設(shè)定于第一方向101的寬度,并具有從上部看時(shí)在與第一方向101垂直的第二方向102上延長的形狀?；錽位于板10上之后，能夠向第二方向102移動(dòng)。在板10上形成氣體供應(yīng)孔11。氣體供應(yīng)孔11通過氣體供應(yīng)線(未圖示)連結(jié)氣體供應(yīng)部(未圖示)。從氣體供應(yīng)部所供應(yīng)的氣體通過氣體供應(yīng)孔11噴射。從氣體供應(yīng)孔11噴射的氣體使位于板10上的基板s浮起。在板10的第一方向101的兩側(cè)面設(shè)置基板移送部件20?；逡扑筒考?0包括基板移送用軌道21和夾持部件22?；逡扑陀密壍?1在板10的兩側(cè)面沿第二方向102延長而形成。夾持部件22位于各基板移送用軌道21上。夾持部件22被設(shè)置為可以沿基板移送用軌道21向第二方向102移動(dòng)。基板s在通過從氣體供應(yīng)孔11噴射的氣體而浮起的狀態(tài)下被夾持部件22支承。夾持部件22若向第二方向102移動(dòng)，則基板s向第二方向102被移送。噴嘴單元30與噴嘴移送部件40結(jié)合，并被設(shè)置為在板10上，在與第一方向101及第二方向102垂直的第三方向103上與板10分離。噴嘴單元30向基板s噴出第一藥液和第二藥液。噴嘴移送部件40包括支承臺(tái)41、垂直框架42以及導(dǎo)軌43。支承臺(tái)41形成為在第一方向101上較長地延長的棒摸樣。噴嘴單元30至少一個(gè)面與支承臺(tái)41結(jié)合，并被設(shè)置為從板10向第三方向103隔離。另外，通過以下說明的結(jié)合部件60，噴嘴單元30以可拆裝的方式與支承臺(tái)41結(jié)合。支承臺(tái)41的第一方向101的端部連結(jié)垂直框架42。垂直框架42向第三方向103的下方延長并形成。垂直框架42可與支承臺(tái)41 一體形成，或者分別形成后再與支承臺(tái)41連結(jié)。垂直框架42位于導(dǎo)軌43上。導(dǎo)軌43在第一方向101上形成于基板移送用軌道21的外側(cè)，并向第二方向102延長。垂直框架42能夠沿導(dǎo)軌43向第二方向102移動(dòng)。噴嘴單元待機(jī)部50在導(dǎo)軌43的內(nèi)側(cè)具有設(shè)置于第二方向102的寬度，并設(shè)置為在第一方向101上延長的形狀。噴嘴單元待機(jī)部50配置在移動(dòng)噴嘴單元30的路徑上。SP，垂直框架42沿導(dǎo)軌43移動(dòng)，使噴嘴單元30能夠位于噴嘴單元待機(jī)部50的上方。當(dāng)噴嘴單元待機(jī)部50位于板10的上方時(shí)，噴嘴單元待機(jī)部50被設(shè)置為從板10在第3方向上分離。因此，位于板10上的基板s能夠在板10與噴嘴單元待機(jī)部50之間移動(dòng)。在噴嘴單元待機(jī)部50處能夠使多個(gè)噴嘴單元30位于該處。另外，在噴嘴單元待機(jī)部50處能夠具備未與支承臺(tái)41結(jié)合的噴嘴單元30。因此，在設(shè)置使得與支承臺(tái)41結(jié)合著的噴嘴單元30分離并位于噴嘴單元待機(jī)部50之后，能夠設(shè)置以使位于噴嘴單元待機(jī)部50處的其他的噴嘴單元30與支承臺(tái)41結(jié)合，從而實(shí)現(xiàn)噴嘴單元30的更換。因此，能夠根據(jù)從噴嘴單元30噴出的藥液的種類，更換并使用與支承臺(tái)41結(jié)合的噴嘴單元30。圖2為表示與支承臺(tái)結(jié)合著的噴嘴單元的截面的圖。參照?qǐng)D1和圖2，噴嘴單元30包括:第一噴出部件、第二噴出部件、抽引部件340以及排氣流道330。噴嘴單元30可以具有縫隙狀延長的主體300。當(dāng)噴嘴單元30與支承臺(tái)41結(jié)合時(shí)，主體300的延長方向變?yōu)榈谝环较?01。在主體300上形成作為第一噴出部件提供的第一流道310以及作為第二噴出部件提供的第二流道320。第一流道310和第二流道320沿第一方向101形成。另外，第一流道310和第二流道320以沿第二方向102隔離的方式形成。第一流道310通過第一連結(jié)管315與第一藥液供應(yīng)部317連結(jié)，第二流道320通過第二連結(jié)管325與第二藥液供應(yīng)部327連結(jié)。從第一藥液供應(yīng)部317和第二藥液供應(yīng)部327供應(yīng)的藥液可為不同種類的藥液。作為一個(gè)例子，從第一藥液供應(yīng)部317供應(yīng)的藥液可為有機(jī)溶劑，從第二藥液供應(yīng)部327供應(yīng)的藥液可為感光液。排氣流道330形成于第一流道310和第二流道320之間。排氣流道330通過排氣連結(jié)管335與減壓部件連結(jié)。作為一個(gè)例子，減壓部件371可通過泵形式提供。如果減壓部件371工作，則在基板s上產(chǎn)生的煙氣在被吸入排氣流道330之后，通過減壓部件371排出。抽引部件340可以附著于主體300的一個(gè)側(cè)面或者作為流道形成于主體300中。第一流道310位于抽引部件340和第二流道320之間。另外，第一流道310位于抽引部件340和排氣流道330之間。抽引部件340與減壓部件372連結(jié)。如果減壓部件372工作，則抽引部件340對(duì)從第一流道310噴出的藥液提供吸入壓力。因此，第一藥液一邊向抽引部件340這方被吸引一邊被噴出。第一流道310和第二流道320以向排氣流道330這方傾斜的方式形成。因此，第一流道310和第二流道320沿第二方向102隔離的距離在主體300的下部變窄，在向基板s涂敷第一藥液之后，減少涂敷第二藥液所需的時(shí)間。在支承臺(tái)41上具有接合部件60。接合部件60可以包括吸入部61。吸入部61形成于支承臺(tái)41的下面。吸入部61可以包括與減壓部件373連結(jié)的負(fù)壓部610。若減壓部件373工作而吸入負(fù)壓部610周圍的氣體，則在負(fù)壓部610處產(chǎn)生負(fù)壓，使以與負(fù)壓部610鄰接的方式設(shè)置的噴嘴單元30與支承臺(tái)41接合。另外，若減壓部件373停止，則噴嘴單元30從支承臺(tái)41分離。結(jié)合部件60可以進(jìn)一步地包括結(jié)合部630。結(jié)合部630設(shè)置于與支承臺(tái)41相接的噴嘴單元30的外表面。另外，吸入部61可以包括插入部620和負(fù)壓部610，該插入部620與結(jié)合部630的形狀相對(duì)應(yīng)。因此，若減壓部件373工作，則結(jié)合部630通過負(fù)壓而向插入部620插入。另外，負(fù)壓部610可以實(shí)施以使其起到插入部620的作用，從而負(fù)壓部610可以與插入部620可以一體形成。圖3為表示噴嘴單元向基板涂敷藥液的過程的圖。參照?qǐng)D3，基板s和噴嘴單元30的相對(duì)位置沿第二方向102變化，同時(shí)向基板s涂敷藥液。在基板s被夾持部件22支承之后，夾持部件22沿基板移送用軌道21移動(dòng)，同時(shí)能夠改變基板s和噴嘴單元30之間的相對(duì)位置。另外，垂直框架42沿導(dǎo)軌43移動(dòng)，同時(shí)能夠改變基板s與噴嘴單元30之間的相對(duì)位置。即，通過基板移送部件20或者噴嘴移送部件40改變基板s和噴嘴單元30之間的相對(duì)位置。因此，將基板移送部件20和噴嘴移送部件40稱為驅(qū)動(dòng)單元。以下，舉例說明基板s移動(dòng)的情況。但是，可以噴嘴單元30移動(dòng)或噴嘴單元30和基板s移動(dòng)，來同時(shí)向基板s涂敷藥液。根據(jù)一個(gè)例子，第一藥液318為有機(jī)溶劑，第二藥液328感光液。有機(jī)溶劑可為稀釋劑(Thinner)，感光液可為光刻膠。從氣體供應(yīng)孔11噴出氣體，在基板s漂浮的狀態(tài)下夾持部件22沿基板移送用軌道21向第二方向102移動(dòng)。此時(shí)，基板s在第一噴出部件處向第二噴出部件的一方移動(dòng)。噴嘴單元30在第一噴出部件開始工作后，控制使得第二噴出部件開始工作。因此，在向基板s上涂敷有機(jī)溶液之后涂敷光刻膠。另外，有機(jī)溶劑和光刻膠的涂敷可以從基板s的端部開始。圖4為表示通過第一噴出部件噴出第一藥液的狀態(tài)的圖。參照?qǐng)D3和圖4，在第一噴出部件的工作前或者工作的同時(shí)，抽引部件開始工作，第一藥液318可以在受到向抽引部件方向的吸入壓力的同時(shí)被噴出。因此，第一藥液318向基板s涂敷的地點(diǎn)被引導(dǎo)向抽引部件方向。并且，向涂敷有第一藥液318的基板s涂敷第二藥液328。圖5為表示基于另外的實(shí)施方式的噴嘴單元的截面的圖。參照?qǐng)D5，噴嘴單元30包括第一流道310、第二流道320以及排氣流道330。因此，噴嘴單元可以不提供抽引部件。圖6為表示基于另外的實(shí)施方式的噴嘴單元的截面的圖。參照?qǐng)D6，噴嘴單元30包括第一流道310和第二流道320。因此，噴嘴單元可以不提供抽引部件和排氣流道。圖7和圖8為表示基于另外的實(shí)施方式的噴嘴單元與支承臺(tái)結(jié)合的狀態(tài)的截面圖。參照?qǐng)D7和圖8，噴嘴單元30包括第一主體301和第二主體302。第一主體301和第二主體302沿第一方向101形成。第一噴出部件可以在第一主體301內(nèi)包括第一流道310。另外，第二噴出部件可以在第二主體302中包括第二流道320。噴嘴單元30能夠進(jìn)一步地包括抽引部件。抽引部件340可以附著于第一主體301的一個(gè)側(cè)面，或者在第一主體301中作為流道形成。抽引部件340位于第一主體301與第二主體302鄰接之處的反向。在第一主體301或第二主體302中可以形成排氣流道330。當(dāng)排氣流道330形成于第一主體301中時(shí)，在鄰接第二主體302的那側(cè)沿第一方向101形成該排氣流道330。另夕卜，當(dāng)排氣流道330形成于第二主體302中時(shí)，在鄰接第一主體301的那側(cè)沿第一方向101形成該排氣流道330。支承臺(tái)41可以包括第一支承臺(tái)410和第二支承臺(tái)420。第一支承臺(tái)410與第一主體301結(jié)合，第二支承臺(tái)420與第二主體302結(jié)合。第一支承臺(tái)410或第二支承臺(tái)420被設(shè)置為能夠在上下方向上移動(dòng)，從而第一主體301與第二主體302的下端的相對(duì)高度可以調(diào)節(jié)。另外，第一支承臺(tái)410或第二支承臺(tái)420可以向第二方向102移動(dòng)，第一主體301與第二主體302之間的間隔可以調(diào)節(jié)。圖9為表示基于另外的實(shí)施方式的噴嘴單元的截面圖。參照?qǐng)D9，在第一主體301內(nèi)提供第一流道310，在第二主體302內(nèi)提供第二流道320。另外，抽引部件340可以附著于第一主體301的一個(gè)側(cè)面，或者作為流道形成于在第一主體301。因此，噴嘴單元的那樣可以不提供排氣流道。圖10為表示基于另外的實(shí)施方式的噴嘴單元的截面圖。參照?qǐng)D10，在第一主體301內(nèi)提供第一流道310，第二主體302內(nèi)提供第二流道320。因此，噴嘴單元可以不提供排氣流道和抽引部件。
圖11為表示基于另外的實(shí)施方式的結(jié)合部件60的形態(tài)的圖。參照?qǐng)D11，結(jié)合部件60包括電磁鐵640。電磁鐵640可以設(shè)置于支承臺(tái)41下表面，并與電源641和開關(guān)642連結(jié)。在噴嘴單元30上可以在與支承臺(tái)41相接的面上設(shè)置金屬板650。因此,若啟動(dòng)開關(guān)642而將電源施加于電磁鐵640,則金屬板650附著于電磁鐵640，從而噴嘴單元30與支承臺(tái)41結(jié)合。另外，若關(guān)斷開關(guān)642而阻斷電源施加于電磁鐵640，則噴嘴單元30從支承臺(tái)41分離。以上詳細(xì)的說明不過是對(duì)本發(fā)明加以例示。另外，前述內(nèi)容為示出本發(fā)明的優(yōu)選的實(shí)施方式來進(jìn)行說明，本發(fā)明能夠在多種其他組合、變更以及環(huán)境下使用。即，在本說明書中揭示的發(fā)明的概念的范圍、與前述的揭示內(nèi)容均等的范圍和/或本領(lǐng)域的技術(shù)或知識(shí)的范圍內(nèi)能夠進(jìn)行變更或修改。前述的實(shí)施方式對(duì)實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的技術(shù)的想法的較好的狀態(tài)進(jìn)行了說明，在本發(fā)明的具體的適用領(lǐng)域和用途的情況下也能夠進(jìn)行多種變更。因此，以上發(fā)明的詳細(xì)的說明并非是要將本發(fā)明限制于所揭示的實(shí)施狀態(tài)。另外，必須要說明的是，附帶的權(quán)利要求書也包括其他的實(shí)施狀態(tài)。
權(quán)利要求
1.一種基板處理裝置，其特征在于，包括: 板，支承基板； 噴嘴單元，向被所述板支承的所述基板涂敷藥液； 驅(qū)動(dòng)單元，使所述基板或所述噴嘴單元移動(dòng)，以使置于所述板上的基板與所述噴嘴單元之間的相對(duì)位置改變； 所述噴嘴單元包括: 第一噴出部件，沿第一方向形成該第一噴出部件的橫方向，該第一噴出部件向所述基板噴出第一藥液； 第二噴出部件，沿第一方向形成該第二噴出部件的橫方向，該第二噴出部件向所述基板噴出第二藥液。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述噴嘴單元還包括:主體，沿所述第一方向形成該主體的橫方向； 所述第一噴出部件被提供作為形成于所述主體內(nèi)的第一流道； 第二噴出部件被提供作為形成于所述主體內(nèi)的第二流道。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述 的基板處理裝置，其特征在于， 在所述主體中還形成吸入從所述基板產(chǎn)生的煙氣的排氣流道。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述排氣流道形成于所述第一流道與所述第二流道之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于，所述第一流道和第二流道以下部向所述排氣流道一側(cè)傾斜的方式形成。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，還包括: 抽引部件，向從所述第一噴出部件噴出的所述第一藥液提供吸入壓力。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述抽引部件以在所述主體中包含其流道的方式形成并提供，所述第一流道位于所述流道和所述第二流道之間。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述第一流道和所述第二流道沿與所述第一方向相垂直的第二方向分離。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述驅(qū)動(dòng)單元包括:支承臺(tái)，所述支承臺(tái)與所述噴嘴單元結(jié)合； 垂直框架，設(shè)置于所述支承臺(tái)的兩側(cè)來支承所述支承臺(tái)； 導(dǎo)軌，以所述垂直框架能夠向與所述第一方向垂直的第二方向移動(dòng)的方式支承該垂直框架； 所述基板處理裝置還包括: 結(jié)合部件，所述結(jié)合部件使所述噴嘴單元以可拆裝的方式與所述支承臺(tái)結(jié)合。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板處理裝置，其特征在于，還包括: 噴嘴單元待機(jī)部，從所述支承臺(tái)分離的噴嘴單元置于該噴嘴單元待機(jī)部，所述噴嘴單元待機(jī)部配置于所述噴嘴單元移動(dòng)的路徑上。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述結(jié)合部件包括:吸入部，形成于所述支承臺(tái)的下表面，提供吸入壓力。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述結(jié)合部件還包括:結(jié)合部，設(shè)置于與所述支承臺(tái)相接的所述噴嘴單元的外表面，在所述噴嘴單元與所述支承臺(tái)結(jié)合時(shí)，所述結(jié)合部插入所述吸入部。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述噴嘴單元包括:第一主體，沿所述第一方向形成該第一主體的橫方向；第二主體，沿所述第一方向形成該第二主體的橫方向； 所述第一噴出部件被提供作為形成于所述第一主體內(nèi)的第一流道； 所述第二噴出部件被提供作為形成于所述第二主體內(nèi)的第二流道。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述噴嘴單元在所述第一主體或所述第二主體中還形成排氣流道，該排氣流道吸入在所述基板產(chǎn)生的煙氣。
15.根據(jù)權(quán)利要求1 所述的基板處理裝置，其特征在于， 在所述板上形成氣體供應(yīng)孔，該氣體供應(yīng)孔被設(shè)置為噴出氣體并使所述基板在漂浮狀態(tài)下被所述板所支承。
16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，所述第一藥液為有機(jī)溶劑，所述第二藥液為光刻膠。
17.一種基板處理方法，其特征在于，在利用權(quán)利要求1或權(quán)利要求2的基板處理裝置處理基板的方法中， 改變所述基板和所述噴嘴單元之間的相對(duì)位置，并通過第一噴出部件向所述基板噴出所述第一藥液，所述第二噴出部件向噴出的所述第一藥液的表面上噴出所述第二藥液。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的基板處理方法，其特征在于， 在所述第一噴出部件開始工作之后，所述第二噴出部件開始動(dòng)作。
19.根據(jù)權(quán)利要求17所述的基板處理方法，其特征在于， 在所述主體中還形成排氣流道，該排氣流道吸入從所述基板產(chǎn)生的煙氣， 使所述第一噴出部件和所述排氣流道共同工作，噴出所述第一藥液并吸入從所述基板產(chǎn)生的煙氣。
20.根據(jù)權(quán)利要求17所述的基板處理方法，其特征在于， 在所述板上形成氣體供應(yīng)孔，該氣體供應(yīng)孔被設(shè)置為噴出氣體并使所述基板在漂浮狀態(tài)下被所述板支承， 通過所述氣體供應(yīng)孔噴出所述氣體，在所述基板漂浮的狀態(tài)下，向所述基板噴出所述第一藥液和第二藥液。
21.一種噴嘴單元，其特征在于，包括: 主體，沿第一方向提供該主體的橫方向，該主體形成有: 第一流道，向基板噴出第一藥液，沿所述第一方向形成該第一流道的橫方向； 第二流道，向基板噴出第二藥液，沿所述第一方向形成該第二流道的橫方向； 所述第一流道和所述第二流道被形成為沿與所述第一方向垂直的第二方向相隔離。
22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的噴嘴單元，其特征在于， 在所述主體中還形成排氣流道，該排氣流道吸入從所述基板產(chǎn)生的煙氣。
23.根據(jù)權(quán)利要求22所述的噴嘴單元，其特征在于，所述排氣流道形成于所述第一流道和所述第二流道之間。
24.根據(jù)權(quán)利要求23所述的噴嘴單元，其特征在于，所述第一流道和所述第二流道以下部向所述排氣流道一側(cè)傾斜的方式形成。
25.根據(jù)權(quán)利要求21所述的噴嘴單元，其特征在于，還包括: 抽引部件，向從所述第一流道噴出的所述第一藥液提供吸入壓力。
26.根據(jù)權(quán)利要求25所述的噴嘴單元，其特征在于， 所述抽引部件被配置為:其流道位于所述主體，所述第一流道位于所述流道和所述第二流 道之間。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種噴嘴單元、基板處理裝置和基板處理方法，以節(jié)省光刻膠的消耗量。本發(fā)明的基板處理裝置包括板，支承基板；噴嘴單元，向被所述板支承的所述基板涂敷藥液；驅(qū)動(dòng)單元，使所述基板或所述噴嘴單元移動(dòng)，以使置于所述板上的基板與所述噴嘴單元之間的相對(duì)位置改變；所述噴嘴單元包括第一噴出部件，沿第一方向形成該第一噴出部件的橫方向，該第一噴出部件向所述基板噴出第一藥液；第二噴出部件，沿第一方向形成該第二噴出部件的橫方向，該第一噴出部件向所述基板噴出第二藥液。
文檔編號(hào)B05B13/02GK103084290SQ201210418788
公開日2013年5月8日 申請(qǐng)日期2012年10月26日 優(yōu)先權(quán)日2011年10月31日
發(fā)明者李俊鎬, 吳昌石 申請(qǐng)人:細(xì)美事有限公司