專利名稱：一種花灑的出水控制機(jī)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種花灑的出水控制機(jī)構(gòu)。
背景技術(shù)：
專利號為200610049163. 4的中國發(fā)明專利提供了一種可實(shí)現(xiàn)在花灑上實(shí)現(xiàn)不同 出水效果的淋浴噴頭(即花灑)的出水控制機(jī)構(gòu)，包括位于花灑頭內(nèi)的內(nèi)密封殼、活動密封 墊、壓簧、受控磁鐵，內(nèi)密封殼上具有內(nèi)凹的滑槽，受控磁鐵位于滑槽內(nèi)，活動密封墊固定在 受控磁鐵的上端，壓簧位于滑槽的底面和受控磁鐵之間，其通過主動磁鐵和受控磁鐵的相 互作用來實(shí)現(xiàn)出水的轉(zhuǎn)換。其還存在的缺點(diǎn)在于，受控磁鐵會被水浸漬，從而影響受控磁鐵 的壽命，一旦受控磁鐵受腐蝕后還會影響水質(zhì)。

發(fā)明內(nèi)容為了克服現(xiàn)有花灑的出水控制機(jī)構(gòu)的上述不足，本實(shí)用新型提供一種受控磁鐵受 到保護(hù)的花灑的出水控制機(jī)構(gòu)。本實(shí)用新型解決其技術(shù)問題的技術(shù)方案是一種花灑的出水控制機(jī)構(gòu)，包括位于 花灑頭內(nèi)的內(nèi)密封殼、活動密封墊、壓簧、受控磁鐵，所述內(nèi)密封殼上具有內(nèi)凹的滑槽，還包 括一活動閥芯，所述活動閥芯的下端設(shè)有內(nèi)凹嵌槽，所述的受控磁鐵嵌于所述的內(nèi)凹嵌槽 內(nèi)；所述活動閥芯的頭部設(shè)有一圈凸肩，所述的活動密封墊固定在所述凸肩的上端， 所述的活動閥芯上套設(shè)有密封圈；所述的活動閥芯位于所述的滑槽內(nèi)，所述滑槽的內(nèi)壁設(shè) 有一圈內(nèi)凸的墊肩，所述的密封圈靠在所述的墊肩上，所述的壓簧套設(shè)在所述的凸肩和密 封圈之間的活動閥芯上，該壓簧的上端頂在所述的凸肩上，該壓簧的下端壓在所述的密封 圈上。進(jìn)一步，所述凸肩的上端設(shè)有蘑菇狀的套件，所述的活動密封墊套設(shè)在所述的套 件上?；蛘咚鐾辜绲纳隙嗣嫔显O(shè)有插塊；還包括一連接片，所述的活動密封墊設(shè)于所述 連接片的上端面上，所述連接片的下端面上設(shè)有與所述的插塊適配的插口，所述的插塊插 入所述的插口內(nèi)。本實(shí)用新型的使用方法與原理與現(xiàn)有的花灑的出水控制機(jī)構(gòu)的使用方法及原理 相同。本實(shí)用新型的有益效果在于增設(shè)了活動閥芯，將受控磁鐵嵌于活動閥芯內(nèi)，并通 過密封圈來保持密封，使受控磁鐵免受水的浸漬而產(chǎn)生腐蝕。

圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式
對本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)說明。參照圖1，一種花灑的出水控制機(jī)構(gòu)，包括位于花灑頭內(nèi)的內(nèi)密封殼、活動密封墊 1、壓簧2、受控磁鐵3，所述內(nèi)密封殼上具有內(nèi)凹的滑槽4，還包括一活動閥芯5，所述活動閥 芯5的下端設(shè)有內(nèi)凹嵌槽，所述的受控磁鐵3嵌于所述的內(nèi)凹嵌槽內(nèi)；所述活動閥芯5的頭部設(shè)有一圈凸肩6，所述的活動密封墊1固定在所述凸肩6的 上端，本實(shí)施例中，活動密封墊1與凸肩6的具體連接方式為所述凸肩6的上端面上設(shè)有 插塊8 ；還包括一連接片9，所述的活動密封墊1設(shè)于所述連接片9的上端面上，所述連接片 9的下端面上設(shè)有與所述的插塊9適配的插口 10，所述的插塊8插入所述的插口 10內(nèi)。當(dāng) 然活動密封墊1與凸肩6的具體連接方式也可采用其他形式，如所述凸肩6的上端設(shè)有蘑 菇狀的套件，所述的活動密封墊1套設(shè)在所述的套件上。所述的活動閥芯5上套設(shè)有密封圈7。該活動閥芯5位于所述的滑槽4內(nèi)，所述滑 槽4的內(nèi)壁設(shè)有一圈內(nèi)凸的墊肩，所述的密封圈7靠在所述的墊肩上，所述的壓簧2套設(shè)在 所述的凸肩6和密封圈7之間的活動閥芯上，該壓簧2的上端頂在所述的凸肩6上，該壓簧 2的下端壓在所述的密封圈7上。本實(shí)用新型的使用方法與原理與現(xiàn)有的花灑的出水控制機(jī)構(gòu)的使用方法及原理 相同，在此不再贅述。本實(shí)用新型增設(shè)了活動閥芯5，將受控磁鐵3嵌于活動閥芯5內(nèi)，并通過密封圈7 來保持密封，使受控磁鐵3免受水的浸漬而產(chǎn)生腐蝕。
權(quán)利要求1.一種花灑的出水控制機(jī)構(gòu)，包括位于花灑頭內(nèi)的內(nèi)密封殼、活動密封墊、壓簧、受控 磁鐵，所述內(nèi)密封殼上具有內(nèi)凹的滑槽，其特征在于還包括一活動閥芯，所述活動閥芯的 下端設(shè)有內(nèi)凹嵌槽，所述的受控磁鐵嵌于所述的內(nèi)凹嵌槽內(nèi)；所述活動閥芯的頭部設(shè)有一圈凸肩，所述的活動密封墊固定在所述凸肩的上端，所述 的活動閥芯上套設(shè)有密封圈；所述的活動閥芯位于所述的滑槽內(nèi)，所述滑槽的內(nèi)壁設(shè)有一 圈內(nèi)凸的墊肩，所述的密封圈靠在所述的墊肩上，所述的壓簧套設(shè)在所述的凸肩和密封圈 之間的活動閥芯上，該壓簧的上端頂在所述的凸肩上，該壓簧的下端壓在所述的密封圈上。
2.如權(quán)利要求1所述的花灑的出水控制機(jī)構(gòu)，其特征在于所述凸肩的上端設(shè)有套件， 所述的活動密封墊套設(shè)在所述的套件上。
3.如權(quán)利要求1所述的花灑的出水控制機(jī)構(gòu)，其特征在于所述凸肩的上端面上設(shè)有 插塊；還包括一連接片，所述的活動密封墊設(shè)于所述連接片的上端面上，所述連接片的下端 面上設(shè)有與所述的插塊適配的插口，所述的插塊插入所述的插口內(nèi)。
專利摘要一種花灑的出水控制機(jī)構(gòu)，包括位于花灑頭內(nèi)的內(nèi)密封殼、活動密封墊、壓簧、受控磁鐵，內(nèi)密封殼上具有內(nèi)凹的滑槽，還包括一活動閥芯，活動閥芯的下端設(shè)有內(nèi)凹嵌槽，受控磁鐵嵌于內(nèi)凹嵌槽內(nèi)；活動閥芯的頭部設(shè)有一圈凸肩，活動密封墊固定在凸肩的上端，活動閥芯上套設(shè)有密封圈；活動閥芯位于滑槽內(nèi)，滑槽的內(nèi)壁設(shè)有一圈內(nèi)凸的墊肩，密封圈靠在墊肩上，壓簧套設(shè)在凸肩和密封圈之間的活動閥芯上，該壓簧的上端頂在凸肩上，該壓簧的下端壓在密封圈上。增設(shè)了活動閥芯，將受控磁鐵嵌于活動閥芯內(nèi)，并通過密封圈來保持密封，使受控磁鐵免受水的浸漬而產(chǎn)生腐蝕。
文檔編號B05B1/30GK201848331SQ20102057607
公開日2011年6月1日 申請日期2010年10月26日 優(yōu)先權(quán)日2010年10月26日
發(fā)明者鮑耐清 申請人:鮑耐清